專利名稱：液晶裝置及投影機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶裝置及投影機(jī)。
背景技術(shù)：
在作為投影機(jī)的光閥而使用的液晶裝置的圖像顯示區(qū)域，設(shè)置有射出光的像素部和形成有對(duì)該像素部供給電信號(hào)的布線的像素間區(qū)域。例如，在液晶裝置中，該像素間區(qū)域由遮光層覆蓋，在遮光層中不透射光。在這樣的液晶裝置中，期望從像素部射出的光的光量盡可能多，為明亮的光，要求實(shí)現(xiàn)高的光利用效率。例如，專利文獻(xiàn)I的液晶裝置，在液晶面板的光入射面和光射出面這 兩個(gè)面配置有微透鏡。通過(guò)微透鏡，將入射于液晶面板的對(duì)顯示不起作用的部分的光會(huì)聚于液晶面板的像素部，實(shí)現(xiàn)液晶面板的實(shí)質(zhì)上的開(kāi)ロ率的提聞。[專利文獻(xiàn)I]專利第2552389號(hào)公報(bào)在專利文獻(xiàn)I的液晶裝置中，由于液晶面板與微透鏡獨(dú)立地形成，所以不容易夾持液晶面板來(lái)定位ー對(duì)微透鏡，在液晶裝置的制造上花費(fèi)時(shí)間和旁力。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于這樣的情形而實(shí)現(xiàn)的，其目的在于提供可以實(shí)現(xiàn)高的光利用效率并且容易制造的液晶裝置及投影機(jī)。為了解決上述的問(wèn)題，本發(fā)明的液晶裝置，在配置于光的入射側(cè)的第I基板與配置于出射側(cè)的第2基板之間夾持液晶層而構(gòu)成，具備遮光部，其包括于前述第I基板或前述第2基板的任意ー個(gè)，并在與像素俯視重疊的位置具備透光區(qū)域，在與前述像素間俯視重疊的位置具備遮光區(qū)域；聚光透鏡，其包括于前述第I基板，使入射的光聚光于前述遮光部的透光區(qū)域的內(nèi)側(cè)；以及棱鏡元件，其包括于前述第2基板，并在與前述遮光區(qū)域俯視重疊的位置使通過(guò)前述透光區(qū)域并擴(kuò)散了的光聚光；其中，前述棱鏡元件包含形成于前述第2基板的溝。在該液晶裝置中，利用聚光透鏡使入射于遮光部的光會(huì)聚于遮光部的透光區(qū)域，利用棱鏡元件使通過(guò)該透光區(qū)域并擴(kuò)散了的光聚光。此外，由于在第2基板形成溝而制作包含該溝的棱鏡元件，所以棱鏡元件的定位變得容易。因此，能夠提供可以實(shí)現(xiàn)高的光利用效率并且容易制造的液晶裝置。在前述液晶裝置中，優(yōu)選前述溝的深度比前述溝的寬度大。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠切實(shí)地使通過(guò)遮光部的透光區(qū)域并擴(kuò)散了的光聚光。相對(duì)于此，若溝的深度比溝的寬度小，則有時(shí)無(wú)法充分地使通過(guò)遮光部的透光區(qū)域并擴(kuò)散了的光聚光。在前述液晶裝置中，優(yōu)選前述遮光部包括相互交叉地配置的數(shù)據(jù)線和掃描線；前述溝為剖視V狀；前述溝的與前述數(shù)據(jù)線重疊的部分的寬度和與前述掃描線重疊的部分的寬度相互相等；前述溝的與前述數(shù)據(jù)線重疊的部分的深度和與前述掃描線重疊的部分的深度相互相等。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，溝的與數(shù)據(jù)線重疊的部分的前端部的角度和與掃描線重疊的部分的前端部的角度相互相等。因此，棱鏡元件的與數(shù)據(jù)線重疊的部分的剖面形狀和與掃描線重疊的部分的剖面形狀為相同形狀。因此，能夠使通過(guò)遮光部的透光區(qū)域并擴(kuò)散了的光均勻地聚光。在前述液晶裝置中，也可以在前述遮光部與前述棱鏡元件之間形成有封塞前述溝的前述液晶層側(cè)的部分的蓋部；前述溝的內(nèi)部為中空。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于溝的內(nèi)部(例如空氣層、真空)的折射率比第2基板的折射率小，所以通過(guò)遮光部的透光區(qū)域并擴(kuò)散了的光在入射于棱鏡元件時(shí)容易滿足全反射條件。因此，能夠切實(shí)地使通過(guò)遮光部的透光區(qū)域并擴(kuò)散了的光聚光。在前述液晶裝置中，優(yōu)選前述蓋部的前述遮光部側(cè)的面為平坦面。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，在蓋部的上部形成有布線等的情況下斷線等的可能性減小。在前述液晶裝置中，也可以在前述溝的前述液晶層側(cè)的部分嵌入有前述蓋部的一部分；在前述溝的至少與嵌入有前述蓋部的一部分的部分重疊的部分形成有反射膜。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，在通過(guò)遮光部的透光區(qū)域并擴(kuò)散了的光入射于構(gòu)成棱鏡元件的溝的嵌入有蓋部的一部分的部分的情況下，也能夠通過(guò)形成于該部分的反射膜使入射于該部分的光反射。因此，能夠切實(shí)地使通過(guò)遮光部的透光區(qū)域并擴(kuò)散了的光聚光。在前述液晶裝置中，也可以在前述溝的內(nèi)部形成有反射膜。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，棱鏡元件的光入射面作為反射面起作用。因此，能夠切實(shí)地使通過(guò)遮光部的透光區(qū)域并擴(kuò)散了的光聚光。本發(fā)明的投影機(jī)具備光源裝置；根據(jù)圖像信息對(duì)從前述光源裝置射出的光進(jìn)行調(diào)制的上述的液晶裝置；以及將來(lái)自前述液晶裝置的調(diào)制光作為投影圖像進(jìn)行投影的投影光學(xué)系統(tǒng)。根據(jù)該投影機(jī)，由于具備上述的液晶裝置，所以能夠提供可以實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)的圖像顯示的投影機(jī)。


