專利名稱：光學(xué)部件、其制造方法以及使用其的光學(xué)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及減反射光學(xué)部件、其制造方法以及使用其的光學(xué)系統(tǒng)。進(jìn)而，本發(fā)明涉及適合在可見(jiàn)區(qū)至近紅外區(qū)中獲得高水平的減反射性的光學(xué)部件和使用該光學(xué)部件的光學(xué)系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
已知具有其周期等于或小于可見(jiàn)光區(qū)域中的波長(zhǎng)的微細(xì)周期結(jié)構(gòu)的減反射結(jié)構(gòu)體通過(guò)形成具有適當(dāng)?shù)拈g距和高度的微細(xì)周期結(jié)構(gòu)，在寬波長(zhǎng)區(qū)域內(nèi)顯示優(yōu)異的減反射性。形成該微細(xì)結(jié)構(gòu)的已知方法為，例如，使其粒徑等于或小于可見(jiàn)光區(qū)域中的波長(zhǎng)的細(xì)顆粒分散于其中的膜的涂布。 也已知微細(xì)加工法(micromachining method),其中通過(guò)使用微細(xì)加工裝置(例如電子束描繪裝置、激光干涉光刻裝置、半導(dǎo)體光刻裝置和蝕刻裝置)圖案化來(lái)形成微細(xì)周期結(jié)構(gòu)。微細(xì)加工法中，可控制微細(xì)周期結(jié)構(gòu)的間距和高度。此外，已知可通過(guò)微細(xì)加工法形成優(yōu)異的減反射微細(xì)周期結(jié)構(gòu)。除了上述方法以外，已知通過(guò)在基材上使作為鋁的氫氧化氧化物的勃姆石的不規(guī)則結(jié)構(gòu)(irregular structure)生長(zhǎng)來(lái)獲得減反射效果的方法。該方法中，對(duì)通過(guò)液相法(溶膠-凝膠法)形成的氧化鋁膜進(jìn)行熱水浸潰處理以使該膜的表層變?yōu)椴肥?，由此形成片狀晶體(plate crystal)膜以得到減反射膜(日本專利申請(qǐng)公開(kāi)No. H09-202649)。如上所述，尋求顯示出優(yōu)異的減反射性的減反射膜，但常規(guī)技術(shù)具有以下問(wèn)題。例如，關(guān)于表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的光學(xué)部件，在全反射和強(qiáng)光照射的光入射條件下，有時(shí)觀察到使光學(xué)部件霧化的現(xiàn)象。為了在表面上形成由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)，對(duì)氧化鋁的無(wú)定形膜進(jìn)行水蒸汽處理或者熱水浸潰處理。通過(guò)該處理形成的由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)可能具有某種周期。該周期的不規(guī)則結(jié)構(gòu)在全反射的光入射條件下產(chǎn)生霧化(fogging,模糊不清)現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題而完成了本發(fā)明，并且本發(fā)明的目的在于提供能夠在全反射的條件下防止霧化現(xiàn)象的同時(shí)保持高水平的減反射性的光學(xué)部件，并且還提供該光學(xué)部件的制造方法和使用該光學(xué)部件的光學(xué)系統(tǒng)。為了解決上述問(wèn)題，根據(jù)本發(fā)明，提供光學(xué)部件，其包括中間層；和層疊在該中間層上的氧化鋁層，該氧化鋁層有具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的表面，其中該中間層包括空隙(void)。為了解決上述問(wèn)題，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供光學(xué)部件的制造方法，該光學(xué)部件包括基材、中間層和在該中間層上層疊的氧化鋁層，該氧化鋁層有具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的表面，該方法包括在非活性氣體氣氛中在該基材上沉積蒸鍍材料(evaporating material)以形成該中間層；以及在該中間層上形成含有招的膜，并且對(duì)該膜進(jìn)行熱水處理以形成在該膜的表面上具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層。為了解決上述問(wèn)題，根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供光學(xué)部件的制造方法，該光學(xué)部件包括基材、中間層和在該中間層上層疊的氧化鋁層，該氧化鋁層有具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的表面，該方法包括進(jìn)行在該基材上在相對(duì)于該基材的表面傾斜的方向上沉積蒸鍍材料的傾斜沉積(oblique deposition)以形成該中間層；以及在該中間層上形成含有鋁的膜，并且對(duì)該膜進(jìn)行熱水處理以形成在該膜的表面上具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層。為了解決上述問(wèn)題，根據(jù)本發(fā)明，提供使用上述光學(xué)部件的光學(xué)系統(tǒng)。根據(jù)本發(fā)明，能夠提供能夠在全反射的條件下防止霧化現(xiàn)象的同時(shí)保持高水平的減反射性的光學(xué)部件、該光學(xué)部件的制造方法和使用該光學(xué)部件的光學(xué)系統(tǒng)。由以下參照附圖對(duì)例示實(shí)施方案的說(shuō)明，本發(fā)明進(jìn)一步的特點(diǎn)將變得清楚。


