專利名稱：半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶顯示裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及液晶顯示器技術領域，具體可涉及ー種半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及設置有所述半透射半反射彩膜基板的液晶顯示裝置。
背景技術：
現有的液晶顯示器的顯示方式大體可分為透射型(Transmissive)、反射型(Reflective)和半透射半反射型(Transflective)。其中，透射型液晶顯示器需要在其內部設置有背光源，當背光源產生的光線透射面板時才能使面板產生亮度，因此在室外等外界環(huán)境光較強的場景下使用透射型液晶顯示器件吋，難以觀察透射型液晶顯示器正常的顯示。反射型液晶顯示器是在面板的下層玻璃基板上鍍反射膜，通過反射外界環(huán)境光達到顯示的目的，由于沒有背光源，與透射型顯示器件相比，反射型液晶顯示器功耗較小，但當外界環(huán)境光即光源微弱時則會引起顯示品質不佳等問題。因此，兼具透射型液晶顯示器和反 射型液晶顯示器兩者功效的半透射半反射型液晶顯示器引起了人們的廣泛關注。在外界環(huán)境光較強吋，面板反射透射進來的外界環(huán)境光來達到發(fā)光的目的，當外界環(huán)境光較弱吋，面板則利用背光源來達到發(fā)光的目的，所以半透射半反射型液晶顯示器具有較佳的室外辨視性與反射效果，用途更為廣泛。半透射半反射彩膜基板是半透射半反射型液晶顯示器中的重要器件，半透射半反射彩膜基板對于外界環(huán)境光的反射效果，直接影響了半透射半反射型液晶顯示器的顯示效果O而現有半透射半反射彩膜基板結構中(已采用紅、綠、藍為原色為例)，如附圖I所示，通常設置有透明基板1，黑矩陣2，三種彩色濾色膜3、4、5 (分別對應于紅、綠、藍三原色)，反射膜6，絕緣層7 (即OC層)，公共電極層8 (即ITO層)。而上述結構的半透射半反射彩膜基板的生產エ藝需要5次掩膜曝光(mask)，具體包括首先在透明基板上涂覆黑色光阻，然后進行第一次掩膜曝光，顯影后在透明基板上形成有缺ロ的黑矩陣(BM);隨后在BM的缺口中，經過第二次掩膜曝光，制備第一型彩色濾色膜；然后以相同的方式分別進行第三、第四次掩膜曝光，在相鄰的BM缺口上制備另外兩種彩色濾色片；然后在彩色濾色膜和BM上濺射反射膜金屬層并涂覆感光樹脂即PR膠，之后經過第五次掩膜曝光、顯影、濕刻后得到位于BM上具有一定圖形的反射膜6。最后進行絕緣層7和公共電極層8的制作。附圖I為現有エ藝制造的半透半反型彩膜基板的剖面圖。在現有的半透射半反射彩膜基板的生產エ藝中所涉及的五次曝光均從彩膜基板的正面(彩膜基板設置有彩色濾色膜的一面，即彩膜基板的頂部方向)進行，而且都需使用特定的掩模板(mask)進行曝光，該過程中需要對彩膜基板進行精確對準，一旦掩模板相對于彩膜基板的偏移超過ー個微小的數值，則會使得上下兩層圖形不匹配，導致面板(panel)出現漏光、顯示異常等較為嚴重的問題，從而導致現有的半透射半反射彩膜基板的生產エ藝較為復雜。

發(fā)明內容
本發(fā)明為了解決現有半透射半反射彩膜基板的生產エ藝較為復雜的技術問題，提供一種半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶顯示裝置，從而簡化了半透射半反射彩膜基板的生產エ藝。本發(fā)明提供方案如下本發(fā)明實施例提供了一種半透射半反射彩膜基板，所述彩膜基板包括一透明基板，設置于所述透明基板之上的黑矩陣，以及設置于所述黑矩陣的缺口中用于呈現不同原色的多個彩色濾色片；所述多個彩色濾色片中的第一彩色濾色片的材質為負性光敏樹脂，其他彩色濾色片的材質為正性光敏樹脂。優(yōu)選的，所述的半透射半反射彩膜基板還包括 設置于所述黑矩陣上的負性光敏樹脂層，所述負性光敏樹脂層的材質與第一彩色濾色片的材質相同；設置于所述負性光敏樹脂層上的正性光敏樹脂層；設置于所述正性光敏樹脂層上的反射膜層。