圖I是表示本發(fā)明的第I實(shí)施方式所涉及的投影機(jī)的光學(xué)系統(tǒng)的示意圖。圖2是表示液晶裝置的整體結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖3是該液晶裝置的剖視結(jié)構(gòu)圖。圖4是表示該液晶裝置的電結(jié)構(gòu)的電路圖。圖5是表示該液晶裝置的圖像顯示區(qū)域中的布線等的位置關(guān)系的示意圖。圖6是該液晶裝置的部分剖視結(jié)構(gòu)圖。圖7是棱鏡元件的立體圖。圖8是用于說(shuō)明該棱鏡元件的作用的圖。圖9是用于說(shuō)明該液晶裝置的制造方法的剖面エ序圖。圖10是用于說(shuō)明該液晶裝置的制造方法的剖面エ序圖。圖11是本發(fā)明的第2實(shí)施方式所涉及的液晶裝置的部分剖面結(jié)構(gòu)圖。圖12是用于說(shuō)明該液晶裝置的制造方法的剖面エ序圖。
圖13是本發(fā)明的第3實(shí)施方式所涉及的液晶裝置的部分剖面結(jié)構(gòu)圖。圖14是用于說(shuō)明該液晶裝置的制造方法的剖面エ序圖。符號(hào)說(shuō)明100…投影機(jī)，101…光源裝置，114…投影光學(xué)系統(tǒng)，120R、120RA、120RB…液晶裝置，200…對(duì)置基板(第I基板)，201…聚光透鏡，205...液晶層，207…遮光部，207a…遮光層(遮光區(qū)域)，207b…開(kāi)ロ部(透光區(qū)域)，208…TFT陣列基板(第2基板)，211、211A、211B…棱鏡元件，211a···溝，212…蓋部，213、213B…反射膜，221…數(shù)據(jù)線，222…掃描線，Dv…溝的深度，DvL···溝的與數(shù)據(jù)線重疊的部分的深度，Dv2…溝的與掃描線重疊的部分的深度，Wv…溝的寬度，Wvl···溝的與數(shù)據(jù)線重疊的部分的寬度，Wv2···溝的與掃描線重疊的部分的寬度。
具體實(shí)施方式

以下，參照附圖，關(guān)于本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。該實(shí)施方式表示本發(fā)明的一方式，并非要限定該發(fā)明，在本發(fā)明的技術(shù)思想的范圍內(nèi)可以任意地進(jìn)行改變。此外，在以下的附圖中，為了使各結(jié)構(gòu)容易理解，使各結(jié)構(gòu)的比例尺和/或數(shù)量等與實(shí)際的結(jié)構(gòu)不同。第I實(shí)施方式(投影機(jī))圖I是表示本發(fā)明的第I實(shí)施方式所涉及的投影機(jī)100的光學(xué)系統(tǒng)的示意圖。如圖I所示，投影機(jī)100構(gòu)成為具備光源裝置101、積分器104、偏振變換元件105、色分離導(dǎo)光光學(xué)系統(tǒng)102、作為光調(diào)制裝置的液晶光調(diào)制裝置110R、液晶光調(diào)制裝置110G、液晶光調(diào)制裝置110B、十字分色棱鏡112及投影光學(xué)系統(tǒng)114。光源裝置101供給包含作為第I色光的紅色光(以下稱為“R光”)、作為第2色光的緑色光(以下稱為“G光”)及作為第3色光的藍(lán)色光(以下稱為“B光”)的光。作為光源裝置101，例如能夠使用超高壓水銀燈。積分器104將來(lái)自光源裝置101的光的照度分布均勻化。照度分布均勻化后的光通過(guò)偏振變換兀件105被變換為具有特定的振動(dòng)方向的偏振光、例如相對(duì)于色分離導(dǎo)光光學(xué)系統(tǒng)102的反射面進(jìn)行s偏振的s偏振光。變換為s偏振光后的光入射于構(gòu)成色分離導(dǎo)光光學(xué)系統(tǒng)102的R光透射分色鏡106R。色分離導(dǎo)光光學(xué)系統(tǒng)102，構(gòu)成為具備R光透射分色鏡106R、B光透射分色鏡106G、3塊反射鏡107、2塊中繼透鏡108。R光透射分色鏡106R使R光透射，且反射G光、B光。透射過(guò)R光透射分色鏡106R的R光入射于反射鏡107。反射鏡107使R光的光路折曲90度。光路折曲后的R光入射于 R光用液晶光調(diào)制裝置110R。R光用液晶光調(diào)制裝置110R，是根據(jù)圖像信號(hào)對(duì)R光進(jìn)行調(diào)制的透射型的液晶裝置。R光用液晶光調(diào)制裝置IlOR具有λ /2相位差板123R、玻璃板124R、第I偏振板121R、液晶裝置120R及第2偏振板122R。λ /2相位差板123R及第I偏振板121R，以與不使偏振方向變換的透光性的玻璃板124R相接觸的狀態(tài)配置。另外，在圖I中，第2偏振板122R獨(dú)立地設(shè)置，但是也可以以與液晶裝置120R的射出面或十字分色棱鏡112的入射面相接觸的狀態(tài)配置。
由R光透射分色鏡106R反射后的G光和B光其光路折曲90度。光路折曲后的G光和B光入射于B光透射分色鏡106G。B光透射分色鏡106G反射G光，使B光透射。由B光透射分色鏡106G反射后的G光，入射于G光用液晶光調(diào)制裝置110G。G光用液晶光調(diào)制裝置IlOG是根據(jù)圖像信號(hào)對(duì)G光進(jìn)行調(diào)制的透射型的液晶裝置。G光用液晶光調(diào)制裝置IlOG具有液晶裝置120G、第I偏振板121G及第2偏振板122G。入射于G光用液晶光調(diào)制裝置IlOG的G光被變換為s偏振光。入射于G光用液晶光調(diào)制裝置IlOG的s偏振光原樣透射過(guò)第I偏振板121G，入射于液晶裝置120G。入射于液晶裝置120G的s偏振光，通過(guò)根據(jù)圖像信號(hào)的調(diào)制，G光被變換為ρ偏振光。通過(guò)液晶裝置120G的調(diào)制，被變換為了 ρ偏振光的G光從第2偏振板122G射出。這樣，由G光用液晶光調(diào)制裝置IlOG調(diào)制后的G光入射于十字分色棱鏡112。