圖I是表示根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方案的光學(xué)部件的示意圖。圖2是表示根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方案的光學(xué)部件的示意圖。圖3A表示根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)部件中的柱狀結(jié)構(gòu)體的掃描電子顯微鏡(SEM)圖像。圖3B表示根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)部件中的柱狀結(jié)構(gòu)體的SEM圖像。圖3C表示根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)部件中的柱狀結(jié)構(gòu)體的SEM圖像。圖4是根據(jù)本發(fā)明的傾斜沉積的說(shuō)明圖。圖5A是表示形成根據(jù)本發(fā)明的片狀晶體層的步驟的示意圖。圖5B是表示形成根據(jù)本發(fā)明的片狀晶體層的步驟的示意圖。圖5C是表示形成根據(jù)本發(fā)明的片狀晶體層的步驟的示意圖。圖是表示形成根據(jù)本發(fā)明的片狀晶體層的步驟的示意圖。圖6表示白度指數(shù)的測(cè)定方法。圖7是表示沉積角度與白度指數(shù)之間的關(guān)系的坐標(biāo)圖。圖8是表示沉積角度與表面粗糙度Ra之間的關(guān)系的坐標(biāo)圖。圖9是表示沉積角度與反射率之間的關(guān)系的坐標(biāo)圖。圖10是表示沉積角度與折射率之間的關(guān)系的坐標(biāo)圖。圖11是表示氣體流速(flow rate)與白度指數(shù)之間的關(guān)系的坐標(biāo)圖。圖12是表不氣體流速與白度指數(shù)之間的關(guān)系的坐標(biāo)圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在根據(jù)附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施方案詳細(xì)說(shuō)明。(第一實(shí)施方案)圖I是表不根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方案的光學(xué)部件的不意圖。根據(jù)本實(shí)施方案的光學(xué)部件10包括依次層疊的基材I、中間層2和氧化鋁層(片狀晶體層)3。氧化鋁層3有具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的表面。中間層2至少在與氧化鋁層3的界面具有空隙。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)在中間層2上層疊含有氧化鋁的無(wú)定形層，然后進(jìn)行焙燒，或者通過(guò)采用氣相沉積在中間層2上形成含有鋁的無(wú)定形層或含有氧化鋁的無(wú)定形層來(lái)形成含有鋁的膜。然后，在使該含有鋁的膜與水蒸汽或熱水接觸的熱水處理步驟中，通過(guò)該無(wú)定形層的溶解/再沉淀現(xiàn)象，形成表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層3。該成膜工藝中，中間層2中空隙21的存在使為了形成氧化鋁層而升高溫度時(shí)施加于氧化鋁層的應(yīng)力減輕。認(rèn)為空隙21的存在導(dǎo)致表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層的波長(zhǎng)區(qū)域中的周期性的改善。中間層2具有島狀或柱狀結(jié)構(gòu)并且具有晶粒間界(grainboundary)。晶粒間界可從基材I的表面向片狀晶體層3連續(xù)地存在。中間層2極薄時(shí),柱狀結(jié)構(gòu)體的高度可以小并且柱狀結(jié)構(gòu)體可以是島狀的薄膜。(基材)根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)部件中使用的基材的實(shí)例包括玻璃、塑料基材、玻璃鏡和塑料鏡。
玻璃的具體實(shí)例包括含堿玻璃、無(wú)堿玻璃、硅鋁酸鹽玻璃、硼硅酸鹽玻璃、鋇基玻璃和鑭基玻璃。塑料基材材料的代表性實(shí)例包括熱塑性樹脂例如聚酯、三乙酰纖維素、醋酸纖維素、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、ABS樹脂、聚苯醚、聚氨酯、聚乙烯和聚氯乙烯的膜和成型品；和由各種熱固性樹脂例如不飽和聚酯樹月旨、酚醛樹脂、交聯(lián)性聚氨酯、交聯(lián)性丙烯酸系樹脂和交聯(lián)性飽和聚酯樹脂得到的交聯(lián)膜和交聯(lián)成型品。對(duì)基材I并無(wú)特別限制，并且可以是，例如，用于光學(xué)部件例如凹彎月透鏡、雙凸透鏡、雙凹透鏡、平凸透鏡、平凹透鏡、凸彎月透鏡、非球面透鏡、自由曲面透鏡(free-form-surface lens)和棱鏡的基材。(具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層)根據(jù)本發(fā)明的表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層3具有減反射功能并且用作減反射膜。氧化鋁層3的表面為不規(guī)則形狀。通過(guò)使含有鋁的膜或含有氧化鋁的膜(其為無(wú)定形并且也稱為“含有鋁的膜”)與熱水或水蒸汽接觸，使含有鋁的膜的表層經(jīng)歷解膠作用等，使氧化鋁在膜的表層上沉淀和生長(zhǎng)以成為片狀晶體。本文中使用的“具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層”意味著這樣的層，其中通過(guò)使含有無(wú)定形鋁的膜與熱水或水蒸汽接觸，從而使含有鋁的膜的表層經(jīng)歷解膠作用等，使氧化鋁在該膜的表層上沉淀和生長(zhǎng)以致在該層的表面上形成由片狀晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)。由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)主要包括鋁的氧化物、鋁的氫氧化物或氧化鋁的水合物的晶體。勃姆石是特別優(yōu)選的晶體。使含有鋁的膜3與熱水接觸的方法的實(shí)例包括將膜3浸入熱水中和使流動(dòng)的熱水或霧化的熱水與含有鋁的膜3接觸。下述中，將通過(guò)使含有鋁的膜與熱水接觸而形成的晶體稱為氧化鋁晶體、主要組分為氧化鋁的片狀晶體、含有氧化鋁作為組分的片狀晶體、片狀晶體或氧化鋁勃姆石。通過(guò)溶膠-凝膠法形成含有鋁的膜時(shí)，作為前體溶膠的材料，可使用A I化合物單獨(dú)或者Al化合物與選自Zr、Si、Ti、Zn和Mg的化合物中的至少一種的組合。作為該化合物，例如，作為A1203、ZrO2, SiO2, TiO2, ZnO或MgO的材料，可使用其金屬醇鹽或者其鹽化合物例如氯化物和硝酸鹽。