優(yōu)選的，所述的半透射半反射彩膜基板還包括設置于所述反射膜層以及彩色濾色片上的絕緣層；設置于所述絕緣層上的公共電極層。本發(fā)明實施例還提供了一種半透射半反射彩膜基板制作方法，該方法用于制作上述本發(fā)明實施例提供的半透射半反射彩膜基板；所述方法包括在透明基板已經生成的黑矩陣、其他彩色濾色片以及黑矩陣缺口上，涂覆ー層負性光敏樹脂，生成負性光敏樹脂層，在所述負性光敏樹脂層上涂覆ー層正性光敏樹脂，生成正性光敏樹脂層，在所述正性光敏樹脂層上生成反射膜層，所述其他彩色濾色片為材質是正性光敏樹脂的彩色濾色片；從透明基板的底部方向進行背向曝光；對曝光后的正性光敏樹脂層進行顯影處理，移除其他彩色濾色片以及第一彩色濾色片對應位置上方的正性光敏樹脂層以及反射膜層，露出其他彩色濾色片以及第一彩色濾色片對應位置上方的所述負性光敏樹脂層；對其他彩色濾色片以及第一彩色濾色片對應位置上方的負性光敏樹脂層進行灰化處理，移除覆蓋在其他彩色濾色片上的負性光敏樹脂層，并生成第一彩色濾色片。優(yōu)選的，在透明基板已經生成的黑矩陣、其他彩色濾色片以及黑矩陣缺口上，涂覆一層負性光敏樹脂，生成負性光敏樹脂層之前，所述方法還包括在透明基板上涂覆ー層黑色光阻；從所述透明基板的頂部方向，對于所述黑色光阻進行正向掩膜曝光，并對曝光后的黒色光阻進行顯影處理，生成具有缺ロ的黑矩陣。優(yōu)選的，在透明基板已經生成的黑矩陣、其他彩色濾色片以及黑矩陣缺口上，涂覆一層負性光敏樹脂，生成負性光敏樹脂層之前，所述方法還包括在生成的黑矩陣的缺ロ處，經過正向掩膜曝光，依次生成材質為正性光敏樹脂的其他彩色濾色片，且此步驟中所述正向掩膜曝光次數與其他彩色濾色片所呈現的原色種類數目對應。優(yōu)選的，在生成第一彩色濾色片之后，所述方法還包括在彩色濾色片以及剩余反射膜層上生成絕緣層； 在所述絕緣層生成公共電極層。本發(fā)明實施例還提供了ー種液晶顯示裝置，該液晶顯示裝置包括一半透射半反射液晶顯示面板；所述半透射半反射液晶顯示面板包括如權利要求I至3任一項所述的半透射半反射彩膜基板。從以上所述可以看出，本發(fā)明提供的一種半透射半反射彩膜基板及其制作方法， 以及ー種液晶顯示裝置，該半透射半反射彩膜基板在設置于透明基板上的黑矩陣的缺ロ中，設置有用于呈現不同原色的多個彩色濾色片，其中通過從透明基板底部方向進行背向曝光而最后制作生成的第一彩色濾色片的材質為負性光敏樹脂，在第一彩色濾色片之前通過從透明基板頂部方向進行正向掩膜曝光生成的其他彩色濾色片的材質為正性光敏樹脂，從而通過一次背向曝光實現現有技術中需要兩次正向掩膜曝光才能生成的圖層，使得半透射半反射彩膜基板的生產エ藝得以簡化，并有效的提高了產品優(yōu)良率。


圖I為現有エ藝制造的半透半反型彩膜基板的剖面圖；圖2為本發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板的剖面圖；圖3本發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法流程示意圖；圖4本發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具體實現過程示意圖ー；圖5本發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具體實現過程示意圖ニ ；圖6本發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具體實現過程示意圖三；圖7本發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具體實現過程示意圖四；圖8本發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具體實現過程示意圖五；圖9本發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具體實現過程示意圖六；圖10發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具體實現