透射過(guò)了 B光透射分色鏡106G的B光，經(jīng)由2塊中繼透鏡108和2塊反射鏡107入射于B光用液晶光調(diào)制裝置110B。B光用液晶光調(diào)制裝置110B，是根據(jù)圖像信號(hào)對(duì)B光進(jìn)行調(diào)制的透射型的液晶裝置。B光用液晶光調(diào)制裝置110B，具有入/2相位差板1238、玻璃板124B、第I偏振板121B、液晶裝置120B及第2偏振板122B。入射于B光用液晶光調(diào)制裝置IlOB的B光,被變換為s偏振光。入射于B光用液晶光調(diào)制裝置IlOB的s偏振光,通過(guò)λ /2相位差板123Β被變換為ρ偏振光。被變換為了P偏振光的B光，原樣透射過(guò)玻璃板124Β及第I偏振板121Β，入射于液晶裝置120Β。入射于液晶裝置120Β的ρ偏振光，通過(guò)根據(jù)圖像信號(hào)的調(diào)制，B光被變換為s偏振光。通過(guò)液晶裝置120Β的調(diào)制，被變換為了 s偏振光的B光從第2偏振板122Β射出。由B光用液晶光調(diào)制裝置IlOB調(diào)制后的B光入射于十字分色棱鏡112。這樣，構(gòu)成色分離導(dǎo)光光學(xué)系統(tǒng)102的R光透射分色鏡106R和B光透射分色鏡106G將從光源裝置101供給的光分離為作為第I色光的R光、作為第2色光的G光和作為第3色光的B光。作為色合成光學(xué)系統(tǒng)的十字分色棱鏡112通過(guò)將2個(gè)分色膜112a、112b以X型正交地配置而構(gòu)成。分色膜112a反射B光，使G光透射。分色膜112b反射R光，使G光透射。這樣，十字分色棱鏡112對(duì)由R光用液晶光調(diào)制裝置110R、G光用液晶光調(diào)制裝置IlOG及B光用液晶光調(diào)制裝置IlOB分別調(diào)制后的R光、G光及B光進(jìn)行合成。投影光學(xué)系統(tǒng)114將由十字分色棱鏡112合成后的光投影于屏幕116。由此，能夠在屏幕116上獲得全彩色圖像。(液晶裝置)在圖I中說(shuō)明的投影機(jī)100具備3塊液晶裝置120R、120G、120B。這3塊液晶裝置120R、120G、120B，由于僅所調(diào)制的光的波長(zhǎng)區(qū)域不同，而基本結(jié)構(gòu)相同，所以以下舉液晶裝置120R為例進(jìn)行說(shuō)明。圖2是表示液晶裝置120R的整體結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖3是液晶裝置120R的剖面結(jié)構(gòu)圖。另外，圖3是沿著圖2的A-A線的剖視圖。如圖2所示，液晶裝置120R具有使TFT陣列基板(第2基板)208與對(duì)置基板(第I基板)200重疊并且通過(guò)設(shè)置于兩者間的密封件52相粘貼的結(jié)構(gòu)。在通過(guò)密封件52劃分出的區(qū)域內(nèi)封入有液晶層205。在密封件52的形成區(qū)域的內(nèi)側(cè)，形成有包含遮光性材料的周邊間隔件53。
在密封件52的外側(cè)的區(qū)域，沿著TFT陣列基板208的ー邊形成有數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)電路41及外部電路安裝端子42，沿著與該ー邊相鄰的2邊形成有掃描線驅(qū)動(dòng)電路54。在TFT陣列基板208的剰余的ー邊，設(shè)置有多條布線55，該多條布線55用于將設(shè)置于圖像顯示區(qū)域的兩側(cè)的掃描線驅(qū)動(dòng)電路54之間相連接。此外，在對(duì)置基板200的角部，配設(shè)有用于在TFT陣列基板208與對(duì)置基板200之間獲得電導(dǎo)通的基板間導(dǎo)通件56。另外，也可以不將數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)電路41及掃描線驅(qū)動(dòng)電路54形成于TFT陣列基板208上，而代之例如，經(jīng)由各向異性導(dǎo)電膜將安裝有驅(qū)動(dòng)用LSI的TAB (Tape AutomatedBonding,帶自動(dòng)固定)基板與在TFT陣列基板208的周邊部形成的端子組電及機(jī)械性地連接。如圖3所示，在液晶裝置120R的光入射側(cè)，設(shè)置有包含多個(gè)聚光透鏡201 (微透鏡)的透鏡陣列202 (微透鏡陣列)。透鏡陣列202經(jīng)由例如具有光透射性的光學(xué)粘接劑等(圖示省略)固定于對(duì)置基板主體200A。在透鏡陣列202中，多個(gè)聚光透鏡201的各個(gè)配置為與多個(gè)像素的各個(gè)重疊。透鏡陣列202具有多個(gè)聚光透鏡201排列為矩陣狀的結(jié)構(gòu)。 聚光透鏡201具有使從對(duì)置基板200側(cè)入射的光聚光于遮光部203的開(kāi)ロ部203b (透光區(qū)域)的內(nèi)側(cè)的功能。另外，對(duì)置基板200通過(guò)將對(duì)置基板主體200A與透鏡陣列202相粘貼而構(gòu)成，但是并不限于此。例如，也可以將多個(gè)聚光透鏡201制作于對(duì)置基板200中。在對(duì)置基板200(對(duì)置基板主體200A)的內(nèi)側(cè)表面，形成有遮光層203a(遮光區(qū)域)和共用電極204。在共用電極204的表面上形成有取向膜204c。在TFT陣列基板208，設(shè)置有遮光部207、像素電極206a、驅(qū)動(dòng)該像素電極206a的TFT (Thin Film Transistor，薄膜晶體管)225、取向膜206c和棱鏡元件211。遮光層207a(遮光區(qū)域)在棱鏡元件211上形成為格子狀。遮光層207a通過(guò)數(shù)據(jù)線221和掃描線222構(gòu)成。另外，遮光層也可以與數(shù)據(jù)線及掃描線分體構(gòu)成。被該遮光層207a包圍的矩形狀的區(qū)域成為開(kāi)ロ部207b(參照?qǐng)D6，透光區(qū)域)。開(kāi)ロ部207b是使來(lái)自光源裝置101的R光通過(guò)的像素部。棱鏡元件211具有使從對(duì)置基板200側(cè)入射且通過(guò)聚光透鏡201、液晶層205及開(kāi)ロ部207b而擴(kuò)散了的光聚光的功能。像素電極206a設(shè)置于與開(kāi)ロ部207b俯視重疊的區(qū)域。