從成膜性的觀點(diǎn)出發(fā)，特別是作為Zr02、SiO2或TiO2的材料，優(yōu)選使用其金屬醇鹽。此外，可通過(guò)氣相沉積形成鋁膜或氧化鋁膜。將使用前體溶膠形成的膜或通過(guò)氣相沉積形成的膜稱為含有鋁的膜、主要組分為氧化鋁的膜或主要組分為氧化鋁的無(wú)定形膜。日本專利申請(qǐng)公開(kāi)No. 2006-259711和日本專利申請(qǐng)公開(kāi)No. 2005-275372中記載了通過(guò)使含有鋁的膜與熱水接觸來(lái)形成表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層的方法的實(shí)例。(中間層)根據(jù)本實(shí)施方案的中間層2是在 基材I上設(shè)置的具有至少一層的膜。將中間層2層疊在基材I與氧化鋁層3之間以與基材I緊密接觸，并且具有多個(gè)空隙21。優(yōu)選地，該結(jié)構(gòu)能夠使由于含有鋁的膜的成膜工藝中產(chǎn)生的熱而施加于該膜的應(yīng)力減輕。根據(jù)本發(fā)明的中間層2具有多個(gè)空隙21，空隙21具有可有效地減輕經(jīng)歷形成氧化鋁層中的高溫過(guò)程而產(chǎn)生的應(yīng)力的結(jié)構(gòu)。由掃描電子顯微鏡拍攝的截面圖像中也觀察到空隙。確認(rèn)空隙存在的另一方法是包括適當(dāng)處理例如用于使缺陷明顯的處理的觀察。更具體地，通過(guò)將中間層2浸入適當(dāng)稀釋的HF，將缺陷選擇性地蝕刻以能夠觀察到更微細(xì)的空隙。根據(jù)本發(fā)明的中間層的厚度，從用于減反射功能的光學(xué)特性的觀點(diǎn)出發(fā)并且從減輕由熱法施加于膜的應(yīng)力的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選lnm-200nm，更優(yōu)選2nm-100nm。此外，優(yōu)選地，中間層具有調(diào)節(jié)折射率的功能，以致相對(duì)于氧化鋁層3和基材I的折射率，通過(guò)適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)中間層的折射率和厚度來(lái)使有效光束部的反射率最小。這使得折射率從基材向與空氣的界面連續(xù)地減小，因此由于與表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層的折射率和中間層的折射率的效果的組合，可獲得高水平的減反射性。優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的中間層包括含有SiO2的膜。優(yōu)選地，中間層的含有SiO2的膜是主要組分為SiO2并且可單獨(dú)或組合含有氧化物例如TiO2和ZrO2作為附加組分的無(wú)定形氧化物膜。中間層中含有的SiO2的含量為10摩爾％以上，優(yōu)選15摩爾％ -100摩爾％。接下來(lái)，對(duì)根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)部件的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。根據(jù)本發(fā)明的制造方法是包括依次層疊的基材、中間層和氧化鋁層的光學(xué)部件的制造方法，其包括如下兩個(gè)步驟(I)通過(guò)氣相沉積在該基材的表面上形成該中間層；和
(2)通過(guò)在該中間層上涂布至少含有鋁化合物的溶液或者通過(guò)采用氣相沉積在該中間層上形成含有鋁的膜或含有氧化鋁的膜來(lái)形成膜，然后對(duì)該膜進(jìn)行熱水處理以在該膜的表面上形成具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層。(形成中間層的步驟)形成根據(jù)本發(fā)明的中間層的步驟中，通過(guò)在非活性氣體氣氛中在基材上沉積蒸鍍材料來(lái)形成空隙。這是因?yàn)椋婵粘练e中的壓力上升以增加氣相中蒸鍍粒子的碰撞概率，因此，由于作用例如減少的離子能量以及減少的在基材上的表面擴(kuò)散，膜生長(zhǎng)在厚度方向上比在與基材的表面平行的方向上進(jìn)行得程度大。此外，引入氣相中的非活性氣體原子也進(jìn)入通過(guò)氣相沉積形成的膜中，并且使該膜的微結(jié)構(gòu)的密度減小。用至少在與含有鋁的膜的界面形成的空隙，可使通過(guò)高溫工藝形成的含有鋁的膜中產(chǎn)生的內(nèi)部應(yīng)力減輕。為了形成根據(jù)本實(shí)施方案的中間層，可適當(dāng)?shù)厥褂谜婵粘练e。作為蒸鍍?cè)矗墒褂肧i02、Ti02 *Zr02。其蒸鍍?cè)纯蓡为?dú)使用或者通過(guò)適當(dāng)?shù)鼗旌喜⒄{(diào)節(jié)組成而組合使用。作為氣相沉積法，可使用電子束氣相沉積、電阻加熱等，并且可根據(jù)蒸鍍材料的狀態(tài)和蒸鍍材料的尺寸例如粉末、顆粒或丸粒狀來(lái)選擇最佳方法。通過(guò)氣相沉積形成根據(jù)本實(shí)施方案的中間層的方法中，除了蒸鍍材料以外，可使用氣體，其包括非活性氣體例如Ar、Kr和Xe，氧氣，氮?dú)?，二氧化碳和水蒸汽。從引入氣體的效率的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選將氣體引入單元在真空裝置中設(shè)置在蒸鍍?cè)磁c基材之間以致將氣體引入蒸鍍材料的軌道中。只要將氣體引入單元設(shè)置在真空沉積裝置中，可考慮氣體的擴(kuò)散和基材上的膜質(zhì)量的均一性來(lái)適當(dāng)?shù)卦O(shè)置氣體引入單元。因此，氣體 噴射部件可為淋浴噴頭的形狀。