專利名稱：層疊體、帶有支撐板的顯示裝置用面板、顯示裝置用面板以及顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及層疊體、帶有支撐板的顯示裝置用面板、顯示裝置用面板以及顯示裝置。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，太陽(yáng)能電池(PV)、液晶顯示器(IXD)、有機(jī)EL顯示器(OLED)等設(shè)備(電子設(shè)備)正在進(jìn)行薄型化、輕量化，這些設(shè)備中使用的基板也在進(jìn)行薄板化。若因薄板化而導(dǎo)致基板的強(qiáng)度不足，則在設(shè)備的制造工序中，基板的操作性會(huì)降低。因此，一直以來(lái)廣泛采用以下方法:在比最終厚度更厚的基板上形成設(shè)備用部件(例如，薄膜晶體管)后，通過(guò)化學(xué)蝕刻處理而使基板薄板化。然而，在該方法中，例如，在將I張基板的厚度從0.7mm薄板化至0.2mm、0.1mm的情況下,原基板的材料的多半會(huì)被蝕刻液削去，因此從生產(chǎn)率、原材料的使用效率這樣的觀點(diǎn)出發(fā)是不優(yōu)選的。另外，在上述基于化學(xué)蝕刻的基板的薄板化方法中，基板表面存在微細(xì)的傷痕時(shí)，有時(shí)會(huì)因蝕刻處理而以傷痕為起點(diǎn)形成微細(xì)的凹坑(蝕刻坑，etch pit)，從而成為光學(xué)缺陷。最近，為了應(yīng)對(duì)上述問(wèn)題而提出了以下方法:準(zhǔn)備層疊有基板和增強(qiáng)板的層疊體，在層疊體的基板上形成設(shè)備用部件后，從基板剝離增強(qiáng)板(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。增強(qiáng)板具有玻璃板和固定在該玻璃板上的樹(shù)脂層，樹(shù)脂層和基板以能夠剝離的方式緊密貼合。增強(qiáng)板從基板被剝離后，能夠與新的基板層疊并作為層疊體而再利用。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:國(guó)際公開(kāi)第07/018028號(hào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問(wèn)題然而，對(duì)于上述現(xiàn)有的構(gòu)成的層疊體而言，將增強(qiáng)板從基板剝離時(shí)，有時(shí)樹(shù)脂層的一部分會(huì)附著于作為制品側(cè)的基板。尤其是在高溫條件下對(duì)層疊體進(jìn)行加熱處理后，頻繁地發(fā)生樹(shù)脂層的一部分附著于作為制品側(cè)的基板的情況?？梢哉J(rèn)為這是由于高溫條件下樹(shù)脂層劣化或者樹(shù)脂層與基板的緊密貼合強(qiáng)度上升的緣故。因此，在施加高溫處理的設(shè)備制造中應(yīng)用上述層疊體時(shí)，樹(shù)脂層的一部分會(huì)附著于基板，結(jié)果有可能導(dǎo)致成品率的降低。進(jìn)而，將基板從上述層疊體剝離后，雜質(zhì)、灰塵等容易附著于基板表面，若使用這樣的基板制造設(shè)備，則有設(shè)備產(chǎn)生故障等的擔(dān)心?？梢哉J(rèn)為，這樣的雜質(zhì)、灰塵的附著是由于剝離帶電而產(chǎn)生的。本發(fā)明是鑒于上述課題而進(jìn)行的，其目的在于，提供一種層疊體，該層疊體即使在施加了高溫加熱處理之后，也能夠抑制在剝離樹(shù)脂層和基板時(shí)樹(shù)脂層的一部分附著于作為制品側(cè)的基板、且能夠抑制被剝離的基板表面上的剝離帶電。進(jìn)而，本發(fā)明的目的在于，提供包含該層疊體的帶有支撐板的顯示裝置用面板、使用帶有支撐板的顯示裝置用面板形成的顯示裝置用面板以及顯示裝置。用于解決問(wèn)題的方案本發(fā)明人為了解決上述問(wèn)題而反復(fù)進(jìn)行了深入研究，從而完成了本發(fā)明。S卩，為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的第一方式為一種層疊體，其依次具備:支撐板、樹(shù)脂層以及帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板，在該基板的表面上具有導(dǎo)電性金屬氧化物膜，所述導(dǎo)電性金屬氧化物膜包含選自由銦、錫、鋅、鈦以及鎵組成的組中的至少一種金屬的氧化物，前述帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板以前述導(dǎo)電性金屬氧化物膜與前述樹(shù)脂層能夠剝離地緊密貼合的方式配置在前述樹(shù)脂層上，前述樹(shù)脂層與前述支撐板之間的剝離強(qiáng)度高于前述樹(shù)脂層與前述帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板之間的剝離強(qiáng)度。第一方式中，前述氧化物中優(yōu)選還包含選自由鋁、鑰、銅、釩、鈮、鉭、硼以及氟組成的組中的至少一種元素。另外，第一方式中，前述樹(shù)脂層優(yōu)選為有機(jī)硅樹(shù)脂層。另外，前述樹(shù)脂層優(yōu)選由有機(jī)烯基聚硅氧烷和有機(jī)氫聚硅氧烷的加成反應(yīng)型固化物形成。進(jìn)而，前述有機(jī)氫聚娃氧燒的鍵合于娃原子的氫原子相對(duì)于前述有機(jī)烯基聚娃氧烷的烯基的摩爾比優(yōu)選為0.5 2。本發(fā)明的第二方式是一種帶有支撐板的顯示裝置用面板，其具有:第一方式的層疊體、以及顯示裝置用面板的構(gòu)成部件，其中，所述構(gòu)成部件設(shè)置于前述層疊體中的前述帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板的、與前述樹(shù)脂層緊密貼合的表面的相反側(cè)的表面上。本發(fā)明的第三方式是一種顯示裝置用面板，其是使用第二方式的帶有支撐板的顯示裝置用面板而形成的。本發(fā)明的第四方式是一種顯示裝置，其具有第三方式的顯示裝置用面板。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種層疊體，該層疊體即使在施加了高溫加熱處理之后，也能夠抑制在剝離樹(shù)脂層和基板時(shí)樹(shù)脂層的一部分附著于作為制品側(cè)的基板、且能夠抑制被剝離的基板表面上的剝離帶電。進(jìn)而，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供包含該層疊體的帶有支撐板的顯示裝置用面板、使用帶有支撐板的顯示裝置用面板形成的顯示裝置用面板以及顯示裝置。


圖1是本發(fā)明所述的層疊體的一個(gè)實(shí)施方式的示意性剖面圖。圖2是本發(fā)明所述的帶有支撐板的顯示裝置用面板的一個(gè)實(shí)施方式的示意性剖面圖。
具體實(shí)施例方式以下，參照附圖對(duì)用于實(shí)施本發(fā)明的方式進(jìn)行說(shuō)明，但本發(fā)明不限定于以下的實(shí)施方式，可以在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下對(duì)以下的實(shí)施方式施加各種變形和置換。需要說(shuō)明的是，本發(fā)明中，將樹(shù)脂層固定于支撐板是指:使樹(shù)脂層與支撐板以它們之間的剝離強(qiáng)度高于樹(shù)脂層與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板之間的剝離強(qiáng)度的方式進(jìn)行結(jié)合。圖1是本發(fā)明的層疊體的一例的示意性剖面圖。如圖1所示那樣，層疊體10是存在帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24、支撐板31以及位于它們之間的樹(shù)脂層32的層疊體。帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24具備基板20和設(shè)置在基板20的表面上的導(dǎo)電性金屬氧化物膜22。帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24以導(dǎo)電性金屬氧化物膜22與樹(shù)脂層32能夠剝離地緊密貼合的方式設(shè)置在樹(shù)脂層32上。另外，樹(shù)脂層32固定在支撐板31上，并且以能夠剝離的方式緊密貼合于帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的導(dǎo)電性金屬氧化物膜22。由支撐板31和樹(shù)脂層32形成的增強(qiáng)板30在制造液晶顯示器等設(shè)備(電子設(shè)備)的工序中，對(duì)帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24進(jìn)行增強(qiáng)。使用該層疊體10直至設(shè)備的制造工序的過(guò)程中為止。即，使用該層疊體10直至在帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的、與樹(shù)脂層32為相反側(cè)的表面上形成薄膜晶體管等設(shè)備用部件為止。其后，增強(qiáng)板30從帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24剝離，不會(huì)成為構(gòu)成設(shè)備的部件。從帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24剝離的增強(qiáng)板30可以與新的帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24層疊并作為層疊體10再利用。本發(fā)明中發(fā)現(xiàn):通過(guò)將帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24以導(dǎo)電性金屬氧化物膜22與樹(shù)脂層32接觸的方式設(shè)置在樹(shù)脂層32上，可以得到所希望的效果。以下，針對(duì)各構(gòu)成(帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板、支撐板、樹(shù)脂層)進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。<帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板>首先，針對(duì)帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24進(jìn)行說(shuō)明。帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24具備基板20和設(shè)置在基板20的表面上的導(dǎo)電性金屬氧化物膜22。導(dǎo)電性金屬氧化物膜22以與后述的樹(shù)脂層32能夠剝離地緊密貼合的方式配置在帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24中的最表面上。以下，針對(duì)基板20和導(dǎo)電性金屬氧化物膜22進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。(基板)基板20在樹(shù)脂層32側(cè)的第I主面201具備導(dǎo)電性金屬氧化物膜22，在與樹(shù)脂層32為相反側(cè)的第2主面202形成有設(shè)備用部件，從而構(gòu)成設(shè)備。此處，設(shè)備用部件是指如后述的顯示裝置用面板的構(gòu)成部件那樣地構(gòu)成設(shè)備的至少一部分的部件。作為具體例子，可列舉出薄膜晶體管(TFT)、彩色濾光片(CF)。作為設(shè)備，可例示出太陽(yáng)能電池(PV)、液晶顯示器(IXD)、有機(jī)EL顯示器(OLED)等。基板20的種類為普通類型即可，例如，可以是硅晶圓、玻璃基板、樹(shù)脂基板、SUS基板、銅基板等金屬基板。在這些之中，優(yōu)選玻璃基板。這是因?yàn)椴ＡЩ宓哪突瘜W(xué)藥品性、耐透濕性優(yōu)異，且熱收縮率低。作為熱收縮率的指標(biāo)，可以使用Jis R3102(1995年修訂)中規(guī)定的線膨脹系數(shù)。
基板20的線膨脹系數(shù)大時(shí)，設(shè)備的制造工序大多伴隨加熱處理，因此容易產(chǎn)生各種不便。例如，在基板20上形成TFT的情況下，若將在加熱下形成有TFT的基板20冷卻，則有因基板20的熱收縮而導(dǎo)致TFT的位置偏移變得過(guò)大的擔(dān)心。玻璃基板通過(guò)將玻璃原料熔融并將熔融玻璃成形為板狀而得到。這種成形方法可以為一般的成形方法，例如可以使用浮法、熔融法、狹縫下拉法、富柯?tīng)柼胤?fourcaultprocess)、機(jī)械吹筒法(Labbers process)等。另外,尤其是厚度薄的玻璃基板可利用如下的方法(平拉法)成形而得到:將暫時(shí)成形為板狀的玻璃加熱至可成形的溫度、并通過(guò)延伸等方法拉伸薄化。玻璃基板的玻璃沒(méi)有特別限定，優(yōu)選為無(wú)堿玻璃、硼硅酸玻璃、鈣鈉玻璃、高硅氧玻璃、其它以氧化硅作為主要成分的氧化物系玻璃。作為氧化物系玻璃，優(yōu)選基于氧化物換算的氧化硅的含量為40 90質(zhì)量％的玻璃。作為玻璃基板的玻璃，采用適合于設(shè)備的種類及其制造工序的玻璃。例如，由于堿金屬成分的溶出容易對(duì)液晶造成影響，因此液晶顯示器用的玻璃基板由實(shí)際上不含堿金屬成分的玻璃(無(wú)堿玻璃)形成。像這樣，玻璃基板的玻璃根據(jù)所應(yīng)用的設(shè)備的種類及其制造工序來(lái)適當(dāng)選擇。玻璃基板的厚度沒(méi)有特別限定，從玻璃基板的薄型化和/或輕量化的觀點(diǎn)出發(fā)，通常低于0.8mm,優(yōu)選為0.3mm以下,進(jìn)一步優(yōu)選為0.15mm以下。玻璃基板的厚度為0.8mm以上時(shí)，不能滿足玻璃基板的薄型化和/或輕量化的要求。而為0.3mm以下時(shí)，能夠?qū)ΣＡЩ遒x予良好的撓性。為0.15mm以下時(shí)，能夠?qū)⒉ＡЩ寰砣〕删硗矤?。另外，從容易制造玻璃基板、容易操作玻璃基板等理由出發(fā)，玻璃基板的厚度優(yōu)選為0.03mm以上。樹(shù)脂基板的樹(shù)脂的種類沒(méi)有特別限定。具體而言，可例示出聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯樹(shù)脂、聚碳酸酯樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂、氟樹(shù)脂、聚酰胺樹(shù)脂、聚芳酰胺樹(shù)脂(polyaramidresin)、聚醚砜樹(shù)脂、聚醚酮樹(shù)脂、聚醚醚酮樹(shù)脂、聚萘二甲酸乙二醇酯樹(shù)脂、聚丙烯酸類樹(shù)月旨、各種液晶聚合物樹(shù)脂、環(huán)烯烴樹(shù)脂、有機(jī)硅樹(shù)脂等。需要說(shuō)明的是，樹(shù)脂基板既可以透明，也可以不透明。另外，樹(shù)脂基板也可以是在表面形成有保護(hù)層等功能層的樹(shù)脂基板。樹(shù)脂基板的厚度沒(méi)有特別限定，從薄型化和/或輕量化的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為0.7mm以下，更優(yōu)選為0.3mm以下，特別優(yōu)選為0.1mm以下。另外，從處理性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為
1.0 μ m以上。需要說(shuō)明的是，基板20可以由2層以上形成，該情況下，用于形成各個(gè)層的材料可以是同種材料，也可以是不同種材料。另外，此時(shí)，“基板20的厚度”是指所有層的總厚度。(導(dǎo)電性金屬氧化物膜)導(dǎo)電性金屬氧化物膜22包含選自由銦、錫、鋅、鈦以及鎵組成的組中的至少一種金屬的氧化物。例如，在基板20為無(wú)堿玻璃基板的情況下，與該無(wú)堿玻璃基板的表面上存在的鎂、鈣、鋇等堿土金屬成分相比，導(dǎo)電性金屬氧化物膜22中所含的上述堿土金屬成分的電負(fù)性小。因此，與使無(wú)堿玻璃基板與樹(shù)脂層32直接接觸并暴露在高溫條件下的情況相比，即使將本發(fā)明的層疊體10暴露在高溫條件下，導(dǎo)電性金屬氧化物膜22與樹(shù)脂層32之間也基本不會(huì)因上述堿土金屬成分的脫離而進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)。其結(jié)果，能夠剝離帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24而不會(huì)發(fā)生由重剝離化導(dǎo)致樹(shù)脂層32附著于帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24上的情況。此處，重剝離化是指:導(dǎo)電性金屬氧化物膜22與樹(shù)脂層32的緊密貼合強(qiáng)度變得比支撐板31的表面與樹(shù)脂層32的緊密貼合強(qiáng)度、以及樹(shù)脂層32的(塊體，bulk)強(qiáng)度中的任一者都大。進(jìn)而，該導(dǎo)電性金屬氧化物膜22顯示優(yōu)異的導(dǎo)電性。因此，能夠抑制要?jiǎng)冸x的帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24表面上的剝離帶電。另外，若組合使用電離器或噴霧水，則可以進(jìn)一步抑制剝離帶電?；蛘撸瑴p輕電離器或噴霧水的負(fù)荷也可以得到與以往相同的抑制剝離帶電的效果。導(dǎo)電性金屬氧化物膜22包含選自由銦、錫、鋅、鈦以及鎵組成的組中的至少一種金屬的氧化物。即，導(dǎo)電性金屬氧化物膜22含有由上述金屬元素和氧元素構(gòu)成的金屬氧化物。具體而言,可列舉出氧化鈦(TiO2)、氧化銦(In2O3)、氧化錫(SnO2)、氧化鋅(ZnO)、氧化鎵(Ga2O3)等。另外，導(dǎo)電性金屬氧化物膜22還可以含有包含2種以上上述列舉的金屬的氧化物。具體而言，可列舉出氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅錫(ZTO)、鎵摻雜氧化鋅(GZO)等。上述氧化物中也可以進(jìn)一步含有選自由鋁、鑰、銅、釩、鈮、鉭、硼以及氟組成的組中的至少一種元素。該元素發(fā)揮所謂的摻雜劑的作用。作為含有該元素的上述金屬的氧化物，例如，可列舉出鋁摻雜氧化鋅(AZO)、鑰摻雜氧化銦(頂0)、銀摻雜氧化鈦、鉭摻雜氧化鈦、銀摻雜氧化錫、氟摻雜氧化錫(FTO)、硼摻雜氧化鋅(BZO)、鋁.銅摻雜氧化鋅、鋁.釩摻雜氧化鋅、鈮.鉭摻雜氧化錫等。