專利名稱：防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模組件的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種防止下垂的掩?？蚣芗胺乐瓜麓沟难谀＝M件，屬于掩模板應用領域。
背景技術：
MASK(掩膜):單片機掩膜是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機生產(chǎn)的過程中把程序做進去。優(yōu)點是:程序可靠、成本低。缺點:批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時生產(chǎn)，供貨周期長。在半導體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜(也稱作“掩?！?，其作用是:在硅片上選定的區(qū)域中對一個不透明的圖形模板遮蓋，繼而下面的腐蝕或擴散將只影響選定的區(qū)域以外的區(qū)域。在使用傳統(tǒng)的掩模組件的平板現(xiàn)實裝置的傳統(tǒng)沉積設備中，在沉積過程中，基板中間部分可能由于基板的重量而向掩模組件彎曲。如此，掩模組件的圖案掩模會被基板按壓并會變形，從而引起在基板上的不精確排列和材料的沉積。

發(fā)明內容
本發(fā)明要解決 的技術問題是提供一種防止下垂掩?？蚣芗跋鄳难谀＝M件，能解決掩模板因重力而引起的下垂，而且不影響位置精度，在運輸中也能保護掩模板。為了解決上述技術問題，本發(fā)明采取的技術方案如下:
一種防止下垂掩?？蚣?，其特征在于，包括邊框和支撐條，所述邊框和支撐條一體成型。所述支撐條之間縱向或者橫向相互平行。所述支撐條之間有間隙。所述支撐條之間的間隙大于或等于掩模板圖形區(qū)域的開口 ；所述支撐條的寬度小于或等于掩模板圖形區(qū)域開口之間的間隙。優(yōu)選的，所述掩?？蚣苓€設有橫向或縱向相互平行的支撐條與所述縱向或橫向相互平行的支撐條垂直交叉，形成許多網(wǎng)格。所述網(wǎng)格的尺寸大于或等于掩模板圖形區(qū)域開口的尺寸，所述支撐條的寬度小于或等于掩模板圖形區(qū)域開口之間的間隙。所述支撐條與所述邊框處于同一水平面上。所述掩?？蚣艿倪吙蛏暇哂袧M足蒸鍍設備要求的結構設計，保證掩模組件可直接上蒸鍍設備，而無需將掩模板從掩模框架上拆卸下來，提高了掩模板的使用壽命。
—種防止下垂的掩模組件,其特征在于,包括上述的掩?？蚣芎脱谀０?所述掩模框架與所述掩模板焊接。所述掩?？蚣艿目v橫向支撐條與所述掩模板縱橫向圖形區(qū)域間隙對齊，所述掩模框架的縱橫向支撐條與所述掩模板縱橫向圖形區(qū)域間隙對齊，支撐條中心線上與掩模板圖形區(qū)域間隙之間有焊接點，掩?？蚣苓吙蜻吘墔^(qū)域與掩模板邊緣之間也有焊接點，所述掩?？蚣苓吙蜻吘墔^(qū)域是指掩模框架邊框中心線到掩?？蚣苓吙蛲膺吘€之間的區(qū)域。所述支撐條與所述掩模板的制作材料相同。本發(fā)明提供的防止下垂的掩?？蚣芗胺乐瓜麓沟难谀＝M件，有效防止了在沉積蒸鍍過程中由掩模組件上的掩模板的重量引起的掩模板的圖案變形，有效改善蒸鍍精度，生產(chǎn)成本低，效率高，具有廣闊的市場前景。


下面結合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
作進一步詳細的說明。圖1為只有縱向支撐條的防止下垂的掩?？蚣埽?br> 圖2為有縱向和橫向支撐條的防止下垂的掩?？蚣埽?br> 圖3為圖2A部分的局部放大 圖4為防止下垂的掩模組件的展開 圖中I為邊框，2為支撐條，3為網(wǎng)格，4為掩?？蚣苓吙蛑行木€，5為滿足蒸鍍設備的結構設計，11為掩模板，12為掩模板上的開口。
具體實施例方式實施例:1
如圖1所示，一種防止下垂的掩?？蚣埽ㄟ吙騃和支撐條2，所述邊框I和支撐條2一體成型，處于同一水平面上。所述支撐條2相互平行，縱向排列。所述支撐條2之間有空隙，切該空隙尺寸大于或等于掩模板圖形區(qū)域開口的尺寸，所述支撐條的寬度小于或等于掩模板圖形區(qū)域開口之間的間隙。所述支撐條2之間有空隙相等。如圖4所示，一種防止下垂的掩模組件，包括上述的防止下垂的掩?？蚣芎脱谀０澹龇乐瓜麓沟难谀？蚣芘c所述掩模板焊接。所述掩?？蚣艿目v向支撐條與所述掩模板縱向圖形區(qū)域間隙對齊，支撐條中心線上與掩模板圖形區(qū)域間隙之間有焊接點，掩?？蚣苓吙蜻吘墔^(qū)域與掩模板邊緣之間也有焊接點，所述掩?？蚣苓吙蜻吘墔^(qū)域是指掩模框架邊框中心線到掩?？蚣苓吙蛲膺吘€之間的區(qū)域。所述防止下垂的掩模框架的縱向支撐條與所述掩模板縱向圖形區(qū)域間隙對齊，即縱向支撐條間隙與掩模板縱向開口相對應。所述支撐條與所述掩模板的制作材料相同。所述掩?？蚣苌暇哂袧M足蒸鍍設備的結構設計5。