通過(guò)用測(cè)定真空容器的真空的真空計(jì)監(jiān)視氣相沉積過(guò)程中的壓力并且控制蒸鍍材料的氣相沉積過(guò)程中的真空，可制造中間層。此外，在氣相沉積工藝中可附加地使用在時(shí)間上或空間上改變氣相沉積壓力的方法。通過(guò)改變氣相沉積過(guò)程中引入的氣體的流速、改變排氣電導(dǎo)閥(exhaustconductance valve)的電導(dǎo)或者改變氣相沉積速率,可改變要制造的中間層的厚度方向上的內(nèi)部應(yīng)力。通過(guò)調(diào)節(jié)蒸鍍材料的蒸汽壓曲線、氣相沉積速率、真空泵的排氣能力和排氣電導(dǎo)閥的排氣速率，可適當(dāng)?shù)乜刂普婵?。通過(guò)適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)這些控制因子，可使氣相中的蒸鍍粒子的能量減小，因此，可抑制附著于基材的表面的粒子的能量并且可使膜形成中的表面擴(kuò)散減速以形成與基材的表面垂直的多個(gè)柱形狀的中間層。優(yōu)選地，根據(jù)本實(shí)施方案的中間層的空隙率為1% -50%。如果空隙率超過(guò)50%，膜強(qiáng)度不足并且光學(xué)特性容易波動(dòng)。如下所述確定本實(shí)施方案中的空隙率(I)通過(guò)橢圓偏光法確定在沒(méi)有引入非活性氣體下通過(guò)氣相沉積制造的薄膜的折射率η (O)(例如,SiO2膜的情形下,如果Ar = Occ,則折射率為I. 46)，(2)將空隙視為空氣并且將折射率η = I用于空隙，(3)通過(guò)橢圓偏光法確定通過(guò)引入非活性氣體而得到的根據(jù)本實(shí)施方案的中間層的折射率n(Ar = X)，(4)將
(I)、(2)和(3)中確定的折射率用于通過(guò)一般的有效介質(zhì)近似法(EMA)計(jì)算空隙率，和(5)將(I)中的空隙率視為0%來(lái)計(jì)算根據(jù)本實(shí)施方案的中間層的空隙率。(形成片狀晶體層的步驟)圖5A- 是表示形成根據(jù)本發(fā)明的氧化鋁層的步驟的示意圖。形成氧化鋁層的方法包括將其上形成了中間層2的基材I固定到旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上的步驟(a)(圖5A)，在該中間層上形成含有鋁的膜4的步驟(b)(圖5B)，進(jìn)行焙燒的步驟(c)(圖5C)，和然后進(jìn)行在熱水槽中的浸入以使含有鋁的膜4與熱水接觸，由此形成表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層的步驟(d)(圖OT)?；蛘?，形成該氧化鋁層的方法可包括通過(guò)氣相沉積形成含有鋁的膜或含有氧化鋁的膜后，進(jìn)行在熱水槽中的浸入以使含有鋁的膜4與熱水接觸，由此形成表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層的步驟(d)。(第二實(shí)施方案)圖2是表示根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施的光學(xué)部件的示意圖。相同的附圖標(biāo)記表示與上述第一實(shí)施方案中的那些具有相同功能的部件并且省略其詳細(xì)說(shuō)明。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)部件10包括依次層疊的基材I、中間層2和氧化鋁層3。氧化鋁層3有具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的表面。中間層2包括相對(duì)于基材表面13傾斜的多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體11。在多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體11之間存在孔隙15。在氣相沉積方向14上通過(guò)傾斜沉積形成多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體11。根據(jù)本發(fā)明，中間層2是包括多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體的結(jié)構(gòu)體，并且從基材表面13到片狀晶體層3，在多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體11之間存在孔隙15。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)在中間層上層疊含有氧化鋁的無(wú)定形層，然后進(jìn)行焙燒，或者通過(guò)采用氣相沉積在中間層上形成含有鋁的無(wú)定形層或含有氧化鋁的無(wú)定形層，形成含有鋁的膜。然后，在含有鋁的膜的熱水處理步驟中，通過(guò)該無(wú)定形層的溶解/再沉淀現(xiàn)象，形成表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層。該成膜工藝中，中間層2中孔隙15的存在可使成膜工藝中升高溫度時(shí)施加于膜的應(yīng)力緩和。認(rèn)為孔隙15的存在導(dǎo)致表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層的波長(zhǎng)區(qū)域中的周期性的改善。(中間層)根據(jù)本實(shí)施方案的中間層2是在基材I上設(shè)置的具有至少一層的膜。將中間層2 層疊在基材I與氧化鋁層3之間以與基材I緊密接觸，并且具有多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體11。優(yōu)選地，該結(jié)構(gòu)能夠使由于氧化鋁晶體的成膜工藝中產(chǎn)生的熱而施加于該膜的應(yīng)力減輕。根據(jù)本實(shí)施方案的中間層2在多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體11之間具有孔隙15，并且孔隙15從基材表面13向片狀晶體層3連續(xù)地存在以致有效地減輕經(jīng)歷用于形成片狀晶體的高溫工藝而產(chǎn)生的應(yīng)力。