與棱鏡元件211對(duì)應(yīng)的溝及遮光層207a與相互相鄰的2個(gè)像素電極206a之間的區(qū)域重疊地配置。TFT225(參照?qǐng)D4)和/或?qū)υ揟FT225供給電信號(hào)的布線(未圖示)等設(shè)置于與遮光層207a俯視重疊的區(qū)域。此外，取向膜206c形成于像素電極206a、TFT225的表面上。在TFT陣列基板208側(cè)的取向膜206c與對(duì)置基板200側(cè)的取向膜204c之間，封入有液晶層205。來(lái)自光源裝置101的R光，從圖3的上側(cè)入射于液晶裝置120R，依次透射過(guò)開(kāi)ロ部204b、共用電極204、取向膜204c、液晶層205、取向膜206c、像素電極206a，|TFT陣列基板208側(cè)向屏幕116的方向射出。此時(shí)，R光在液晶層205中被進(jìn)行偏振分量的調(diào)制。圖4是表示液晶裝置120R的電結(jié)構(gòu)的電路圖。如圖4所示，在構(gòu)成圖像顯示區(qū)域的、形成為矩陣狀的多個(gè)像素的各個(gè)中，形成有像素電極206a及TFT225。TFT225電連接于像素電極206a，其在液晶裝置120R的工作時(shí)，以交替切換對(duì)于像素電極206a的圖像信號(hào)的供給及非供給的方式，對(duì)像素電極206a進(jìn)行開(kāi)關(guān)控制。被供給圖像信號(hào)的數(shù)據(jù)線221，電連接于TFT225的源區(qū)域。
在TFT225的柵上電連接著掃描線222。液晶裝置120R構(gòu)成為以預(yù)定的定時(shí)，對(duì)掃描線222以脈沖方式依次按線順序施加掃描信號(hào)G1、G2、. . .、Gm。像素電極206a電連接于TFT225的漏。對(duì)像素電極206a，通過(guò)將作為開(kāi)關(guān)元件的TFT225閉合一定期間，從數(shù)據(jù)線221供給的圖像信號(hào)S1、S2.....Sn以預(yù)定的定時(shí)寫入于各像素的液晶。寫入于液晶的預(yù)定電平的圖像信號(hào)S1、S2、. . .、Sn由在像素電極206a與形成于對(duì)置基板200的共用電極204之間形成的液晶電容保持一定期間。另外，為了防止所保持的圖像信號(hào)泄漏，在像素電極206a與電容線223之間形成有存儲(chǔ)電容70，其與液晶電容并列地配置。這樣，若對(duì)液晶施加電壓信號(hào)，則液晶的取向狀態(tài)根據(jù)所施加的電壓電平而變化。由此，可以對(duì)入射于液晶的光進(jìn)行調(diào)制而實(shí)現(xiàn)灰度等級(jí)顯示。構(gòu)成液晶層205的液晶，其分子集合的取向和/或秩序根據(jù)所施加的電壓電平而變化，由此對(duì)光進(jìn)行調(diào)制，可以實(shí)現(xiàn)灰度等級(jí)顯示。例如，在常白模式的情況下，與以各像素為單位施加的電壓相應(yīng)地，對(duì)于入射光的透射率減小。在常黑模式的情況下，與以各像素為単位施加的電壓相應(yīng)地，對(duì)于入射光的透射率増加，整體從液晶裝置出射具有與圖像信號(hào)相應(yīng)的對(duì)比度的光。 圖5是表示液晶裝置120R的圖像顯示區(qū)域的布線等的位置關(guān)系的示意圖。如圖5所示，在TFT陣列基板208上，沿著X方向及Y方向延伸有構(gòu)成本發(fā)明的遮光層207a的掃描線222和數(shù)據(jù)線221。在數(shù)據(jù)線221與掃描線222的交叉處附近，以與掃描線222重疊的方式形成有TFT225 (半導(dǎo)體層225a及柵電極225b)。掃描線222包含遮光性的導(dǎo)電材料、例如W(鎢)、Ti (鈦)、TiN(氮化鈦)等，且以包含TFT225的半導(dǎo)體層225a的方式形成得比半導(dǎo)體層225a寬度寬。掃描線222配置于半導(dǎo)體層225a的下層側(cè)。掃描線222由于具有遮光性，所以與數(shù)據(jù)線221 —起規(guī)定圖像顯示區(qū)域的非開(kāi)ロ區(qū)域。數(shù)據(jù)線221的寬度與掃描線222的寬度既可以是相等的寬度，也可以是相互不同的寬度。在本實(shí)施方式中，數(shù)據(jù)線221的寬度與掃描線222的寬度相互不同，掃描線222的寬度這一方比數(shù)據(jù)線221的寬度大。另外，在包括數(shù)據(jù)線221及掃描線222的遮光層207a的下層形成的棱鏡元件211的溝211a的寬度Wv在與數(shù)據(jù)線221重疊的部分(Wvl)和與掃描線222重疊的部分(Wv2)相等(參照?qǐng)D7)。TFT225構(gòu)成為具有半導(dǎo)體層225a和柵電極225b。半導(dǎo)體層225a包含源區(qū)域225al、溝道區(qū)域225a2和漏區(qū)域225a3而形成。另外，在溝道區(qū)域225a2與源區(qū)域225al或溝道區(qū)域225a2與漏區(qū)域225a3的界面，也可以形成有LDD (Lightly Doped Drain，輕摻雜漏)區(qū)域。柵電極225b，在TFT陣列基板208上在俯視與半導(dǎo)體層225a的溝道區(qū)域重疊的區(qū)域隔著柵絕緣膜形成。省略了圖示，柵電極225b經(jīng)由接觸孔234電連接于配置于下層側(cè)的掃描線222，通過(guò)被施加掃描信號(hào)而對(duì)TFT225進(jìn)行導(dǎo)通/截止控制。數(shù)據(jù)線221由于在TFT225上與TFT225重疊，所以可以對(duì)TFT225從其上側(cè)進(jìn)行遮光。數(shù)據(jù)線221電連接于作為本發(fā)明的“輸入端子”的一例的接觸孔231。數(shù)據(jù)線221例如電連接于TFT225的源區(qū)域225al (參照?qǐng)D6)，并且構(gòu)成對(duì)TFT225供給圖像信號(hào)的數(shù)據(jù)線的一部分。另ー方面，漏區(qū)域225a3經(jīng)由構(gòu)成本發(fā)明的“輸出端子”的一例的接觸孔232及中繼層227以及作為本發(fā)明的“連接部”的一例的接觸孔233電連接于像素電極206a(參照?qǐng)D6)。