專利名稱：光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光聚合引發(fā)劑溶解性優(yōu)異的光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物、以及包含該光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物的光致抗蝕劑制造用組合物。
背景技術(shù)：
為了實現(xiàn)液晶顯示器等顯示裝置的彩色化，通常需要在兩張基板之間設(shè)置由紅(R)、綠(G)、藍(B)、黃(Y)等像素區(qū)域構(gòu)成的濾色器。但是，濾色器的各像素區(qū)域之間被無間隙地填埋時，則在其邊界會引起對比度降低等。為了防止該問題，通常，形成利用黒色的隔片將各顔色的像素區(qū)域分割開的黑色矩陣。為了形成黑色矩陣及濾色器，通?？墒褂霉庵驴刮g劑。對于黒色矩陣而言，有使用 金屬的遮光材料的黒色矩陣、及使用非金屬的遮光材料的黒色矩陣。近年來，出于環(huán)境方面的考慮，作為非金屬的黒色矩陣，樹脂黒色矩陣正在増加。樹脂黑色矩陣漿料由遮光材料、粘合劑樹脂、多官能単體、光聚合引發(fā)劑、溶劑等構(gòu)成。黑色矩陣經(jīng)過以下⑴ (6)的エ序來制造。(I)配制黒色矩陣漿料。(2)將上述黒色矩陣漿料涂布在基板上后進行薄層化。
(3)在100°C左右的溫度下蒸發(fā)溶劑并進行干燥。(4)照射100mJ/cm2左右強度的UV來進行光固化。(5)噴霧碳酸鈉水溶液，清洗不需要的樹脂成分。(6)在200°C左右的溫度下加熱以進行熱固化。在黒色矩陣的光固化中，由于配合有漿料組合物中所含的遮光劑，因此，到達深處的光變?nèi)?。因此，需要在漿料組合物中大量含有靈敏度高的光聚合引發(fā)劑。作為靈敏度高的光聚合引發(fā)劑，可以舉出具有咔唑骨架的肟酯類光聚合引發(fā)劑(專利文獻I)。但這些光聚合弓I發(fā)劑的溶解性差，難以大量溶解在溶劑中。因此，在專利文獻2中公開了如下內(nèi)容從對光聚合引發(fā)劑的溶解性方面考慮，可使用環(huán)己酮及包含環(huán)己酮的混合溶劑作為黑色矩陣的漿料用溶劑(專利文獻2)。但是，環(huán)己酮有生態(tài)毒性的擔心，并且作為VOC限制對象化合物，存在需要在操作中設(shè)定有機溶劑操作負責人等的限制，因此，正在尋求其代替溶剤。在濾色器及黒色矩陣用途中，從涂布性及顔料分散性方面考慮，其它的通常使用的溶劑包括丙ニ醇單甲醚こ酸酷、3-甲氧基丁醇こ酸酷、1，6_己ニ醇ニこ酸酷、1，3_ 丁ニ醇ニこ酸酷、ニ丙ニ醇單甲醚こ酸酷、ニ丙ニ醇ニ甲醚、ニこニ醇ニ甲醚、ニこニ醇ニこ醚、こ酸環(huán)己醇酷、丙ニ醇ニこ酸酷、ニ丙ニ醇ニこ酸酷、ニこニ醇單こ醚こ酸酷、ニこニ醇單丁醚こ酸酯等(專利文獻3、專利文獻4)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻I :日本專利第4448381號公報專利文獻2 :日本特開2009-173560號公報專利文獻3 :日本特開2009-271502號公報
專利文獻4 :日本特開2010-249869號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題因此，本發(fā)明的目的在于提供一種光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，在制造光致抗蝕劑時，所述光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物對靈敏度高的肟酯類光聚合引發(fā)劑的溶解性良好，并且不會損害電子材料用途的漿料組合物的特性。另外，本發(fā)明的目的在于提供一種光致抗蝕劑制造用組合物，該光致抗蝕劑制造用組合物包含所述光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，并且涂布性、顔料分散性、染料溶解性、環(huán)氧樹脂/丙烯酸樹脂溶解性、干燥性、安全性等優(yōu)異。解決問題的方法本發(fā)明人等為了解決上述課題進行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過使用特定的溶剤，可以實現(xiàn)對肟酯類光聚合引發(fā)劑的高溶解性。此外還發(fā)現(xiàn)，根據(jù)需要將上述溶劑與通常用于電子材料用途的溶劑混合，能夠進一歩提高涂布性、顔料分散性、染料溶解性、環(huán)氧樹脂/丙烯酸樹脂溶解性、干燥性、安全性等。本發(fā)明就是基于以上見解而完成的。S卩，本發(fā)明提供一種光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，其用于溶解肟酯類光聚合引發(fā)劑，該光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物包含溶劑A，所述溶劑A具有選自下述式(A)所示的化合物中的至少ー種化合物。[化學(xué)式I]