其中，從帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板與樹(shù)脂層的剝離性更優(yōu)異、并且導(dǎo)電性更優(yōu)異的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、鋁摻雜氧化鋅(AZO)、鎵摻雜氧化鋅(GZO)、氟摻雜氧化錫(FTO)、鈮摻雜氧化鈦，更優(yōu)選為氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氟摻雜氧化錫(FTO)。導(dǎo)電性金屬氧化物膜22優(yōu)選包含上述金屬的氧化物作為主成分，具體而言，上述金屬的氧化物的含量相對(duì)于導(dǎo)電性金屬氧化物膜的總量，優(yōu)選為98質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為99質(zhì)量％以上，特別優(yōu)選為99.999質(zhì)量％以上。導(dǎo)電性金屬氧化物膜22中，在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，也可以包含其它金屬的氧化物。另外，導(dǎo)電性金屬氧化物膜22中，在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，還可以包含除金屬的氧化物以外的成分(例如，金屬)。導(dǎo)電性金屬氧化物膜22的厚度沒(méi)有特別限定，從進(jìn)一步抑制因重剝離化而導(dǎo)致樹(shù)脂層32附著于帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24、且維持耐擦傷性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為5 5000nm,更優(yōu)選為10 500nm。包含上述規(guī)定的金屬的氧化物的導(dǎo)電性金屬氧化物膜22顯示優(yōu)異的導(dǎo)電性。更具體而言，從能夠進(jìn)一步抑制剝離的基板表面上的剝離帶電的觀點(diǎn)出發(fā)，導(dǎo)電性金屬氧化物膜22的薄層電阻值優(yōu)選為0.1 1000 Ω / 口，更優(yōu)選為I 500 Ω / 口。需要說(shuō)明的是，測(cè)定方法采用公知的方法(例如，JIS R1637(1998年制定)中規(guī)定的四探針電阻測(cè)定法)。存在于導(dǎo)電性金屬氧化物膜22與樹(shù)脂層32接觸的表面221的極性基團(tuán)的密度是否合適可以通過(guò)在緊密貼合前測(cè)定表面221的水接觸角來(lái)判斷。通常而言，有存在于表面的親水性等的極性基團(tuán)的密度越高、則水接觸角越小的傾向。此處，水接觸角是指JISR3257 (1999年制定)中規(guī)定的接觸角。從能夠進(jìn)一步抑制因重剝離化而導(dǎo)致樹(shù)脂層32附著于帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的觀點(diǎn)出發(fā)，導(dǎo)電性金屬氧化物膜22的表面221的緊密貼合前的水接觸角優(yōu)選為20°以上，更優(yōu)選為30 90°，進(jìn)一步優(yōu)選為40 70°。導(dǎo)電性金屬氧化物膜22的與樹(shù)脂層32接觸側(cè)的表面221也可以預(yù)先形成微細(xì)的凹凸結(jié)構(gòu)。此時(shí)，凹凸結(jié)構(gòu)的程度優(yōu)選處于以下范圍:不會(huì)由于導(dǎo)電性金屬氧化物膜22的表面221與樹(shù)脂層32的緊密貼合面321的因錨固效果導(dǎo)致的重剝離化而導(dǎo)致樹(shù)脂層32過(guò)度附著于帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的范圍。需要說(shuō)明的是，導(dǎo)電性金屬氧化物膜22的表面221的表面粗糙度(Ra)優(yōu)選為0.1 50nm，更優(yōu)選為0.5 5nm。Ra通過(guò)JIS B0601 (2001年修訂)進(jìn)行測(cè)定。若考慮將帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24用于設(shè)備用途的觀點(diǎn)，則導(dǎo)電性金屬氧化物膜22優(yōu)選為透明。具體而言，波長(zhǎng)380 780nm下的透過(guò)率、即帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的可見(jiàn)光透過(guò)率優(yōu)選為70%以上，更優(yōu)選為80%以上。導(dǎo)電性金屬氧化物膜22在圖1中記載為單層，但也可以是2層以上的層疊。例如，導(dǎo)電性金屬氧化物膜為2層時(shí)，設(shè)置與基板20接觸的第I導(dǎo)電性金屬氧化物膜和設(shè)置于第I導(dǎo)電性金屬氧化物膜的第2導(dǎo)電性金屬氧化物層。導(dǎo)電性金屬氧化物膜為2層時(shí)，第I導(dǎo)電性金屬氧化物膜與第2導(dǎo)電性金屬氧化物膜的成分可以不同。導(dǎo)電性金屬氧化物膜22在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，可以在基板20表面上局部設(shè)置。例如，導(dǎo)電性金屬氧化物膜22可以在基板20表面上設(shè)置為島狀、條紋狀。更具體而言，從進(jìn)一步抑制由重剝離化而導(dǎo)致樹(shù)脂層32附著于帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的觀點(diǎn)出發(fā)，導(dǎo)電性金屬氧化物膜22在基板20表面上的覆蓋率優(yōu)選為50 100%，更優(yōu)選為75 100%。(導(dǎo)電性金屬氧化物膜的制造方法)導(dǎo)電性金屬氧化物膜22的制造方法沒(méi)有特別限定，可以采用公知的方法。例如，可列舉出通過(guò)蒸鍍法或?yàn)R射法在基板20上設(shè)置規(guī)定的金屬氧化物的方法。制造條件根據(jù)要使用的金屬的氧化物來(lái)適宜選擇最佳條件。帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24具備上述的基板20和導(dǎo)電性金屬氧化物膜22，在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，也可以在基板20和導(dǎo)電性金屬氧化物膜22之間具有其它部件。作為其它部件，例如，可列舉出防止堿離子從基板20向?qū)щ娦越饘傺趸锬?2擴(kuò)散的堿阻隔層、使導(dǎo)電性金屬氧化物膜22的表面平坦化的平坦化層等?！粗伟濉抵伟?1和樹(shù)脂層32共同作用，支撐增強(qiáng)帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24，在設(shè)備的制造工序中，防止帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的變形、損傷、破損等。另外，使用厚度比以往更薄的帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24時(shí)，通過(guò)制成與以往基板具有相同厚度的層疊體10，在設(shè)備的制造工序中，能夠使用適合于以往厚度的基板的制造技術(shù)、制造設(shè)備，這也是使用支撐板31的目的之一。
作為支撐板31，例如可以使用玻璃板、樹(shù)脂板、SUS板等金屬板等。在設(shè)備的制造工序伴隨熱處理的情況下，支撐板31優(yōu)選用與基板20的線膨脹系數(shù)之差小的材料形成，更優(yōu)選用與基板20相同的材料形成。基板20為玻璃基板時(shí)，支撐板31優(yōu)選為玻璃板。支撐板31特別優(yōu)選為由與基板20的玻璃基板相同的玻璃材料形成的玻璃板。支撐板31的厚度可以比基板20厚，也可以比其薄。優(yōu)選的是，基于帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的厚度、樹(shù)脂層32的厚度以及層疊體10的厚度來(lái)選擇支撐板31的厚度。例如，現(xiàn)行的設(shè)備制造工序是以處理厚度為0.5mm的基板的方式而設(shè)計(jì)的，帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的厚度與樹(shù)脂層32的厚度之和為0.1mm時(shí)，使支撐板31的厚度為0.4mm。支撐板31的厚度在通常情況下優(yōu)選為0.2 5.0mm。支撐板31為玻璃板時(shí)，玻璃板的厚度從容易處理、不易破碎等理由出發(fā)，優(yōu)選為