圖6是液晶裝置120R的部分剖面結(jié)構(gòu)圖。另外，圖6是沿著圖5的B-B線的剖視圖。如圖6所示，在TFT陣列基板208上，形成有絕緣膜241、242、243及245以及電介質(zhì)膜72。掃描線222、TFT225、數(shù)據(jù)線221、電容電極71及像素電極206a分別形成于TFT陣列基板208、絕緣膜241、絕緣膜243、絕緣膜244及電介質(zhì)膜72的各個(gè)上。電容電極71例如包含ITO等透明導(dǎo)電材料，與像素電極206a —起構(gòu)成存儲(chǔ)電極70的一對(duì)電容電極。電容電極71與圖像顯示區(qū)域的大致整體重疊，在可以透射光的開(kāi)ロ區(qū)域延伸于數(shù)據(jù)線221的上層側(cè)。電介質(zhì)膜72是在可以透射光的開(kāi)ロ區(qū)域，形成于電容電極71上的透明的膜。電介質(zhì)膜72包含介電常數(shù)比其他的電介質(zhì)膜相對(duì)高的氧化鋁，且在開(kāi)ロ區(qū)域與電容電極71 及像素電極206a —起構(gòu)成存儲(chǔ)電容70。由于氧化鋁的介電常數(shù)比其他的電介質(zhì)材料相對(duì)尚，所以在存儲(chǔ)電容70的尺寸一定的情況下可以提聞能夠設(shè)定的電容值。另外，在提聞存儲(chǔ)電容70的電容值方面，電介質(zhì)膜72的膜厚較薄為宜。(棱鏡元件)棱鏡元件211配置于TFT陣列基板208中與遮光層俯視重疊的位置。棱鏡元件211包含形成于TFT陣列基板208的V狀的溝211a。棱鏡元件211的溝211a的寬度Wv比遮光層的寬度Wx小。另外，溝的寬度Wv也可以是與遮光層的寬度Wx相同程度的大小。即，溝的寬度Wv只要為遮光層的寬度Wx以下即可。棱鏡元件211的溝211a的深度Dv比溝211a的寬度Wv大。例如，在將溝211a的寬度Wv設(shè)定為I. 5 2 μ m的范圍的寬度的情況下，溝211a的深度Dv能夠設(shè)定為15 20 μ m的范圍的深度。在遮光層207a與棱鏡元件211之間，形成有封塞溝211a的液晶層205側(cè)的部分(上側(cè)的開(kāi)ロ部分)的蓋部212。蓋部212的遮光層側(cè)的面為平坦面。溝211a的內(nèi)部(由溝211a與蓋部212包圍的區(qū)域)為中空(例如空氣層、真空)。棱鏡元件211，通過(guò)將其溝211a的內(nèi)部設(shè)定為中空，能夠構(gòu)成為具有比TFT陣列基板208和/或蓋部212的折射率(例如η = I. 4)小的折射率(例如η = I. O)。圖7是棱鏡元件的立體圖。如圖7所示，棱鏡元件211構(gòu)成為包含格子狀的溝211a。在圖7中，將溝211a的與數(shù)據(jù)線重疊的部分的寬度設(shè)定為Wvl，將其與掃描線重疊的部分的寬度設(shè)定為Wv2，將溝211a的與數(shù)據(jù)線重疊的部分的深度設(shè)定為Dvl，將其與掃描線重疊的部分的深度設(shè)定為Dv2，將溝211a的與數(shù)據(jù)線重疊的部分的前端部的角度設(shè)定為Θ vl，將其與掃描線重疊的部分的前端部的角度設(shè)定為Θν2。溝211a的與數(shù)據(jù)線重疊的部分的寬度Wvl和與掃描線重疊的部分的寬度Wv2相互相等(Wvl = Wv2)。溝211a的與數(shù)據(jù)線重疊的部分的深度Dvl和與掃描線重疊的部分的深度Dv2相互相等(Dvl = Dv2)。由此，溝211a的與數(shù)據(jù)線重疊的部分的前端部的角度Θ vl和與掃描線重疊的部分的前端部的角度θ v2相互相等(Θ vl = Θ V2)。圖8是用于說(shuō)明棱鏡元件211的作用的圖。在圖8中，符號(hào)L1、L2及L3是向液晶裝置120R入射的光線。光線L1、L2及L3在存在折射率差的界面反射或折射。在圖8的說(shuō)明中，為了說(shuō)明的簡(jiǎn)單，在折射率差微小的界面使光線直線前進(jìn)來(lái)表示光路。首先，關(guān)于不經(jīng)由棱鏡元件211而向開(kāi)ロ部207b直接入射的光線LI進(jìn)行說(shuō)明。在空氣中行進(jìn)來(lái)的光線LI向?qū)χ没?00從入射面200a入射。然后，光線LI透射過(guò)對(duì)置基板200，且從開(kāi)ロ部203b透射過(guò)共用電極204、液晶層205。根據(jù)圖像信號(hào)被調(diào)制后的光線LI透射過(guò)像素電極206a而從TFT陣列基板208射出。光線LI會(huì)聚于與TFT陣列基板的光射出面相距預(yù)定距離的焦點(diǎn)。其后，會(huì)聚后的光線LI經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)114向未圖示的屏幕116投影。接著，關(guān)于入射干與光線LI不同的位置(入射干與遮光層203a重疊的位置)的光線L2、L3進(jìn)行說(shuō)明。光線L2、L3向?qū)χ没?00在入射面200a中入射。在對(duì)置基板200內(nèi)行進(jìn)的光線し2、L3入射于聚光透鏡201,并朝向像素電極206a聚光。通過(guò)聚光透鏡201聚光后的光L2、L3在通過(guò)液晶層205的過(guò)程中擴(kuò)散。在該過(guò)程中擴(kuò)散后的光L2、L3入射于棱鏡元件211的斜面。 棱鏡元件211由于內(nèi)部中空，所以折射率比TFT陣列基板208小。在本實(shí)施方式中，棱鏡元件211具有使入射的光線L2、L3在該棱鏡元件211的斜面全反射的折射率。光線L2、L3通過(guò)在棱鏡元件211的斜面全反射而改變光路。如上所述，對(duì)于開(kāi)ロ部207b，從例如作為光源部的光源裝置101行進(jìn)來(lái)各種入射角度的光線LI、L2、L3。向開(kāi)ロ部207b大致筆直地入射的光線LI原樣根據(jù)圖像信號(hào)被進(jìn)行調(diào)制并從TFT陣列基板208射出。相對(duì)于此，向開(kāi)ロ部207b的周邊的非調(diào)制區(qū)域即遮光層207a的方向斜向入射的光線L2、L3入射于設(shè)置于開(kāi)ロ部207b的周邊的、作為光路改變部起作用的棱鏡元件211。