權(quán)利要求
1.一種光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，其用于溶解肟酯類光聚合引發(fā)劑，該光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物包含溶劑A，所述溶劑A具有選自下述式(A)所示的化合物中的至少ー種化合物，
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，其中，還包含至少ー種與所述溶劑A相溶的溶劑B。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，其中，包含30重量％以上的所述溶劑A。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，其中，包含50重量％以上的所述溶劑A。
5.根據(jù)權(quán)利要求I 4中任一項所述的光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，其中，肟酯類光聚合引發(fā)劑為下述式(PD所示的化合物(P1)，
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，其中，肟酯類光聚合引發(fā)劑為下述式⑴所示的化合物⑴
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，其中，肟酯類光聚合弓I發(fā)劑為下述式⑵所示的化合物⑵，且溶劑A為I，3-ニ甲基-3，4，5，6-四氫-2 (IH)-嘧啶酮，
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，其中，肟酯類光聚合弓I發(fā)劑為下述式⑶所示的化合物⑶，且溶劑A為I，3-ニ甲基-3，4，5，6-四氫-2 (IH)-嘧啶酮，
9.根據(jù)權(quán)利要求I 8中任一項所述的光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物，其中，肟酯類光聚合引發(fā)劑在20°C的溶解度為相對于100重量份溶劑組合物為4重量份以上。
10.一種光致抗蝕劑制造用組合物，其包含肟酯類光聚合引發(fā)劑、和權(quán)利要求I 4中任一項所述的光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光致抗蝕劑制造用組合物，其中，所述肟酯類光聚合引發(fā)劑為下述式(I)所示的化合物(I)、下述式(2)所示的化合物(2)或下述式(3)所示的化合物⑶，
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光致抗蝕劑制造用組合物，其中，所述肟酯類光聚合引發(fā)劑為上述化合物(I)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光致抗蝕劑制造用組合物，其中，所述肟酯類光聚合引發(fā)劑為上述化合物(2)，所述溶劑A為1，3_ ニ甲基-3，4，5，6_四氫_2(1Η)-嘧啶酮。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光致抗蝕劑制造用組合物，其中，所述肟酯類光聚合引發(fā)劑為上述化合物(3)，所述溶劑六為1，3-ニ甲基-3，4，5，6_四氫-2(1Η)-嘧啶酮。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物。在制造光致抗蝕劑時，所述光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物對靈敏度高的肟酯類光聚合引發(fā)劑的溶解性良好，且不會損害電子材料用途的漿料組合物的特性。所述光致抗蝕劑制造用溶劑或溶劑組合物用于溶解肟酯類光聚合引發(fā)劑，其包含溶劑A，所述溶劑A具有選自下述式(A)所示的化合物中的至少一種化合物。下述式(A)中，R1～R4相同或不同，分別為C1-2的烷基，R1和R3、或R2和R4任選相互鍵合而分別形成環(huán)。
文檔編號G03F7/004GK102681339SQ201210059260
公開日2012年9月19日 申請日期2012年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月8日
發(fā)明者赤井泰之, 鈴木陽二 申請人:株式會社大賽璐