0.08mm以上。另外，從期望在形成設(shè)備用部件后剝離時(shí)有適度撓曲而不會(huì)破裂這樣的剛性的理由出發(fā)，玻璃板的厚度優(yōu)選為1.0_以下?；?0與支撐板31在25 300°C下的平均線膨脹系數(shù)(以下簡(jiǎn)稱為“平均線膨脹系數(shù)”)之差優(yōu)選為500X10_7/°C以下，更優(yōu)選為300X10_7/°C以下，進(jìn)一步優(yōu)選為200X10_7/°C以下。差過(guò)大時(shí)，在設(shè)備的制造工序中進(jìn)行加熱冷卻時(shí)，層疊體10有可能劇烈翹曲，或者帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24與增強(qiáng)板30可能會(huì)剝離。基板20的材料與支撐板31的材料相同時(shí)，可以抑制這種問(wèn)題的產(chǎn)生?！礃?shù)脂層〉樹(shù)脂層32固定在支撐板31上，另外，與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24以能夠剝離的方式緊密貼合。樹(shù)脂層32防止帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的位置偏移直至進(jìn)行剝離操作，并且通過(guò)剝離操作而容易地從帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24上剝離，防止帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24等由于剝離操作而破損。樹(shù)脂層32的尺寸沒(méi)有特別限定。樹(shù)脂層32的尺寸可以比基板20、支撐板31大，也可以比其小。優(yōu)選的是，樹(shù)脂層32的與導(dǎo)電性金屬氧化物膜22接觸的表面321 (以下，也稱為“緊密貼合面321”)通過(guò)起因于固體分子間的范德華力的力而貼附于導(dǎo)電性金屬氧化物膜22的表面221，而不是通過(guò)通常的粘合劑所具有的粘合力。這是因?yàn)槟軌蛉菀椎貏冸x帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24。本發(fā)明中，將該樹(shù)脂層表面的能夠容易地剝離的性質(zhì)稱為剝離性。另一方面，樹(shù)脂層32對(duì)支撐板31的表面的結(jié)合力相對(duì)地高于樹(shù)脂層32對(duì)帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的表面(相當(dāng)于導(dǎo)電性金屬氧化物膜22的表面221)的結(jié)合力。因此，樹(shù)脂層32與支撐板31之間的剝離強(qiáng)度也高于樹(shù)脂層32與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24之間的剝離強(qiáng)度。本發(fā)明中，將樹(shù)脂層表面對(duì)基板表面的結(jié)合稱為緊密貼合，將對(duì)樹(shù)脂層表面和支撐板表面的結(jié)合稱為固定。樹(shù)脂層32和支撐板31之間優(yōu)選通過(guò)粘合力、粘接力而結(jié)合。但并不限于此，只要相對(duì)地高于樹(shù)脂層32對(duì)帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的結(jié)合力 ，則樹(shù)脂層32與支撐板31之間也可以通過(guò)上述起因于范德華力的力來(lái)貼附。樹(shù)脂層32的厚度沒(méi)有特別限定，優(yōu)選為I 100 μ m,更優(yōu)選為5 30 μ m，進(jìn)一步優(yōu)選為7 20 μ m。這是因?yàn)?，?shù)脂層32的厚度處于這樣的范圍時(shí)，樹(shù)脂層32與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的緊密貼合變得充分。另外，還因?yàn)?，即使?shù)脂層32與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24之間夾雜有氣泡、異物，也可以抑制帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24發(fā)生變形缺陷。另外，樹(shù)脂層32的厚度過(guò)厚時(shí)，為了形成樹(shù)脂層32而需要時(shí)間和原料，因而是不經(jīng)濟(jì)的。需要說(shuō)明的是，樹(shù)脂層32可以由2層以上形成。此時(shí)，“樹(shù)脂層32的厚度”是指所有層的總厚度。另外，樹(shù)脂層32由2層以上形成時(shí)，形成各層的樹(shù)脂的種類可以不同。樹(shù)脂層32優(yōu)選由玻璃化轉(zhuǎn)變溫度低于室溫(25°C左右)或不具有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的材料形成。這是因?yàn)闀?huì)成為非粘合性的樹(shù)脂層，能夠更容易地與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24剝離，同時(shí)與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的緊密貼合也變得充分。另外，由于在設(shè)備的制造工序中大多進(jìn)行加熱處理，因此樹(shù)脂層32優(yōu)選具有耐熱性。另外，樹(shù)脂層32的彈性模量過(guò)高時(shí)，存在與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的緊密貼合性變低的傾向。另一方面，樹(shù)脂層32的彈性模量過(guò)低時(shí)，剝離性變低。對(duì)形成樹(shù)脂層32的樹(shù)脂的種類沒(méi)有特別限定。例如，可列舉出丙烯酸類樹(shù)脂、聚烯烴樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂或有機(jī)硅樹(shù)脂。也可以將幾種樹(shù)脂混合使用。其中，優(yōu)選有機(jī)硅樹(shù)脂。這是因?yàn)橛袡C(jī)硅樹(shù)脂的耐熱性、剝離性優(yōu)異。另外還因?yàn)?，支撐?1為玻璃板時(shí)，通過(guò)與玻璃板表面的娃醇基之間的縮合反應(yīng)而容易固定于玻璃板。在有機(jī)娃樹(shù)脂層介設(shè)于支撐板31和帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24之間的狀態(tài)下，即使是在例如大氣中以200°C左右處理大約I小時(shí)，剝離性也幾乎不會(huì)劣化，從這一點(diǎn)來(lái)看也是優(yōu)選的。樹(shù)脂層32優(yōu)選由有機(jī)硅樹(shù)脂中用于剝離紙用途的有機(jī)硅樹(shù)脂(固化物)形成。使形成剝離紙用有機(jī)硅樹(shù)脂的固化性樹(shù)脂組合物在支撐板31的表面固化而形成的樹(shù)脂層32具有優(yōu)異的剝離性，因而優(yōu)選。另外，由于柔軟性高，即使在樹(shù)脂層32與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24之間混入氣泡、灰塵等異物，也能夠抑制帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的變形缺陷的產(chǎn)生。關(guān)于這種形成剝離紙用有機(jī)硅樹(shù)脂的固化性有機(jī)硅，可以根據(jù)其固化機(jī)理而分類為縮合反應(yīng)型有機(jī)硅、加成反應(yīng)型有機(jī)硅、紫外線固化型有機(jī)硅以及電子射線固化型有機(jī)硅，這些均可以使用。在這些之中，優(yōu)選加成反應(yīng)型有機(jī)硅。這是因?yàn)楣袒磻?yīng)的容易程度、形成樹(shù)脂層32時(shí)剝離性的程度良好、耐熱性也高。加成反應(yīng)型有機(jī)硅是包含主劑和交聯(lián)劑、且在鉬系催化劑等催化劑的存在下固化的固化性組合物。加成反應(yīng)型有機(jī)硅的固化通過(guò)加熱處理而得到促進(jìn)。加成反應(yīng)型有機(jī)硅的主劑優(yōu)選是具有與硅原子鍵合的烯基(乙烯基等)的有機(jī)聚硅氧烷(即，有機(jī)烯基聚硅氧烷。其中，優(yōu)選為直鏈狀)，烯基等成為交聯(lián)點(diǎn)。加成反應(yīng)型有機(jī)硅的交聯(lián)劑優(yōu)選為具有鍵合于娃原子的氫原子(娃氫基)的有機(jī)聚娃氧燒(即，有機(jī)氫聚娃氧燒。其中，優(yōu)選為直鏈狀)，硅氫基等成為交聯(lián)點(diǎn)。加成反應(yīng)型有機(jī)硅通過(guò)主劑與交聯(lián)劑的交聯(lián)點(diǎn)進(jìn)行加成反應(yīng)而固化。另外，形成剝離紙用有機(jī)硅樹(shù)脂的固化性有機(jī)硅從形態(tài)上看有溶劑型、乳液型和無(wú)溶劑型，任意類型均可使用。在這些之中，優(yōu)選為無(wú)溶劑型。這是因?yàn)槠湓谏a(chǎn)率、安全性、環(huán)境特性方面優(yōu)異。另外，還因?yàn)?，不含有在形成?shù)脂層32時(shí)的固化時(shí)、S卩加熱固化、紫外線固化或電子射線固化時(shí)會(huì)產(chǎn)生發(fā)泡的溶劑，因而樹(shù)脂層32中難以殘留氣泡。另外，作為形成剝離紙用有機(jī)硅樹(shù)脂的固化性有機(jī)硅，具體而言，作為市售的商品名或型號(hào)，可列舉出 KNS-320A、KS-847 (均為 SHIN-ETSUSILICONE C0.，LTD.