入射于棱鏡元件211的光線L2、L3被向開(kāi)ロ部207b的方向反射。由此，通過(guò)反射使原本不向開(kāi)ロ部207b入射的光線L2、L3的光路改變，由此能夠高效地將其向開(kāi)ロ部207b引導(dǎo)。并且，從液晶裝置120R射出的光由投影光學(xué)系統(tǒng)114沒(méi)有反沖地投影于屏幕116。這樣，能夠向開(kāi)ロ部207b高效地引導(dǎo)光線L2、L3。(液晶裝置的制造方法)圖9及圖10是用于說(shuō)明液晶裝置的制造方法的剖面エ序圖。接著，關(guān)于如上所述構(gòu)成的液晶裝置120R之中在TFT陣列基板208形成棱鏡元件211并形成遮光層207a的エ序進(jìn)行說(shuō)明。圖9(a) 圖9(c)表示形成棱鏡元件211的溝211a的エ序。圖10(a) 圖10(c)表示在棱鏡元件211的溝211a的上部形成蓋部212且在該蓋部212上形成遮光層207a的エ序。棱鏡元件211的溝211a能夠通過(guò)基于激光應(yīng)用的方法和/或使用干法蝕刻エ藝的方法而形成。在基于激光應(yīng)用的方法中，能夠基于預(yù)先設(shè)定的數(shù)據(jù)對(duì)透明基板照射0)2激光，由此形成棱鏡元件。圖9(a) 圖9(c)所示的エ序通過(guò)使用厚膜抗蝕劑的干法蝕刻エ藝，來(lái)形成上述的溝211a。首先，如圖9 (a)所示，在基板61形成樹脂抗蝕劑層62?；?1能夠使用玻璃基板和/或透明樹脂基板。樹脂抗蝕劑層62是掩模層，例如以50 μ m 200 μ m的厚度涂敷。接著，如圖9(b)所示，為了除去要形成棱鏡元件211的位置的樹脂抗蝕劑層62，進(jìn)行圖案形成。
接著，以進(jìn)行圖案形成后的樹脂抗蝕劑層62作為硬掩模，進(jìn)行干蝕刻。在干蝕刻中，使用例如可以形成高密度等離子的ICP干蝕刻裝置。通過(guò)干蝕刻，如圖9(c)所示，在基板61形成剖面為等腰三角形的溝211a。作為在蝕刻區(qū)域能夠均勻地形成高密度等離子的蝕刻氣體，優(yōu)選使用例如C4F8和/或CHF3等氟化物類氣體。通過(guò)將基板61的材料與樹脂抗蝕劑層62的材料的蝕刻選擇比設(shè)定為例如4比1，能夠在基板61形成相對(duì)于樹脂抗蝕劑層62的厚度、具有大致4倍的深度的溝211a。為了防止由蝕刻環(huán)境引起的抗蝕劑的碳化，除了通過(guò)冷卻器(チラ一)對(duì)基板61進(jìn)行冷卻之夕卜，也可以在蝕刻周期之間設(shè)置冷卻時(shí)間。接著，參照?qǐng)D10，對(duì)在棱鏡元件211的溝211a的上部形成蓋 部212、進(jìn)而在其上形成遮光層207a的エ序進(jìn)行說(shuō)明。首先，如圖10(a)所示，形成封塞溝211a的上側(cè)的開(kāi)ロ部分的蓋部212。蓋部212優(yōu)選由具有絕緣性且能夠在物理上、化學(xué)上保護(hù)溝211a的材料構(gòu)成。在本例中，使用可以用與TFT的制造エ藝相同的エ藝形成的絕緣膜即氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiN)等。另外，作為蓋部212的形成方法，使用CVD法等。接著，如圖10(b)所示，通過(guò)化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)將蓋部212的上表面平坦化。另夕卜，蓋部212的厚度只要是在溝211a上隔著該蓋部212能夠形成遮光層207a的程度、實(shí)現(xiàn)前述的保護(hù)功能的程度即可。例如，蓋部212的厚度優(yōu)選設(shè)定為I μ m以上且10 μ m以下的范圍的厚度。若假設(shè)蓋部212的厚度比Iym薄，則難以在溝211a上形成遮光層207a。此夕卜，若蓋部212的厚度比10 μ m大，則有時(shí)遮光層207a與棱鏡元件過(guò)于分離，不能夠由棱鏡元件反射透射過(guò)遮光層207a并擴(kuò)散了的光。接著，如圖10(c)所示，在蓋部212的上表面形成遮光層207a。在該蓋部212上形成例如由Cr、Al等金屬材料和/或黑色樹脂等構(gòu)成的遮光層207a。作為遮光層207a的形成方法，能夠使用濺射法和/或CVD法等公知的成膜方法。其后，形成像素電極和/或取向膜等，由此能夠制作TFT陣列基板208。然后，與另外制作的對(duì)置基板200粘貼，并在基板間密封液晶層205，由此能夠制造液晶裝置120R。根據(jù)本實(shí)施方式的液晶裝置120R，利用聚光透鏡201使入射于遮光部203的光會(huì)聚于遮光部207的開(kāi)ロ部207b，利用棱鏡元件211使通過(guò)該開(kāi)ロ部207b并擴(kuò)散了的光聚光。此外，由于在TFT陣列基板208形成溝211a而制作包含該溝211a的棱鏡元件211，所以棱鏡元件211的定位變得容易。因此，能夠提供可以實(shí)現(xiàn)高的光利用效率并且容易制造的液晶裝置120R。此外，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠切實(shí)地使通過(guò)遮光部207的開(kāi)ロ部207b并擴(kuò)散了的光聚光。相對(duì)于此，若溝211a的深度Dv比溝211a的寬度Wv小，則有時(shí)無(wú)法充分地使通過(guò)遮光部207的開(kāi)ロ部207b并擴(kuò)散了的光聚光。此外，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，溝211a的與數(shù)據(jù)線221重疊的部分的前端部的角度θ V1和與掃描線222重疊的部分的前端部的角度θ V2相互相等。因此，棱鏡元件211的與數(shù)據(jù)線221重疊的部分的剖面形狀和與掃描線222重疊的部分的剖面形狀為相同形狀。因此，能夠使通過(guò)遮光部207的開(kāi)ロ部207b并擴(kuò)散了的光均勻地聚光。