實施例2:
如圖2所示，一種防止下垂的掩?？蚣?，包括邊框I和支撐條2，所述邊框I和支撐條2一體成型，處于同一水平面上。所述支撐條縱橫垂直相交，縱向的支撐條2相互平行，橫向的支撐條2也相互平行，所述支撐條縱橫相交形成網(wǎng)格3。所述網(wǎng)格3的尺寸大于或等于掩模板圖形區(qū)域開口的尺寸。所述網(wǎng)格3的大小一致。保證所述支撐條2不能擋住掩模板圖形區(qū)域的開口。一種防止下垂的掩模組件，包括上述的防止下垂的掩?？蚣芎脱谀０?，所述掩?？蚣芘c所述掩模板焊接。所述掩?？蚣艿目v橫向支撐條與所述掩模板縱橫向圖形區(qū)域間隙對齊，支撐條中心線上與掩模板圖形區(qū)域間隙之間有焊接點，掩?？蚣苓吙蜻吘墔^(qū)域與掩模板邊緣之間也有焊接點，所述掩?？蚣苓吙蜻吘墔^(qū)域是指掩模框架邊框中心線到掩?？蚣苓吙蛲膺吘€之間的區(qū)域。所述支撐條與所述掩模板的制作材料相同。所述掩?？蚣苌暇哂袧M足蒸鍍設備的結構設計5。以上實施例目的在于說明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明的保護范圍，所有由本發(fā)明簡單變化而來的應用均落在本發(fā)明的保護范圍內。
權利要求
1.一種防止下垂的掩?？蚣?，其特征在于，包括邊框和支撐條，所述邊框和支撐條一體成型。
2.根據(jù)權利要求1所述的掩?？蚣?，其特征在于，所述支撐條之間縱向或橫向相互平行。
3.根據(jù)權利要求2所述的掩模框架，其特征在于，所述支撐條之間有間隙。
4.根據(jù)權利要求3所述的掩?？蚣埽涮卣髟谟?，所述支撐條之間的間隙大于或等于掩模板圖形區(qū)域的開口 ；所述支撐條的寬度小于或等于掩模板圖形區(qū)域開口之間的間隙。
5.根據(jù)權利要求2所述的掩模框架，其特征在于，還設有橫向或縱向相互平行的支撐條與所述縱向或橫向相互平行的支撐條垂直交叉，形成許多網(wǎng)格。
6.根據(jù)權利要求5所述的掩?？蚣埽涮卣髟谟?，所述網(wǎng)格的尺寸大于或等于掩模板圖形區(qū)域開口的尺寸，所述支撐條的寬度小于或等于掩模板圖形區(qū)域開口之間的間隙。
7.根據(jù)權利要求1-6任一項所述的掩?？蚣埽涮卣髟谟冢鲋螚l與所述邊框處于同一水平面上。
8.根據(jù)權利要求1-6任一項所述的掩模框架，其特征在于，所述邊框上具有滿足蒸鍍設備要求的結構設計。
9.一種防止下垂的掩模組件，其特征在于，包括權利要求1-8任一項所述的防止下垂的掩?？蚣芎脱谀０?，所述防止下垂的掩模框架與所述掩模板焊接。
10.根據(jù)權利要求9所述的防止下垂的掩模組件，其特征在于，所述掩?？蚣艿目v橫向支撐條與所述掩模板縱橫向圖形區(qū)域間隙對齊，支撐條中心線上與掩模板圖形區(qū)域間隙之間有焊接點，掩模框架邊框邊緣區(qū)域與掩模板邊緣之間也有焊接點，所述掩模框架邊框邊緣區(qū)域是指掩?？蚣苓吙蛑行木€到掩?？蚣苓吙蛲膺吘€之間的區(qū)域。
11.根據(jù)權利要求9或10所述的防止下垂的掩模組件，其特征在于，所述支撐條與所述掩模板的制作材料相同。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種防止下垂的掩模框架及相應的掩模組件，防止下垂的掩模框架包括邊框和支撐條，所述邊框和支撐條一體成型；所述相應的掩模組件包括上述防止下垂的掩?？蚣芎脱谀０?，所述掩模框架與所述掩模板焊接。本發(fā)明提供的掩?？蚣芗胺乐瓜麓沟难谀＝M件，有效防止了在蒸鍍過程中由掩模組件上的掩模板的重量引起的掩模板的圖案變形，有效改善蒸鍍精度，生產(chǎn)成本低，效率高，具有廣闊的市場前景。
文檔編號G03F1/62GK103207518SQ20121001075
公開日2013年7月17日 申請日期2012年1月16日 優(yōu)先權日2012年1月16日
發(fā)明者魏志凌, 高小平, 鄭慶靚, 吳小燕 申請人:昆山允升吉光電科技有限公司