制造)、TPR6700 (Momentive Performance Materials Japan LLC 制造)、乙稀基有機(jī)娃“8500”(荒川化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)與甲基氫聚硅氧烷“12031”(荒川化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)的組合、乙烯基有機(jī)硅“11364”(荒川化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)與甲基氫聚硅氧烷“12031”(荒川化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)的組合、乙烯基有機(jī)硅“11365”(荒川化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)與甲基氫聚硅氧烷“12031”(荒川化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造)的組合等。需要說(shuō)明的是，KNS-320A、KS-847和TPR6700是預(yù)先含有主劑和交聯(lián)劑的固化性有機(jī)娃。另外，用于形成樹(shù)脂層32的有機(jī)硅樹(shù)脂優(yōu)選具有有機(jī)硅樹(shù)脂層中的低分子量的有機(jī)硅等成分難以向帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24轉(zhuǎn)移的性質(zhì)、即低有機(jī)硅轉(zhuǎn)移性。另外，從來(lái)源于交聯(lián)結(jié)構(gòu)的耐熱性的觀點(diǎn)出發(fā)，有機(jī)氫聚娃氧燒的鍵合于娃原子的氫原子相對(duì)于有機(jī)烯基聚硅氧烷的烯基的摩爾比優(yōu)選為0.5 2。(樹(shù)脂層的制造方法)在支撐板31上固定樹(shù)脂層32的方法沒(méi)有特別限定，例如可列舉出在支撐板31的表面固定薄膜狀的樹(shù)脂的方法。具體而言，可列舉出為了對(duì)支撐板31的表面賦予對(duì)薄膜表面的高固定力(高剝離強(qiáng)度)而對(duì)支撐板31的表面進(jìn)行表面改性處理(底漆處理)并固定在支撐板31上的方法。例如可例示出如硅烷偶聯(lián)劑這樣的化學(xué)性地提高固定力的化學(xué)方法(底漆處理)；等離子體照射、火焰(flame)處理這樣增加SiOH基、SiO基這樣的表面活性基團(tuán)的物理方法；噴砂處理這樣通過(guò)增加表面粗糙度來(lái)增加附著的機(jī)械處理方法等。另外，例如也可以通過(guò)如下方法形成固定在支撐板31上的樹(shù)脂層32:在支撐板31表面上形成作為樹(shù)脂層32的固化性樹(shù)脂組合物的層，接著，將該固化性樹(shù)脂組合物固化而形成樹(shù)脂層32。作為在支撐板31表面上形成固化性樹(shù)脂組合物的層的方法，例如可列舉出將固化性樹(shù)脂組合物涂布在支撐板31上的方法。作為涂布方法，可列舉出噴涂法、模涂法、旋轉(zhuǎn)涂布法、浸涂法、輥涂法、棒涂法、絲網(wǎng)印刷法、凹版涂布法等。在這些方法當(dāng)中，可以根據(jù)樹(shù)脂組合物的種類來(lái)適當(dāng)選擇。另外，將作為樹(shù)脂層32的固化性樹(shù)脂組合物涂布于支撐板31上時(shí)，其涂布量?jī)?yōu)選為I 100g/m2,更優(yōu)選為5 20g/m2。例如，由加成反應(yīng)型有機(jī)硅的固化性樹(shù)脂組合物形成樹(shù)脂層32時(shí)，將由有機(jī)烯基聚硅氧烷、有機(jī)氫聚硅氧烷以及催化劑的混合物形成的固化性樹(shù)脂組合物通過(guò)上述的噴涂法等公知方法涂布在支撐板31上，其后使其加熱固化。加熱固化條件因催化劑的配混量而異，例如，相對(duì)于有機(jī)烯基聚硅氧烷和有機(jī)氫聚硅氧烷的總量100質(zhì)量份配混2質(zhì)量份鉬系催化劑時(shí)，在大氣中以50°C 250°C、優(yōu)選以100°C 200°C進(jìn)行反應(yīng)。另外，此時(shí)的反應(yīng)時(shí)間為5 60分鐘、優(yōu)選為10 30分鐘。通過(guò)使固化性樹(shù)脂組合物加熱固化，固化反應(yīng)時(shí)有機(jī)硅樹(shù)脂與支撐板31進(jìn)行化學(xué)結(jié)合。另外，通過(guò)錨固效果，有機(jī)硅樹(shù)脂層與支撐板31相結(jié)合。通過(guò)這些作用，有機(jī)硅樹(shù)脂層牢固地固定在支撐板31上。需要說(shuō)明的是，由固化性樹(shù)脂組合物形成由有機(jī)硅樹(shù)脂以外的樹(shù)脂形成的樹(shù)脂層時(shí)，也可以用與上述相同的方法形成固定于支撐板的樹(shù)脂層。
<層疊體及其制造方法>如上所述，本發(fā)明的層疊體10為存在帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24、支撐板31以及位于它們之間的樹(shù)脂層32的層疊體。本發(fā)明的層疊體的制造方法沒(méi)有特別限定，通常，通過(guò)上述方法在表面上制作固定有樹(shù)脂層32的支撐板31，其后，在樹(shù)脂層32上以導(dǎo)電性金屬氧化物膜22與樹(shù)脂層32能夠剝離地緊密貼合的方式配置帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24。使樹(shù)脂層32以能夠剝離的方式緊密貼合于帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24上的方法沒(méi)有特別限定，可以是公知的方法。例如可列舉出如下方法:在常壓環(huán)境下在樹(shù)脂層32的剝離性表面上層疊帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24之后，用輥、壓制機(jī)使樹(shù)脂層32與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24壓接。通過(guò)用輥、壓制機(jī)進(jìn)行壓接，從而樹(shù)脂層32與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24進(jìn)一步緊密貼合，因而優(yōu)選。另外，通過(guò)用輥或壓制機(jī)進(jìn)行壓接，能夠比較容易地去除樹(shù)脂層32與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24之間混入的氣泡，因而優(yōu)選。通過(guò)真空層壓法、真空壓制法進(jìn)行壓接時(shí)，可更優(yōu)選地抑制氣泡混入、確保良好的緊密貼合，因而更優(yōu)選。通過(guò)在真空下進(jìn)行壓接，還具有如下優(yōu)點(diǎn):即使在殘留微小氣泡的情況下也不會(huì)因加熱而引起氣泡生長(zhǎng)、不易導(dǎo)致帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的變形缺陷。使樹(shù)脂層32以能夠剝離的方式緊密貼合在帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24上時(shí)，優(yōu)選的是，充分清洗樹(shù)脂層32和帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的相互接觸一側(cè)的面，并在潔凈度高的環(huán)境下進(jìn)行層疊。即使樹(shù)脂層32與帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24之間混入異物，由于樹(shù)脂層32會(huì)變形，因而不會(huì)對(duì)帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的表面的平坦性造成影響，但潔凈度越高則其平坦性越良好，因而優(yōu)選。需要說(shuō)明的是，在支撐板31上固定樹(shù)脂層32的工序以及使樹(shù)脂層32以能夠剝離的方式緊密貼合在帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24上的工序的順序沒(méi)有限制，例如，可以幾乎同時(shí)進(jìn)行。本發(fā)明的層疊體可以用于各種用途，例如可列舉出制造后述的顯示裝置用面板、PV、薄膜2次電池、表面上形成有電路的半導(dǎo)體晶圓等電子部件的用途等。需要說(shuō)明的是，該用途中，層疊體多暴露于(例如，I小時(shí)以上)高溫條件(例如，320°C以上)。此處，顯示裝置用面板包含IXD、OLED,電子紙、等離子體顯示器面板、場(chǎng)致發(fā)射面板、量子點(diǎn)LED面板、MEMS (Micro Electro Mechanical Systems,微電子機(jī)械系統(tǒng))快門面板等。<帶有支撐板的顯示裝置用面板及其制造方法>本發(fā)明中，使用上述的層疊體來(lái)制造帶有支撐板的顯示裝置用面板。圖2是本發(fā)明的帶有支撐板的顯示裝置用面板的一例的示意性剖面圖。帶有支撐板的顯示裝置用面板40由上述層疊體10和顯示裝置用面板的構(gòu)成部件50構(gòu)成。(顯示裝置用面板的構(gòu)成部件)顯示裝置用面板的構(gòu)成部件50是指在例如使用了玻璃基板的LCD、0LED等顯示裝置中形成在玻璃基板上的部件、其一部分。例如，對(duì)于IXD、0LED等顯示裝置而言，在基板的表面形成TFT陣列(以下，簡(jiǎn)稱為“陣列”。)、保護(hù)層、濾色器、液晶、由ITO形成的透明電極等、各種電路圖案等部件、或?qū)⑺鼈兘M合而成的部件。另外，例如，對(duì)于包含OLED的顯示裝置而言，可列舉出在基板上形成的透明電極、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層