相對(duì)于此，若溝211a的與數(shù)據(jù)線221重疊的部分的寬度Wvl和與掃描線222重疊的部分的寬度Wv2不同、溝211a的與數(shù)據(jù)線221重疊的部分的深度Dvl和與掃描線222重疊的部分的深度Dv2不同，則棱鏡元件211的與數(shù)據(jù)線221重疊的部分的剖面形狀和與掃描線222重疊的部分的剖面形狀會(huì)產(chǎn)生差異，難以將通過(guò)遮光部207的開(kāi)ロ部207b并擴(kuò)散了的光均勻地聚光。此外，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于溝211a的內(nèi)部(例如空氣層、真空)的折射率比TFT陣列基板208的折射率小，所以通過(guò)遮光部207的開(kāi)ロ部207b并擴(kuò)散了的光在入射于棱鏡元件211時(shí)容易滿足全反射條件。因此，能夠切實(shí)地使通過(guò)遮光部207的開(kāi)ロ部207b并擴(kuò)散了的光聚光。此外，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于蓋部212的遮光層207a側(cè)的面為平坦面，所以在蓋部212的上部形成有布線等的情況下斷線等的可能性減小。 根據(jù)本實(shí)施方式的投影機(jī)100，由于具備上述的液晶裝置120R，所以能夠提供可以實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)的圖像顯示的投影機(jī)。第2實(shí)施方式圖11是與圖6對(duì)應(yīng)的、本發(fā)明的第2實(shí)施方式所涉及的液晶裝置120RA的部分剖面結(jié)構(gòu)圖。如圖11所示，本實(shí)施方式的液晶裝置120RA在代替上述的棱鏡元件211而具備棱鏡元件211A這方面與上述的第I實(shí)施方式所涉及的液晶裝置120R不同。由于其他方面與上述的結(jié)構(gòu)相同，所以對(duì)與圖6相同的要素賦予相同的符號(hào)，并省略詳細(xì)的說(shuō)明。在棱鏡元件211A的溝211a的內(nèi)部形成有反射膜213。反射膜213的形成材料能夠使用例如銠(Rh)等高熔點(diǎn)(1966°C )且反射性優(yōu)異的金屬材料。由此，能夠在高溫多晶硅TFT的制造エ藝中應(yīng)用。另外，在非晶硅TFT的制造エ藝的情況下，作為反射膜的形成材料，不限于Rh，也能夠使用鋁(Al)和/或鉬(Pt)等。圖12是用于說(shuō)明液晶裝置的制造方法的剖面エ序圖。關(guān)于如上所述構(gòu)成的液晶裝置120RA之中在TFT陣列基板208A形成棱鏡元件21IA并形成遮光層207a的エ序進(jìn)行說(shuō)明。另外，關(guān)于形成棱鏡元件211A的溝211a的エ序，由于與圖9(a) 圖9(c)相同，所以省略詳細(xì)的說(shuō)明。首先，如圖12(a)所示，在溝21 Ia的內(nèi)部形成反射膜213。反射膜213優(yōu)選由高熔點(diǎn)且反射性優(yōu)異的金屬材料構(gòu)成。在本例中，使用Rh。另外，作為反射膜213的形成方法，使用濺射法。接著，如圖12(b)所示，形成封塞溝211a的上側(cè)的開(kāi)ロ部分的蓋部212。在本例中，使用可以用與TFT的制造エ藝相同的エ藝形成的絕緣膜即氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiN)等。另外，作為蓋部212的形成方法，使用CVD法等。接著，如圖12(c)所示，通過(guò)化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)將蓋部212的上表面平坦化。另夕卜，蓋部212的厚度只要是在溝211a上隔著該蓋部212能夠形成遮光層207a的程度、實(shí)現(xiàn)前述的保護(hù)功能的程度即可。接著，如圖12(d)所示，在蓋部212的上表面形成遮光層207a。在該蓋部212上形成例如由Cr、Al等金屬材料和/或黑色樹脂等構(gòu)成的遮光層207a。作為遮光層207a的形成方法，能夠使用濺射法和/或CVD法等公知的成膜方法。其后，形成像素電極和/或取向膜等，由此能夠制作TFT陣列基板208。然后，與另外制作的對(duì)置基板200粘貼，并在基板間密封液晶層205，由此能夠制造液晶裝置120RA。根據(jù)本實(shí)施方式的液晶裝置120RA，棱鏡元件211A的光入射面作為反射面起作用。因此，能夠切實(shí)地使通過(guò)遮光部207的開(kāi)ロ部207b并擴(kuò)散了的光聚光。第3實(shí)施方式圖13是與圖6對(duì)應(yīng)的、本發(fā)明的第3實(shí)施方式所涉及的液晶裝置120RB的部分剖面結(jié)構(gòu)圖。如圖13所示，本實(shí)施方式的液晶裝置120RB在代替上述的棱鏡元件211而具備棱鏡元件211B這方面與上述的第I實(shí)施方式所涉及的液晶裝置120R不同。由于其他方面與上述的結(jié)構(gòu)相同，所以對(duì)與圖6相同的要素賦予相同的符號(hào)，并省略詳細(xì)的說(shuō)明。在棱鏡元件21IB的溝211a的液晶層205側(cè)的部分(上側(cè)的開(kāi)ロ部分)嵌入蓋部212的一部分。在溝211a的、至少與嵌入有蓋部212的一部分的部分重疊的部分形成有反射膜213B。反射膜213B的形成材料使用例如Rh。圖14是用于說(shuō)明液晶裝置的制造方法的剖面エ序圖。關(guān)于如上所述構(gòu)成的液晶 裝置120RB之中在TFT陣列基板208A形成棱鏡元件21IB并形成遮光層207a的エ序進(jìn)行說(shuō)明。另外，關(guān)于形成棱鏡元件211B的溝211a的エ序，由于與圖9(a) 圖9(c)相同，所以省略詳細(xì)的說(shuō)明。首先，如圖14(a)所示，在溝211a的上側(cè)的開(kāi)ロ部分形成反射膜213B。反射膜213B的形成材料使用Rh。另外，作為反射膜213B的形成方法，使用濺射法。另外，由于溝211a的寬度Wv小(例如2 μ m)，所以反射膜213B選擇性地形成于溝211a的上側(cè)的開(kāi)ロ部分。接著，如圖14(b)所示，形成封塞溝211a的上側(cè)的開(kāi)ロ部分的蓋部212。在本例中，使用可以用與TFT的制造エ藝相同的エ藝形成的絕緣膜即氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiN)等。