由掃描電子顯微鏡(SEM)拍攝的截面圖像中也觀察到孔隙。確認(rèn)孔隙存在的另一方法是包括適當(dāng)處理例如用于使缺陷明顯的處理的觀察。更具體地，通過(guò)將中間層2浸入適當(dāng)稀釋的HF，將缺陷選擇性地蝕刻以能夠觀察到更微細(xì)的孔隙。觀察中間層的表面時(shí)，可作為凹陷觀察到這樣的孔隙。圖3A-3C的上圖是截面中具有柱狀結(jié)構(gòu)體的中間層的表面的SEM圖像。由圖3A-3C的上圖，在根據(jù)本發(fā)明的中間層的表面上作為孔隙觀察到清晰的凹陷(孔狀缺陷)。此外，中間層的厚度的變化使得孔隙從基材起始，如在具有非常小的厚度的中間層中看到那樣。即使對(duì)于厚的中間層，觀察中間層的表面時(shí)也觀察到凹陷，因此可確認(rèn)從基材向表面存在孔隙。根據(jù)本發(fā)明的中間層的厚度，從用于減反射功能的光學(xué)特性的觀點(diǎn)出發(fā)并且從減輕由熱法施加于膜的應(yīng)力的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選lnm-200nm，更優(yōu)選2nm-100nm。此外，優(yōu)選地，中間層具有調(diào)節(jié)折射率的功能，以致相對(duì)于氧化鋁層3和基材I的折射率，通過(guò)適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)中間層的折射率和厚度來(lái)使有效光束部的反射率最小。這使得折射率從基材向與空氣的界面連續(xù)地減小，因此由于與表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層的折射率和中間層的折射率的效果的組合，可獲得高水平的減反射性。優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的中間層包括含有SiO2的膜。優(yōu)選地，中間層的含有SiO2的膜是主要組分為SiO2并且可單獨(dú)或組合含有氧化物例如TiO2和ZrO2作為附加組分的無(wú)定形氧化物膜。中間層中含有的SiO2的含量為10摩爾％以上，優(yōu)選15摩爾％ -100摩爾％。如圖2中所示，多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體相對(duì)于基材表面在相同的方向上傾斜?；谋砻?3與柱狀結(jié)構(gòu)體的軸12之間形成的傾斜角度α為40° -80°，優(yōu)選45° -80°。接下來(lái)，對(duì)根據(jù)本實(shí)施方案的光學(xué)部件的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。根據(jù)本實(shí)施方案的光學(xué)部件的制造方法是包括依次層疊的基材、中間層和氧化鋁層的光學(xué)部件的制造方法，其包括如下兩個(gè)步驟(I)通過(guò)傾斜沉積在該基材的表面上形成具有多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體的中間層；和(2)通過(guò)在該中間層上涂布至少含有鋁化合物的溶液或者通過(guò)采用氣相沉積在該中間層上形成含有鋁的膜或含有氧化鋁的膜來(lái)形成膜，然后對(duì)該膜進(jìn)行熱水處理以在該膜的表面上形成具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層。(形成中間層的步驟)形成根據(jù)本發(fā)明的中間層的步驟中，通過(guò)傾斜沉積在基材上形成多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體。傾斜沉積中，將主要組分為SiO2的蒸鍍材料沉積在基材表面上。傾斜沉積中，如圖4中所示，將基材的法線17與氣相沉積方向14之間形成的角度定義為沉積角度Θ。沉積角度Θ小于80°，優(yōu)選75°以下。圖3A-3C的下圖表示通過(guò)傾斜沉積，使用SiO2粉末作為蒸鍍?cè)丛诨纳系玫降?SiO2膜的截面結(jié)構(gòu)。圖3A-3C中，沉積角度Θ為O。時(shí)沒(méi)有觀察到形成的中間層的截面中的柱狀結(jié)構(gòu)體的傾斜角度α (圖3Α)，沉積角度Θ為60°和80°時(shí)柱狀結(jié)構(gòu)體的傾斜角度α分別為68°和45° (圖3Β和3C)。此外，在圖3A-3C的下圖的截面的SEM照片中觀察到孔隙。該孔隙對(duì)應(yīng)于圖3A-3C的下圖的截面照片中對(duì)照來(lái)看暗的部分，并且該孔隙存在于看起來(lái)白的柱狀結(jié)構(gòu)體之間并且從基材表面向柱狀結(jié)構(gòu)體的表面存在。圖3A-3C中可以看到，隨著沉積角度Θ變大，中間層的柱狀結(jié)構(gòu)體的從基材表面的傾斜角度α變大。此外，可以看到可用沉積角度來(lái)控制孔隙的傾斜。(基材的溫度)氣相沉積、濺射和CVD中，可通過(guò)提高基材的溫度來(lái)促進(jìn)前體的表面擴(kuò)散。優(yōu)選將基材的溫度適當(dāng)?shù)卦O(shè)定在再蒸發(fā)溫度的范圍內(nèi)。此外，基材的溫度的上升可緩和膜結(jié)構(gòu)并且傾向于使通過(guò)傾斜沉積形成的孔隙變窄。只要在適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)孔隙的寬度的同時(shí)可減輕施加于膜的應(yīng)力，基材的溫度可適當(dāng)?shù)剡x擇。此外，可考慮基材的耐熱性來(lái)適當(dāng)?shù)卦O(shè)定基材的溫度。根據(jù)本發(fā)明的中間層可通過(guò)氣相生長(zhǎng)例如濺射、氣相沉積和CVD形成，通過(guò)適當(dāng)?shù)厥钩练e角度傾斜，在截面結(jié)構(gòu)中形成柱狀結(jié)構(gòu)體。作為用于形成根據(jù)本發(fā)明的中間層的氣相沉積或?yàn)R射，可使用反應(yīng)氣相沉積、反應(yīng)濺射等。CVD中，可通過(guò)向基材施加偏壓來(lái)控制由離子化的前體給予基材的動(dòng)能。這種控制也可促進(jìn)離子化的前體的表面擴(kuò)散。通過(guò)適當(dāng)?shù)卦O(shè)定成膜空間的內(nèi)部壓力，可控制各成膜法的等離子體狀態(tài)并且可控制離子化的前體的動(dòng)能。