坐寸ο上述的帶有支撐板的顯示裝置用面板40的制造方法沒(méi)有特別限定，根據(jù)顯示裝置用面板的構(gòu)成部件的種類，利用以往公知的方法，在層疊體10的帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24表面上形成顯示裝置用面板的構(gòu)成部件50。例如，以制造OLED的情況為例時(shí)，為了在層疊體10的帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的、與樹(shù)脂層32緊密貼合的表面的相反側(cè)的表面(相當(dāng)于基板的第2主面202)上形成有機(jī)EL結(jié)構(gòu)體而進(jìn)行以下各種層形成、處理:形成透明電極、進(jìn)而在形成有透明電極的面上蒸鍍空穴注入層.空穴傳輸層.發(fā)光層.電子傳輸層等、形成背面電極、使用封裝板進(jìn)行封裝等。作為這些層形成、處理，具體而言，例如可列舉出成膜處理、蒸鍍處理、封裝板的粘接處理等。這些構(gòu)成部件的形成也可以是顯示裝置用面板所需的所有構(gòu)成部件的形成的一部分。該情況下，將形成了這一部分構(gòu)成部件的帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24從樹(shù)脂層32剝離后，在帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24上形成剩余的構(gòu)成部件，制造顯示裝置用面板。<顯示裝置用面板及其制造方法>本發(fā)明所述的顯示裝置用面板60如圖2所示，由帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24和顯示裝置用面板的構(gòu)成部件50構(gòu)成。顯示裝置用面板60可以通過(guò)從帶有支撐板的顯示裝置用面板40剝離帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24和固定于支撐板31的樹(shù)脂層32而得到。需要說(shuō)明的是，剝離時(shí)的帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24上的構(gòu)成部件為顯示裝置用面板所需的所有構(gòu)成部件的形成的一部分時(shí)，其后在帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24上形成剩余的構(gòu)成部件，從而制造顯示裝置用面板。剝離導(dǎo)電性金屬氧化物膜22與樹(shù)脂層32的剝離性表面的方法沒(méi)有特別限定。具體而言，例如，可以在導(dǎo)電性金屬氧化物膜22與樹(shù)脂層32之間的界面插入鋒利的刃狀物，提供剝離的契機(jī)，然后吹送水和壓縮空氣的混合流體來(lái)進(jìn)行剝離。需要說(shuō)明的是，在從帶有支撐板的顯示裝置用面板40剝離顯示裝置用面板60后，還可以根據(jù)需要在顯示裝置用面板60中的帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板24的導(dǎo)電性金屬氧化物膜22上另外設(shè)置顯示裝置用面板的構(gòu)成部件。<顯示裝置>另外，可以由這種顯示裝置用面板60得到顯示裝置。作為顯示裝置，可列舉出LCD、0LED。作為L(zhǎng)CD，可列舉出TN型、STN型、FE型、TFT型、MM型。此處，對(duì)獲得顯示裝置的操作沒(méi)有特別限定，例如，可以用以往公知的方法來(lái)制造顯示裝置。實(shí)施例以下，通過(guò)實(shí)施例等來(lái)具體地說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明不限定于這些例子。需要說(shuō)明的是,在后述的實(shí)施例和比較例中,水接觸角使用接觸角計(jì)(Kriiss公司制造、DROP SHAPE ANALYSIS SYSTEM DSA10Mk2)進(jìn)行測(cè)定。另外，表面粗糙度Ra使用原子力顯微鏡(Seiko Instruments Inc.制造、SPA300/SPI3800)進(jìn)行測(cè)定。薄板玻璃層疊體的加熱后的剝離性如下評(píng)價(jià):在后述的規(guī)定條件下進(jìn)行加熱處理后，將薄板玻璃基板和樹(shù)脂層剝離，目視觀察薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上。將沒(méi)有樹(shù)脂層的殘?jiān)u(píng)價(jià)為良，將存在樹(shù)脂層的殘?jiān)u(píng)價(jià)為差。進(jìn)而，在剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上使用常壓遠(yuǎn)程等離子體裝置(積水化學(xué)株式會(huì)社制造)實(shí)施等離子體照射，進(jìn)而貼附偏光薄膜(日東電工株式會(huì)社制造、丙烯酸類粘合劑)，評(píng)價(jià)是否發(fā)生剝落。未發(fā)生剝落表示沒(méi)有樹(shù)脂層的殘?jiān)?。發(fā)生剝落表示存在樹(shù)脂層的殘?jiān)?lt;實(shí)施例1 >首先，將縱720mm、橫600mm、板厚0.4mm、線膨脹系數(shù)38 X 10_7/°C的支撐玻璃基板(無(wú)堿玻璃、旭硝子株式會(huì)社制造，AN100)用純水清洗后，進(jìn)一步進(jìn)行UV清洗，使其潔凈化。接著，在支撐玻璃基板的第I主面上用絲網(wǎng)印刷機(jī)將100質(zhì)量份無(wú)溶劑加成反應(yīng)型剝離紙用有機(jī)硅(SHIN-ETSU SILICONE C0.，LTD.制造、KNS-320A、粘度:0.40Pa.S、溶解參數(shù)(SP值):7.3)和2質(zhì)量份鉬系催化劑(SHIN-ETSU SILICONE C0., LTD.制造、CAT-PL-56)的混合液涂布成縱705mm、橫595mm的尺寸的矩形(涂布量30g/m2)。接著，將其在180°C 下在大氣中加熱固化30分鐘，從而在支撐玻璃基板的第I主面形成厚度20 μ m的有機(jī)硅樹(shù)脂層。需要說(shuō)明的是，上述無(wú)溶劑加成反應(yīng)型剝離紙用有機(jī)硅包含具有鍵合于硅原子的乙烯基和甲基的直鏈狀有機(jī)烯基聚硅氧烷(主劑)、以及具有鍵合于硅原子的氫原子和甲基的直鏈狀有機(jī)氫聚硅氧烷(交聯(lián)劑)。接著，將縱720mm、橫600mm、板厚0.3mm、線膨脹系數(shù)38 X 1(T7/°C的薄板玻璃基板(旭硝子株式會(huì)社制造，AN100)的要與有機(jī)硅樹(shù)脂接觸的一側(cè)的面用純水清洗，其后，進(jìn)行UV清洗，使其潔凈化。進(jìn)而，通過(guò)磁控濺射法(加熱溫度300°C、成膜壓力5mTorr、功率密度0.5ff/cm2)在已經(jīng)潔凈化的面上形成厚度IOnm的ITO (薄層電阻300 Ω / 口)，得到薄板玻璃基板(帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的薄板玻璃基板)。導(dǎo)電性金屬氧化物膜表面的水接觸角為45°。另外，導(dǎo)電性金屬氧化物膜的表面粗糙度Ra為0.7nm。其后，在室溫下通過(guò)真空壓制機(jī)將薄板玻璃基板的ITO成膜面與支撐玻璃基板的有機(jī)硅樹(shù)脂層面貼合，得到薄板玻璃層疊體Al。所得薄板玻璃層疊體Al中，兩玻璃基板與有機(jī)硅樹(shù)脂層緊密貼合而未產(chǎn)生氣泡，也沒(méi)有變形狀的缺點(diǎn)，平滑性也良好。(加熱后的剝離性評(píng)價(jià))在大氣氧為0.1%以下的氮?dú)夥罩?，?duì)薄板玻璃層疊體Al在320°C下實(shí)施I小時(shí)的加熱處理。接著，進(jìn)行剝離試驗(yàn)。具體而言，首先，將薄板玻璃層疊體Al中的薄板玻璃的第2主面固定在固定臺(tái)上。另一方面，用吸盤吸附支撐玻璃基板的第2主面。接著，向?yàn)楸“宀Ａ盈B體Al具有的4個(gè)角部中的I個(gè)的薄板玻璃基板與樹(shù)脂層的界面插入厚度0.4mm的刀，稍稍剝離薄板玻璃基板，提供剝離的契機(jī)。接著，使吸盤向離開(kāi)固定臺(tái)的方向移動(dòng)，剝離薄板玻璃基板和具有樹(shù)脂層的支撐玻璃基板。剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)不存在樹(shù)脂層的殘?jiān)?。另外，關(guān)于剝離后的剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)的帶電電位，通過(guò)靜電測(cè)定器測(cè)定為+1.2kV。使用常壓遠(yuǎn)程等離子體裝置(積水化學(xué)株式會(huì)社制造)對(duì)剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)實(shí)施等離子體照射，并貼附偏光薄膜(日東電工株式會(huì)社制造、丙烯酸類粘合劑)時(shí)，未發(fā)生剝落。<實(shí)施例2>與實(shí)施例1同樣地，在室溫下通過(guò)真空壓制機(jī)將薄板玻璃基板的ITO成膜面與支撐玻璃基板的有機(jī)硅樹(shù)脂層面貼合，得到薄板玻璃層疊體Al。