另外，作為蓋部212的形成方法，使用CVD法等。由于溝211a的寬度Wv小，所以蓋部212形成干與選擇性地形成于溝211a的上側(cè)的開(kāi)ロ部分的反射膜213B重疊的位置。另外，所形成的反射膜213B，以殘留溝211a的開(kāi)ロ部分的方式，通過(guò)研磨或光刻處理被除去。接著，如圖14(c)所示，通過(guò)化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)將蓋部212的上表面平坦化。另夕卜，蓋部212的厚度只要是在溝211a上隔著該蓋部212能夠形成遮光層207a的程度、實(shí)現(xiàn)前述的保護(hù)功能的程度即可。接著，如圖14(d)所示，在蓋部212的上表面形成遮光層207a。在該蓋部212上形成例如由Cr、Al等金屬材料和/或黑色樹脂等構(gòu)成的遮光層207a。作為遮光層207a的形成方法，能夠使用濺射法和/或CVD法等公知的成膜方法。其后，形成像素電極和/或取向膜等，由此能夠制作TFT陣列基板208A。然后，與另外制作的對(duì)置基板200粘貼，并在基板間密封液晶層205，由此能夠制造液晶裝置120RB。根據(jù)本實(shí)施方式的液晶裝置120RB，在通過(guò)遮光部207的開(kāi)ロ部207b并擴(kuò)散了的光入射于構(gòu)成棱鏡元件21IB的溝211a的嵌入有蓋部212B的一部分的部分的情況下，也能夠通過(guò)形成于該部分的反射膜213B使入射于該部分的光反射。因此，能夠切實(shí)地使通過(guò)遮光部207的開(kāi)ロ部207b并擴(kuò)散了的光聚光。本發(fā)明在應(yīng)用于從觀察投影圖像的一側(cè)進(jìn)行投影的前投影型投影機(jī)的情況下、在應(yīng)用于從與觀察投影圖像的ー側(cè)相反的一側(cè)進(jìn)行投影的背投影型投影機(jī)的情況下，都能夠應(yīng)用。在上述各實(shí)施方式中，關(guān)于將本發(fā)明的光源裝置應(yīng)用于投影機(jī)的例子進(jìn)行了說(shuō)明，但是并不限于此。例如，也能夠?qū)⒈景l(fā)明的光源裝置應(yīng)用 于其他的光學(xué)設(shè)備(例如光盤裝置、汽車的前照燈、照明設(shè)備等)。
權(quán)利要求
1.ー種液晶裝置，其特征在于，在配置于光的入射側(cè)的第I基板與配置于出射側(cè)的第2基板之間夾持液晶層而構(gòu)成，具備 遮光部，其包括于前述第I基板或前述第2基板的任意ー個(gè)，并在與像素俯視重疊的位置具備透光區(qū)域，在與前述像素間俯視重疊的位置具備遮光區(qū)域； 聚光透鏡，其包括于前述第I基板，使入射的光聚光于前述遮光部的透光區(qū)域的內(nèi)側(cè)；以及 棱鏡元件，其包括于前述第2基板，并在與前述遮光區(qū)域俯視重疊的位置使通過(guò)前述透光區(qū)域并擴(kuò)散了的光聚光； 其中，前述棱鏡元件包含形成于前述第2基板的溝。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液晶裝置，其特征在于 前述溝的深度比前述溝的寬度大。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的液晶裝置，其特征在于 前述遮光部包括相互交叉地配置的數(shù)據(jù)線和掃描線； 前述溝為剖視V狀； 前述溝的與前述數(shù)據(jù)線重疊的部分的寬度和與前述掃描線重疊的部分的寬度相互相等; 前述溝的與前述數(shù)據(jù)線重疊的部分的深度和與前述掃描線重疊的部分的深度相互相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求I 3中的任意一項(xiàng)所述的液晶裝置，其特征在于 在前述遮光部與前述棱鏡元件之間形成有封塞前述溝的前述液晶層側(cè)的部分的蓋部; 前述溝的內(nèi)部為中空。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶裝置，其特征在干 前述蓋部的前述遮光部側(cè)的面為平坦面。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的液晶裝置，其特征在于 在前述溝的前述液晶層側(cè)的部分嵌入有前述蓋部的一部分； 在前述溝的、至少與嵌入有前述蓋部的一部分的部分重疊的部分形成有反射膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求I 3中的任意一項(xiàng)所述的液晶裝置，其特征在于 在前述溝的內(nèi)部形成有反射膜。
8.ー種投影機(jī)，其特征在于，具備 光源裝置； 根據(jù)圖像信息對(duì)從前述光源裝置射出的光進(jìn)行調(diào)制的、權(quán)利要求I 7中的任意ー項(xiàng)所述的液晶裝置；以及 將來(lái)自前述液晶裝置的調(diào)制光作為投影圖像進(jìn)行投影的投影光學(xué)系統(tǒng)。
全文摘要
本發(fā)明提供可以實(shí)現(xiàn)高的光利用效率并且容易制造的液晶裝置及投影機(jī)。液晶裝置(120R)通過(guò)在第1基板(200)與第2基板(208)之間夾持液晶層(205)而構(gòu)成，包括形成為格子狀的遮光層(207a)和使從第1基板(200)側(cè)入射的光聚光于遮光部的開(kāi)口部(207b)的內(nèi)側(cè)的聚光透鏡(201)，在第2基板(208)，在與遮光層(207a)俯視重疊的位置配置有使從第1基板(200)側(cè)入射且通過(guò)聚光透鏡(201)、液晶層(205)及開(kāi)口部(207b)而擴(kuò)散了的光聚光的棱鏡元件(211)，棱鏡元件(211)包括形成于第2基板(208)的溝(211a)。
文檔編號(hào)G02F1/1362GK102692757SQ20121007678
公開(kāi)日2012年9月26日 申請(qǐng)日期2012年3月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月25日
發(fā)明者小澤宣彥 申請(qǐng)人:精工愛(ài)普生株式會(huì)社