通過(guò)將這些參數(shù)組合，可形成顯示優(yōu)異的表面擴(kuò)散的均一的膜。氣相沉積或?yàn)R射中，可通過(guò)從不同于蒸鍍?cè)?6或?yàn)R射源的離子源供給的離子束的能量輔助作用來(lái)控制前體的動(dòng)能，并且可促進(jìn)基材表面上的擴(kuò)散以形成均一的膜。根據(jù)本發(fā)明的氣相沉積中，將蒸鍍?cè)垂潭ǖ卦O(shè)置。此外，根據(jù)本發(fā)明，為了防止沉積角度Θ固定保持在0°，可將基材安裝于旋轉(zhuǎn)夾具以使其相對(duì)于氣相沉積方向的軸旋轉(zhuǎn)對(duì)稱地旋轉(zhuǎn)，此外，在氣相沉積中可使基材在公轉(zhuǎn)的同時(shí)自轉(zhuǎn)(行星旋轉(zhuǎn))。只要?dú)庀喑练e工藝過(guò)程中沉積角度沒(méi)有固定在0°，則沒(méi)有限制。(形成氧化鋁層的步驟)
圖5A- 是表示形成根據(jù)本發(fā)明的氧化鋁層的步驟的示意圖。形成氧化鋁層的方法包括將其上形成了中間層2的基材I固定到旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上的步驟(a)(圖5A)，在該中間層上形成含有鋁的膜4的步驟(b)(圖5B)，進(jìn)行焙燒的步驟(c)(圖5C)，和然后進(jìn)行在熱水槽中的浸入以使主要組分為氧化鋁的膜4與熱水接觸，由此形成主要組分為氧化鋁并且表面具有不規(guī)則結(jié)構(gòu)的片狀晶體層的步驟(d)(圖OT)?；蛘?，形成該氧化鋁層的方法可包括通過(guò)氣相沉積形成含有鋁的膜或含有氧化鋁的膜后，進(jìn)行在熱水槽中的浸入以使含有鋁的膜4與熱水接觸，由此形成表面具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的氧化鋁層的步驟(d)。(白度指數(shù)的評(píng)價(jià))圖6表示測(cè)定白度指數(shù)的簡(jiǎn)易方法。圖中，將作為光源的鹵素?zé)?9放置在基材I的背面?zhèn)龋m當(dāng)?shù)卦O(shè)定光的強(qiáng)度并且設(shè)定照射角度以實(shí)現(xiàn)全反射。為了測(cè)定白度指數(shù)，在基 材表面?zhèn)扔闷胀ǖ恼障鄼C(jī)18拍攝照片。關(guān)于拍攝照片的條件，適當(dāng)?shù)卦O(shè)定和固定曝光條件例如f-stop和快門速度。將拍攝照片后的亮度分布雙值化(binarize)，并且將二進(jìn)制表示(binary representation)的積分定義為白度指數(shù)。圖7表示上述的光學(xué)部件的中間層中通過(guò)傾斜沉積制造的柱狀結(jié)構(gòu)體的相對(duì)于基材的傾斜角度α與沉積角度之間的關(guān)系。圖7中的箭頭表示有效的柱狀結(jié)構(gòu)體的傾斜。由SEM截面照片，通過(guò)測(cè)定從基材表面向表面直線生長(zhǎng)的多個(gè)結(jié)構(gòu)體的傾斜角度，可計(jì)算柱狀結(jié)構(gòu)體相對(duì)于基材的傾斜角度α。此外，可計(jì)算通過(guò)統(tǒng)計(jì)處理等得到的平均值并且可定義為傾斜角度α。圖7表示沉積角度和白度指數(shù)兩者。如下將白度指數(shù)歸一化，沉積角度為0°時(shí)，白度指數(shù)為I。如圖中所示，在沉積角度小于80°的范圍內(nèi)，白度指數(shù)低達(dá)0.8。沉積角度Θ為80°時(shí)，白度指數(shù)高達(dá)O. 94?？梢钥吹?，沉積角度Θ小于80°且不為0°時(shí)白度指數(shù)改善。沉積角度Θ為80。以上時(shí)，觀察到白度指數(shù)的降低。由圖8可以看到，使用原子力顯微鏡(AFM)測(cè)定和評(píng)價(jià)表面粗糙度時(shí)，表面粗糙度Ra急劇地降低?？赡苁且?yàn)椋练e角度Θ為80°以上時(shí)，表面粗糙度Ra增加以產(chǎn)生氧化鋁層3的波長(zhǎng)區(qū)域中的周期性，因此使由其引起的霧化惡化。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)系統(tǒng)使用上述光學(xué)部件。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)系統(tǒng)的具體實(shí)例包括照相機(jī)用透鏡組。(實(shí)施例)(實(shí)施例I)實(shí)施例I中，將真空沉積的傾斜沉積工藝用于形成中間層。參照?qǐng)D5A-OT對(duì)該工藝依次進(jìn)行說(shuō)明。(I)中間層的氣相沉積使用圖4中所示的真空裝置并且將Si基材固定在基材支架上?；牡臏囟葹?50°C。將SiO2粉末用作蒸鍍?cè)?6，并且通過(guò)電子束氣相沉積將SiO2氣相沉積。將沉積角度Θ設(shè)定為60°進(jìn)行傾斜沉積以得到中間層(傾斜沉積膜)。膜厚為50nm。(2)含有鋁的膜的涂布將圖5A中所示的裝置用于將其上層疊了中間層(傾斜沉積膜)2的基材I安裝到真空卡盤旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上。如圖5B中所示，滴下適量的含有氧化鋁的涂布液5并且以約3，OOOrpm進(jìn)行旋轉(zhuǎn)約30秒。其中，在約3，OOOrpm和約30秒的條件下進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂布，但本發(fā)明并不限于此。為了獲得所需的膜厚，可改變進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂布的條件。此外，涂布的方法并不限于旋轉(zhuǎn)涂布，也可使用浸涂、噴涂等。(3)焙燒工序然后，在圖5C中所示的烘箱8中在100°C以上的溫度下進(jìn)行焙燒至少30分鐘。(4)熱水處理焙燒后，進(jìn)行在圖中所示的熱水處理槽9中的浸入以形成片狀晶體膜。熱水處理槽9中熱水的溫度在60°C -IOO0C的范圍內(nèi)。進(jìn)行熱水中的浸入5分鐘-24小時(shí)。從熱水處理槽中提起后，進(jìn)行干燥。