接著，不進(jìn)行加熱處理而與實(shí)施例I同樣地進(jìn)行剝離試驗(yàn)。剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)不存在樹(shù)脂層的殘?jiān)?。另外，關(guān)于剝離后的剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)的帶電電位，通過(guò)靜電測(cè)定器測(cè)定為+1.3kV。使用常壓遠(yuǎn)程等離子體裝置(積水化學(xué)株式會(huì)社制造)對(duì)剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)實(shí)施等離子體照射，并貼附偏光薄膜(日東電工株式會(huì)社制造、丙烯酸類粘合劑)時(shí)，未發(fā)生剝落。<實(shí)施例3>與實(shí)施例1同樣地，在室溫下通過(guò)真空壓制機(jī)將薄板玻璃基板的ITO成膜面與支撐玻璃基板的有機(jī)硅樹(shù)脂層面貼合，得到薄板玻璃層疊體Al。其后，與實(shí)施例1同樣地對(duì)薄板玻璃層疊體Al進(jìn)行加熱處理。接著，進(jìn)行剝離試驗(yàn)。具體而言，首先，將薄板玻璃層疊體Al中的薄板玻璃基板的第2主面固定在固定臺(tái)上。另一方面，用吸盤吸附支撐玻璃基板的第2主面。接著，向?yàn)楸“宀Ａ盈B體Al具有的4個(gè)角部中的I個(gè)的薄板玻璃基板與樹(shù)脂層的界面插入厚度0.4mm的刀，稍稍剝離薄板玻璃基板，提供剝離的契機(jī)。此處，刀的插入是邊由電離器(基恩士公司 制造)向該界面吹送除電性流體邊進(jìn)行的。接著，邊從電離器繼續(xù)向已形成的空隙吹送除電性流體邊使吸盤向離開(kāi)固定臺(tái)的方向移動(dòng)，剝離薄板玻璃基板和具有樹(shù)脂層的支撐玻璃基板。剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)不存在樹(shù)脂層的殘?jiān)Ａ硗?，關(guān)于剝離后的剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)的帶電電位，通過(guò)靜電測(cè)定器測(cè)定為+0.lkV。使用常壓遠(yuǎn)程等離子體裝置(積水化學(xué)株式會(huì)社制造)對(duì)剝離后的剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)實(shí)施等離子體照射，并貼附偏光薄膜(日東電工株式會(huì)社制造、丙烯酸類粘合劑)時(shí)，未發(fā)生剝落。<實(shí)施例4>首先，將縱760mm、橫640mm、板厚0.3mm、線膨脹系數(shù)38X 1(T7/°C的薄板玻璃基板(無(wú)堿玻璃、旭硝子株式會(huì)社制造，AN100)用純水清洗后，進(jìn)一步進(jìn)行UV清洗，使其潔凈化。進(jìn)而，通過(guò)磁控濺射法(加熱溫度300°C、成膜壓力5mTorr、功率密度0.5ff/cm2)在已經(jīng)潔凈化的第I主面上形成厚度為IOnm的ITO (薄層電阻300 Ω / 口)，得到薄板玻璃基板(帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的薄板玻璃基板)。導(dǎo)電性金屬氧化物膜表面的水接觸角為45°。另夕卜，導(dǎo)電性金屬氧化物膜的表面粗糙度Ra為0.7nm。接著，在薄板玻璃基板的第I主面的導(dǎo)電性金屬氧化物膜面上，用絲網(wǎng)印刷機(jī)與實(shí)施例1同樣地將兩末端具有乙烯基的直鏈狀有機(jī)烯基聚硅氧烷(乙烯基有機(jī)硅、荒川化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造、8500)、分子內(nèi)具有硅氫基的甲基氫聚硅氧烷(荒川化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造、12031)以及鉬系催化劑(荒川化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制造、CAT12070)的混合液涂布成縱750mm、橫630mm的尺寸的矩形，形成包含未固化的固化性有機(jī)硅的層(涂布量為35g/m2)。接著,將縱720mm、橫600mm、板厚0.4mm的支撐玻璃基板的要與有機(jī)娃樹(shù)脂接觸的一側(cè)的面(第I主面)用純水清洗，其后，進(jìn)行UV清洗，使其潔凈化。其后，在室溫下通過(guò)真空壓制機(jī)將載體基板的第I主面與包含未固化的固化性有機(jī)硅的層貼合，在30Pa下靜置5分鐘，進(jìn)行包含未固化的固化性有機(jī)硅的層的脫泡處理，得到固化前層疊體A0。此時(shí)，將載體基板層疊在包含未固化的固化性有機(jī)硅的層上而使得包含未固化的固化性有機(jī)硅的層殘留有不與載體基板接觸的邊緣區(qū)域。需要說(shuō)明的是，從載體基板的外邊緣到未固化的固化性樹(shù)脂組合物層的外邊緣位置的長(zhǎng)度為約15_以上。接著，將其在250°C下在大氣中加熱固化30分鐘，得到包含厚度為10 μ m的已固化的有機(jī)硅樹(shù)脂層的固化后層疊體AO。接著，將固化后層疊體AO的支撐玻璃基板固定在安裝有定位夾具的平板上，從平板的上表面用金剛石輪式切割機(jī)在薄板玻璃基板的第2主面上刻下切線使得與支撐玻璃基板的外邊緣之中的一條邊重合后，用挾持夾具夾住薄板玻璃的切線的外側(cè)將其割斷。同樣地將與支撐玻璃基板的外邊緣的剩余三條邊重合的薄板玻璃基板的外側(cè)也切斷后，用具有曲面的磨石對(duì)薄板玻璃基板的割斷面進(jìn)行研磨，實(shí)施倒角，得到切斷后層疊體Al。接著，與實(shí)施例3同樣地進(jìn)行剝離試驗(yàn)。剝離成薄板玻璃基板與具有樹(shù)脂層的支撐玻璃基板，剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)不存在樹(shù)脂層的殘?jiān)?。另外，關(guān)于剝離后的剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)的帶電電位，通過(guò)靜電測(cè)定器測(cè)定為+0.lkV。使用常壓遠(yuǎn)程等離子體裝置(積水化學(xué)株式會(huì)社制造)對(duì)剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)實(shí)施等離子體照射，并貼附偏光薄膜(日東電工株式會(huì)社制造、丙烯酸類粘合劑)時(shí)，未發(fā)生剝落。<實(shí)施例5>除了使用由鈣鈉玻璃形成的玻璃板作為薄板玻璃基板和支撐玻璃基板以外，通過(guò)與實(shí)施例3同樣的方法得到薄板玻璃層疊體BI。接著，與實(shí)施例3同樣地進(jìn)行剝離試驗(yàn)。剝離成薄板玻璃基板與具有樹(shù)脂層的支撐玻璃基板，剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)不存在樹(shù)脂層的殘?jiān)?。另外，關(guān)于剝離后的剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)的帶電電位，通過(guò)靜電測(cè)定器測(cè)定為+0.lkV。使用常壓遠(yuǎn)程等離子體裝置(積水化學(xué)株式會(huì)社制造)對(duì)剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)實(shí)施等離子體照射，并貼附偏光薄膜(日東電工株式會(huì)社制造、丙烯酸類粘合劑)時(shí)，未發(fā)生剝落。<實(shí)施例6>除了使用化學(xué)強(qiáng)化過(guò)的玻璃板作為薄板玻璃基板和支撐玻璃基板以外，通過(guò)與實(shí)施例3同樣的方法得到薄板玻璃層疊體Cl。接著，與實(shí)施例3同樣地進(jìn)行剝離試驗(yàn)。剝離成薄板玻璃基板與具有樹(shù)脂層的支撐玻璃基板，剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)不存在樹(shù)脂層的殘?jiān)?。另外，關(guān)于剝離后的剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)的帶電電位，通過(guò)靜電測(cè)定器測(cè)定為+0.lkV。使用常壓遠(yuǎn)程等離子體裝置(積水化學(xué)株式會(huì)社制造)對(duì)剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)實(shí)施等離子體照射，并貼附偏光薄膜(日東電工株式會(huì)社制造、丙烯酸類粘合劑)時(shí)，未發(fā)生剝落。需要說(shuō)明的是，關(guān)于上述實(shí)施例1 6中使用的薄板玻璃層疊體Al，在上述的剝離試驗(yàn)中，并非在有機(jī)硅樹(shù)脂層與支撐玻璃基板之間產(chǎn)生剝離，而是在有機(jī)硅樹(shù)脂層與薄板玻璃基板(帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的薄板玻璃基板)之間產(chǎn)生了剝離。