過程示意圖七；圖11發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具體實現過程示意圖八；圖12發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具體實現過程示意圖九；圖13發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具體實現過程示意圖十；圖14發(fā)明實施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具體實現過程示意圖i^ 一。
具體實施例方式本發(fā)明實施例提供了一種半透射半反射彩膜基板，如附圖2示，該彩膜基板具體可以包括一透明基板I ;設置于所述透明基板之上的黑矩陣2 ；設置于黑矩陣2缺口中，用于呈現不同原色的多個彩色濾色片，其中，通過從透明基板底部方向進行背向曝光而最后制作生成的第一彩色濾色片5的材質為負性光敏樹脂，而在所述第一彩色濾色片之前通過從透明基板頂部方向進行正向掩膜曝光生成的其他彩色濾色片(包括彩色濾色3以及彩色濾色片4)的材質為正性光敏樹脂。該半透射半 反射彩膜基板具體還可以包括設置于黑矩陣2上的負性光敏樹脂層10 ；設置于負性光敏樹脂層10上的正性光敏樹脂層9 ；設置于正性光敏樹脂層9上的反射膜層6。另外，該半透射半反射彩膜基板具體還可以包括設置于反射膜層6以及彩色濾色片上的絕緣層7 ；設置于絕緣層7上的公共電極層8。這里需要說明的是，附圖2所示的半透射半反射彩膜基板，僅為舉例說明，其中所涉及的原色具體可為三原色(如紅、緑、藍)，分別由圖2中所示的彩色濾色片3、彩色濾色片4、彩色濾色片5呈現對應的顏色。但這并不表示本發(fā)明實施例中僅包括三種彩色濾色片，隨著技術的發(fā)展，本發(fā)明實施例提供的半透射半反射彩膜基板中，還可包括分別對應于四原色、五原色的四種、五種彩色濾色片等。進ー步說明的是，無論是三種彩色濾色片，還是四種彩色濾色片，本發(fā)明實施例所涉及的第一彩色濾色片均為最后制作生成的彩色濾色片(材質負性光敏樹脂)，而其他彩色濾色片則為第一彩色濾色片之前生成的彩色濾色片(材質為正性光敏樹脂)。而且，本發(fā)明實施例提供的半透半反彩膜基板，主要是對現有半透半反彩膜基板的結構、材質以及制作エ藝進行改進，對彩膜基板的功能并不會造成影響。為了制作如附圖2所示的半透射半反射彩膜基板，本發(fā)明實施例還提供了ー種半透射半反射彩膜基板制作方法，如附圖3所示，所述方法包括步驟31，在透明基板I已經生成的黑矩陣2、其他彩色濾色片(3、4)以及黑矩陣缺口上，涂覆ー層負性光敏樹脂，生成負性光敏樹脂層10，在所述負性光敏樹脂層10上涂覆一層正性光敏樹脂，生成正性光敏樹脂層9，在所述正性光敏樹脂層9上生成反射膜層6，所述其他彩色濾色片為材質是正性光敏樹脂的彩色濾色片；步驟32，從透明基板I的底部方向進行背向曝光；步驟33，對曝光后的正性光敏樹脂層9進行顯影處理，移除其他彩色濾色片(3、4)以及第一彩色濾色片5對應位置上方的正性光敏樹脂層9以及反射膜層6，露出其他彩色濾色片(3、4)以及第一彩色濾色片5對應位置上方的負性光敏樹脂層10 ；步驟34，對其他彩色濾色片(3、4)以及第一彩色濾色片5對應位置上的負性光敏樹脂層10進行灰化處理，移除覆蓋在其他彩色濾色片(3、4)上的負性光敏樹脂層10，井生成第一彩色濾色片5。本發(fā)明實施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法，通過一次背向曝光即可實現現有技術中需要兩次正向掩膜曝光才能生成的圖層，使得半透射半反射彩膜基板的生產エ藝得以簡化，并且，本發(fā)明實施例中所涉及的背向曝光，使用透明基板I上已經生成的圖形作為掩膜板，是ー種自對準曝光，從而確保了背向曝光的精度，有效的提高了產品優(yōu)良率。