通過(guò)上述工序得到的光學(xué)部件中，如圖2中所示，在基材I和中間層2上形成片狀晶體層3作為花瓣?duì)钔该餮趸X膜。使用FE-SEM觀察以這種方式制造的光學(xué)部件的表面和截面。片狀晶體層由具有400nm以下的平均間距和50nm以上的平均高度的花瓣?duì)钛趸X膜形成，并且顯示優(yōu)異的反射率特性。光學(xué)部件的評(píng)價(jià)如下所述。(白度指數(shù)的評(píng)價(jià))如圖6中所示，固定實(shí)施例I中得到的光學(xué)部件以致來(lái)自鹵素?zé)舻墓庖匀瓷涞娜肷浣嵌热肷?。用照相機(jī)對(duì)通過(guò)該光學(xué)部件的光進(jìn)行攝像，對(duì)亮度分布的評(píng)價(jià)積分進(jìn)行波長(zhǎng)求和，以由此計(jì)算白度指數(shù)。如下對(duì)白度指數(shù)進(jìn)行歸一化，沉積角度為0°時(shí)，白度指數(shù)為
I。結(jié)果白度指數(shù)為0.8。根據(jù)需要也可對(duì)基材進(jìn)行測(cè)定和評(píng)價(jià)并且光學(xué)部件的測(cè)定值與基材的測(cè)定值之間的相對(duì)比可定義為白度指數(shù)。如圖9中所示，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)部件顯示低的反射率。(比較例I)比較例I中，將圖4中所示的傾斜沉積的沉積角度Θ固定在0°，并且制造作為中間層2的SiO2膜以具有50nm的厚度。沉積角度Θ為O。時(shí)，如圖3A的下圖中所示，在截面結(jié)構(gòu)中沒(méi)有觀察到孔隙。與實(shí)施例I同樣地測(cè)定白度指數(shù)并且如圖7中所示高達(dá)1，其與實(shí)施例I的情形中相比惡化?？梢钥吹?，本比較例中，如圖9中所示獲得了低反射率，但通過(guò)沉積角度為0°的氣相沉積，沒(méi)有實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的效果。(實(shí)施例2)實(shí)施例2中，通過(guò)氣相沉積制造含有鋁的膜。與實(shí)施例I的情形同樣地進(jìn)行所有其他的步驟。(I)中間層的氣相沉積使用圖4中所示的真空裝置并且將Si基材固定在基材支架上。基材的溫度為150°C。將SiO2粉末用作蒸鍍?cè)?6，并且通過(guò)電子束氣相沉積將SiO2氣相沉積。將沉積角度Θ設(shè)定為60°進(jìn)行傾斜沉積。膜厚為50nm。、
(2)含有鋁的膜的制造將基材I固定在真空裝置中的基材支架上，其凹表面與蒸鍍?cè)聪鄬?duì)。基材支架具有在其軸上旋轉(zhuǎn)的功能，并且將旋轉(zhuǎn)速度設(shè)定在30rpm。將基材的溫度設(shè)定為室溫。將鋁粒料用作蒸鍍?cè)?。預(yù)先通過(guò)電子束氣相沉積使鋁熔融，然后，在適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)電子槍的功率的同時(shí)通過(guò)電子束氣相沉積在基材上形成鋁膜。形成了具有所需厚度的鋁膜后，使真空裝置返回到大氣，并且將基材I取出。(3)熱水處理進(jìn)行在圖中所示的熱水處理槽9中的浸入以形成氧化鋁膜。熱水處理槽9中熱水的溫度在60°C -IOO0C的范圍內(nèi)。進(jìn)行熱水中的浸入5分鐘-24小時(shí)。從熱水處理槽中提起后，進(jìn)行干燥。通過(guò)上述工序完成的光學(xué)部件中，如圖2中所示，在基材I和中間層2上形成了氧 化鋁膜3，該氧化鋁膜3在表面上形成了由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)。使用FE-SEM觀察以這種方式制造的光學(xué)部件的表面和截面。不規(guī)則結(jié)構(gòu)由片狀氧化鋁晶體制成的花瓣?duì)钛趸X膜形成，并且顯示優(yōu)異的反射率特性。(光學(xué)部件的評(píng)價(jià))(白度指數(shù)的評(píng)價(jià))與實(shí)施例I同樣地，評(píng)價(jià)白度指數(shù)。與實(shí)施例I同樣地，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)部件顯示出低反射率。(比較例2)比較例2中，將圖4中所示的傾斜沉積的沉積角度固定在0°，并且制造作為中間層2的SiO2膜以具有50nm的厚度。與比較例I同樣地，沉積角度Θ為0°時(shí)，如圖3A的下圖中所示，在截面結(jié)構(gòu)中沒(méi)有觀察到晶粒間界。與實(shí)施例I和比較例I同樣地測(cè)定白度指數(shù)。白度指數(shù)高，其變差?？梢钥吹剑颈容^例中，獲得了低反射率，但在中間層的制造中通過(guò)沉積角度為0°的氣相沉積沒(méi)有實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的效果。(實(shí)施例3)實(shí)施例3中，作為中間層，通過(guò)傾斜沉積制造TiO2氣相沉積膜。傾斜沉積裝置中，與實(shí)施例I同樣地，預(yù)先使TiO2熔融，在氣相沉積中，同時(shí)引入氧氣(圖中沒(méi)有示出引入單元)。圖10是表示沉積角度從60°變化到80°時(shí)折射率的變化的坐標(biāo)圖。使用SEM觀察以這種方式制造的TiO2膜，并且看到柱狀結(jié)構(gòu)。進(jìn)而，與實(shí)施例I同樣地，層疊氧化鋁片狀晶體層以制造光學(xué)部件。與實(shí)施例I同樣地評(píng)價(jià)以這種方式得到的光學(xué)部件的白度指數(shù)。沉積角度大時(shí)，發(fā)現(xiàn)白度指數(shù)的改善。本實(shí)施例中，通過(guò)使用具有高折射率的LAH-基材料作為基材，得到了具有令人滿意的反射率特性的光學(xué)部件。(比較例3)比較例3中，作為中間層，不使用傾斜沉積并且沉積角度為0°來(lái)制造TiO2膜。白度指數(shù)高于實(shí)施例3的光學(xué)部件。(實(shí)施例4)實(shí)施例4中，作為中間層，在引入10-30cc的Ar的同時(shí)通過(guò)SiO2氣相沉積來(lái)制造SiO2膜，于是制造減反射膜。與實(shí)施例I同樣地制造氧化鋁層。