由這一點(diǎn)可確認(rèn):有機(jī)娃樹(shù)脂層與支撐玻璃基板之間的緊密貼合力大于有機(jī)娃樹(shù)脂層與薄板玻璃基板之間的緊密貼合力，換言之，有機(jī)硅樹(shù)脂層與支撐玻璃基板之間的剝離強(qiáng)度高于有機(jī)硅樹(shù)脂層與薄板玻璃基板之間的剝離強(qiáng)度。<比較例I >除了使用縱720mm、橫600mm、板厚0.3mm、線膨脹系數(shù)38X 10_7/°C的薄板玻璃基板(旭硝子株式會(huì)社制造，AN100)來(lái)代替實(shí)施例1中使用的帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的薄板玻璃基板以外，用與實(shí)施例1相同的步驟得到薄板玻璃層疊體Cl。薄板玻璃層疊體Cl中不含導(dǎo)電性金屬氧化物膜。需要說(shuō)明的是，將薄板玻璃基板的要與有機(jī)硅樹(shù)脂接觸的一側(cè)的面用純水清洗，其后，進(jìn)行UV清洗，使其潔凈化。經(jīng)潔凈化的薄板玻璃基板表面的水接觸角為8°。另外，經(jīng)潔凈化的薄板玻璃基板的表面粗糙度Ra為0.4nm。接著，按照與實(shí)施例1同樣的步驟進(jìn)行加熱處理后，剝離薄板玻璃層疊體Cl中的薄板玻璃基板和具有樹(shù)脂層的支撐玻璃基板。剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上附著有一部分樹(shù)脂層，并且在支撐玻璃基板上的樹(shù)脂層的對(duì)應(yīng)部分確認(rèn)到破損。使用常壓遠(yuǎn)程等離子體裝置(積水化學(xué)株式會(huì)社制造)對(duì)附著有樹(shù)脂層的薄板玻璃基板進(jìn)行了等離子體照射，但附著的樹(shù)脂無(wú)法去除而殘留。剝離后的剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上的帶電電位為-10.5kV。其后，在薄板玻璃基板的實(shí)施過(guò)等離子體照射的面上貼附偏光薄膜(日東電工株式會(huì)社制造、丙烯酸類粘合劑)時(shí)，發(fā)生了剝落。<比較例2>將縱720mm、橫600mm、板厚0.3mm、線膨脹系數(shù)38 X 10_7/°C的薄板玻璃基板(旭硝子株式會(huì)社制造，AN100)的要與有機(jī)硅樹(shù)脂接觸的一側(cè)的面用純水清洗，其后，進(jìn)行UV清洗，使其潔凈化。進(jìn)而，通過(guò)磁控濺射法(非加熱、成膜壓力5mTorr、功率密度5W/cm2)在已經(jīng)潔凈化的面上依次形成厚度為50nm的氧化鉻膜和厚度為IOOnm的金屬鉻膜，得到薄板玻璃基板(帶有金屬鉻膜的薄板玻璃基板)。金屬鉻膜表面的水接觸角為25°。另外，金屬鉻膜的表面粗糙度Ra為2.5nm。與實(shí)施例1同樣地，按照其步驟將薄板玻璃基板的金屬鉻膜面與支撐玻璃基板的有機(jī)硅樹(shù)脂層面在室溫下通過(guò)真空壓制機(jī)貼合，得到薄板玻璃層疊體BI。接著，按照與實(shí)施例1同樣的步驟進(jìn)行加熱處理后，剝離薄板玻璃層疊體BI中的薄板玻璃基板和具有樹(shù)脂層的支撐玻璃基板。與比較例I同樣地， 剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(金屬鉻膜上)附著有一部分樹(shù)脂層，并且支撐玻璃基板上的樹(shù)脂層的對(duì)應(yīng)部分確認(rèn)到破損。<比較例3>與實(shí)施例1同樣地，在支撐玻璃基板的第I主面形成厚度20 μ m的有機(jī)硅樹(shù)脂層。接著，使用縱720mm、橫600mm、板厚0.3mm、線膨脹系數(shù)38X 10_7/°C的薄板玻璃基板(旭硝子株式會(huì)社制造，AN100)，除此以外，通過(guò)與實(shí)施例1相同的步驟，得到薄板玻璃層疊體C2。需要說(shuō)明的是，薄板玻璃基板的要與有機(jī)硅樹(shù)脂接觸的一側(cè)的面用純水清洗并使其潔凈化。已經(jīng)潔凈化的薄板玻璃基板表面的水接觸角為30°。另外，已經(jīng)潔凈化的薄板玻璃基板的表面粗糙度Ra為0.4nm。需要說(shuō)明的是，該比較例中，與比較例I不同，薄板玻璃基板未進(jìn)行UV清洗。其后，按照與實(shí)施例1同樣的步驟進(jìn)行加熱處理后，剝離薄板玻璃層疊體C2中的薄板玻璃基板和具有樹(shù)脂層的支撐玻璃基板。與比較例I同樣地，剝離下來(lái)的薄板玻璃基板的與樹(shù)脂層接觸的面上(導(dǎo)電性金屬氧化物膜上)附著有一部分樹(shù)脂層，并且支撐玻璃基板上的樹(shù)脂層的對(duì)應(yīng)部分確認(rèn)到破損。對(duì)本發(fā)明詳細(xì)且參照特定的實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，可以在不超脫本發(fā)明的范圍和主旨的情況下施加各種修改、變更，這對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)講是不言而喻的。本申請(qǐng)基于2010年11月5日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)2010-248294，將其內(nèi)容作為參照援引于此。附圖標(biāo)記說(shuō)明

10層疊體20 基板22導(dǎo)電性金屬氧化物膜24帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板201基板的第I主面202基板的第2主面221導(dǎo)電性金屬氧化物膜的表面30增強(qiáng)板31支撐板32樹(shù)脂層321樹(shù)脂層的緊密貼合面40帶有支撐板的顯示裝置用面板50顯示裝置用面板的構(gòu)成部件60顯示裝置用面板
權(quán)利要求
1.一種層疊體，其依次具備: 支撐板、 樹(shù)脂層、以及 帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板，在該基板的表面上具有導(dǎo)電性金屬氧化物膜，所述導(dǎo)電性金屬氧化物膜包含選自由銦、錫、鋅、鈦以及鎵組成的組中的至少一種金屬的氧化物， 所述帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板以所述導(dǎo)電性金屬氧化物膜與所述樹(shù)脂層能夠剝離地緊密貼合的方式配置在所述樹(shù)脂層上， 所述樹(shù)脂層與所述支撐板之間的剝離強(qiáng)度高于所述樹(shù)脂層與所述帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板之間的剝離強(qiáng)度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊體，其中，所述氧化物中還包含選自由鋁、鑰、銅、釩、鈮、鉭、硼以及氟組成的組中的至少一種元素。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的層疊體，其中，所述樹(shù)脂層為有機(jī)硅樹(shù)脂層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的層疊體，其中，所述樹(shù)脂層由有機(jī)烯基聚硅氧烷和有機(jī)氫聚硅氧烷的加成反應(yīng)型固化物形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的層疊體，其中，所述有機(jī)氫聚硅氧烷的鍵合于硅原子的氫原子相對(duì)于所述有機(jī)烯基聚硅氧烷的烯基的摩爾比為0.5 2。
6.一種帶有支撐板的顯示裝置用面板，其具有: 權(quán)利要求1 5中任一項(xiàng)所述的層疊體、以及 顯示裝置用面板的構(gòu)成部件，其中，所述構(gòu)成部件設(shè)置于所述層疊體中的所述帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板的、與所述樹(shù)脂層緊密貼合的表面的相反側(cè)的表面上。
7.—種顯示裝置用面板，其是使用權(quán)利要求6所述的帶有支撐板的顯示裝置用面板而形成的。
8.—種顯示裝置，其具有權(quán)利要求7所述的顯示裝置用面板。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種層疊體，其依次具備支撐板、樹(shù)脂層以及帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板，在該基板的表面上具有導(dǎo)電性金屬氧化物膜，所述導(dǎo)電性金屬氧化物膜包含選自由銦、錫、鋅、鈦以及鎵組成的組中的至少一種金屬的氧化物，前述帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板以前述導(dǎo)電性金屬氧化物膜與前述樹(shù)脂層能夠剝離地緊密貼合的方式配置在前述樹(shù)脂層上，前述樹(shù)脂層與前述支撐板之間的剝離強(qiáng)度高于前述樹(shù)脂層與前述帶有導(dǎo)電性金屬氧化物膜的基板之間的剝離強(qiáng)度。
文檔編號(hào)G02F1/1343GK103201104SQ20118005319
公開(kāi)日2013年7月10日 申請(qǐng)日期2011年10月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月5日
發(fā)明者江畑研一, 松山祥孝, 內(nèi)田大輔 申請(qǐng)人:旭硝子株式會(huì)社