與實(shí)施例I同樣地，對(duì)制造的各光學(xué)部件測(cè)定白度指數(shù)。如下將白度指數(shù)歸一化，Ar的流動(dòng)速率為O時(shí)，白度指數(shù)為I。圖11表示結(jié)果。Ar的流動(dòng)速率為20-30cc時(shí)，白度指數(shù)為O. 85-0. 77，確認(rèn)白度指數(shù)得到改善。(比較例4)比較例4中，作為中間層，在氣相沉積中沒(méi)有引入Ar來(lái)制造SiO2膜。白度指數(shù)為
Io測(cè)定的白度指數(shù)比實(shí)施例4的光學(xué)部件高并且變差。(實(shí)施例5)本實(shí)施例中，作為中間層，在氣相沉積中引入10-30cc的Ar的同時(shí)使用TiO2氣相沉積制造TiO2膜。進(jìn)而，與實(shí)施例I同樣地制造氧化鋁層。與實(shí)施例I同樣地，對(duì)制造的各光學(xué)部件測(cè)定白度指數(shù)。如下將白度指數(shù)歸一化，Ar的流動(dòng)速率為O時(shí)，白度指數(shù)為I。圖12表示結(jié)果。Ar的流動(dòng)速率為15cc時(shí)，白度指數(shù)為O. 97。因此，白度指數(shù)低。確認(rèn)白度指數(shù)得到改善。(比較例5)比較例5中，不同于實(shí)施例5，作為中間層，在沒(méi)有引入Ar下制造TiO2氣相沉積膜。白度指數(shù)為I。測(cè)定的白度指數(shù)比實(shí)施例5的光學(xué)部件高并且變差。根據(jù)本發(fā)明，光學(xué)部件能夠長(zhǎng)期維持穩(wěn)定的減反射性，因此能夠用于需要減反射功能的光學(xué)系統(tǒng)例如透鏡。盡管已參照例示實(shí)施方案對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了說(shuō)明，但應(yīng)理解本發(fā)明并不限于所公開(kāi) 的例示實(shí)施方案。下述權(quán)利要求的范圍應(yīng)給予最寬泛的解釋以包括所有這樣的變形以及等同的結(jié)構(gòu)和功能。
權(quán)利要求
1.光學(xué)部件，包括 中間層；和 在該中間層上層疊的氧化鋁層，該氧化鋁層有具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的表面，其中 該中間層包括空隙。
2.根據(jù)權(quán)利要求I的光學(xué)部件，其中該中間層的空隙率為1%_50%。
3.光學(xué)部件，包括 基材； 中間層；和 在該中間層上層疊的氧化鋁層，該氧化鋁層有具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的表面，其中 該中間層包括相對(duì)于該基材的表面垂直或傾斜的多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體，并且 該中間層在該多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體之間包括空隙。
4.光學(xué)部件的制造方法，該光學(xué)部件包括基材、中間層和在該中間層上層疊的氧化鋁層，該氧化鋁層有具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的表面， 該方法包括 在非活性氣體氣氛中在該基材上沉積蒸鍍材料以形成該中間層；和 在該中間層上形成含有鋁的膜，并且對(duì)該膜進(jìn)行熱水處理以在該膜的表面上形成氧化鋁層，該氧化鋁層具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)。
5.光學(xué)部件的制造方法，該光學(xué)部件包括基材、中間層和在該中間層上層疊的氧化鋁層，該氧化鋁層有具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的表面， 該方法包括 進(jìn)行在相對(duì)于該基材的表面傾斜的方向上在該基材上沉積蒸鍍材料的傾斜沉積以形成該中間層；和 在該中間層上形成含有鋁的膜，并且對(duì)該膜進(jìn)行熱水處理以在該膜的表面上形成氧化鋁層，該氧化鋁層具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的光學(xué)部件的制造方法，其中該基材的法線與氣相沉積方向之間形成的沉積角度Θ小于80°來(lái)進(jìn)行該傾斜沉積。
7.根據(jù)權(quán)利要求5的光學(xué)部件的制造方法，其中該傾斜沉積包括在該基材的表面上沉積主要組分為SiO2的蒸鍍材料。
8.光學(xué)系統(tǒng)，其使用根據(jù)權(quán)利要求I的光學(xué)部件。
全文摘要
本發(fā)明提供光學(xué)部件和該光學(xué)部件的制造方法，該光學(xué)部件能夠在防止全反射條件下的霧化的同時(shí)維持高水平的減反射性。該光學(xué)部件包括依次層疊的基材；中間層；和氧化鋁層，該氧化鋁層有具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)的表面。該中間層包括相對(duì)于基材表面傾斜的多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體，并且在該柱狀結(jié)構(gòu)體之間包括空隙。光學(xué)部件的制造方法包括通過(guò)傾斜沉積在基材表面上形成包括多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)體的中間層；和通過(guò)在該中間層上涂布含有鋁化合物的溶液來(lái)形成膜并且對(duì)該膜進(jìn)行熱水處理以在該膜表面上形成氧化鋁層，該氧化鋁層具有由氧化鋁晶體制成的不規(guī)則結(jié)構(gòu)。
文檔編號(hào)G02B1/02GK102645681SQ201210033810
公開(kāi)日2012年8月22日 申請(qǐng)日期2012年2月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月15日
發(fā)明者槇野憲治, 酒井明 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社