另外，本發(fā)明實施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法，在透明基板I已經生成的黑矩陣2、其他彩色濾色片(3、4)以及黑矩陣缺口上，涂覆ー層負性光敏樹脂，生成負性光敏樹脂層10之前還包括在透明基板I上涂覆ー層黑色光阻；從透明基板I的頂部方向，對于所述黑色光阻進行正向掩膜曝光，并對曝光后的黒色光阻進行顯影處理，生成具有缺ロ的黑矩陣2。另外，本發(fā)明實施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法，在透明基板I已經生成的黑矩陣2、其他彩色濾色片(3、4)以及黑矩陣缺口上，涂覆ー層負性光敏樹脂，生成負性光敏樹脂層10之前還包括在生成的黑矩陣2的缺ロ處，經過正向掩膜曝光，依次生成材質為正性光敏樹脂的其他彩色濾色片(3、4)，且此步驟中所述正向掩膜曝光次數與其他彩色濾色片所呈現的原色種類對應。例如，當需要制作紅色對應的彩色濾色片時，需要進行一次正向掩膜曝光；當需要制作緑色對應的彩色濾色片時，需要再進行一次正向掩膜曝光，依此類推，直到完成全部其他彩色濾色片的制作。另外，本發(fā)明實施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法，在生成第一彩色濾色片之后還包括在彩色濾色片以及剩余反射膜層6上生成絕緣層7 ；在所述絕緣層7生成公共電極層8。為了便于對本發(fā)明實施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法的理解，下面結合附圖，對該方法的ー個具體實施例的實現過程進行詳盡的表述。此實施例中，該方法用于制作一包含與三原色對應的三種彩色濾色片(即如附圖2所示的彩色濾色片3、彩色濾色片4、彩色濾色片5)的半透射半反射彩膜基板。該實施例具體可以包括步驟I、在透明基板I上進行黑矩陣的制備。本發(fā)明實施例中，黑矩陣BM的制備エ藝可與現有技術相同，如附圖4所示，即先在透明基板I上涂覆ー層黑色光阻，然后黑色光阻進行一次正向掩膜曝光，即從透明基板I的頂部方向，對于透明基板I進行第一次正向掩膜曝光，并對曝光后的黒色光阻進行顯影處理，生成如附圖5所示的，具有缺ロ的黑矩陣2即BM層2。步驟2、制作彩色濾色片3、4。該過程可與現有技術相同，即在已經生成黑矩陣2的透明基板I上，涂覆ー層正性光敏樹脂，如附圖6所示。然后對涂覆后的正性光敏樹脂層(需要說明的是，此次曝光的正性光敏樹脂層并不是彩膜基板中所設置的正性光敏樹脂層9)進行一次正向掩膜曝光，即從透明基板I的頂部方向，進行第二次正向掩膜曝光，生成如附圖7所示的、材質為正性光敏樹脂的彩色濾色 片3。然后以相同的制備過程，即經過第三次正向掩膜曝光，生成材質同樣為正性光敏樹脂的彩色濾色片4。該過程具體可如附圖8、9所示。步驟3、制作負性光敏樹脂層10、正性光敏樹脂層9、反射膜層6以及彩色濾色片5。本實施例中，彩色濾色片5的制備エ藝與現有技術不同，是本發(fā)明的技術貢獻之
O
該エ藝具體包括首先，在透明基板I上涂覆ー層負性光敏樹脂，其厚度略大于其他兩種彩色濾色片。然后，將負性光敏樹脂上表面刮平，形成負性光敏樹脂層10。此時的彩膜基板可如附圖10所示。接下來，直接在負性光敏樹脂層10上涂覆ー層正性光敏樹脂即光刻膠，形成正性光敏樹脂層9。然后，在正性光敏樹脂層9上濺射生成反射膜層6。此時的彩膜基板可如附圖11所示。
本發(fā)明實施例中，反射膜層6所適用的金屬材料具體可以是鋁(Al)、銀(Ag)、金(Au)及其合金材料，也可以是其他反射性能較好的金屬或合金，比如金屬鉬(Pt)、鉻(Cr)、銅(Cu)等。在負性光敏樹脂層10、正性光敏樹脂層9以及反射膜層6這三層薄膜沉積完成后，從透明基板I的底部即下方，進行背向曝光。該背向曝光不需要使用掩模板，直接以基板上已有的BM 2和彩色濾色片3、4的圖形為掩膜板，自對準進行曝光。其中BM是不透光的，而彩色濾色片3、4是可以透光的。該過程如附圖12所示。曝光完成后，采用正性光刻膠的顯影液對透明基板I進行顯影處理，即移除圖形化后彩色濾色片3、4和彩色濾色片5對應位置上方的被曝光的正性光敏樹脂層9，并且因為被曝光的正性光敏樹脂層9被移除，一井剝離位于其上的反射膜層6，從而形成如附圖13所示的彩膜基板。從附圖13可以看出，部分負性光敏樹脂層10即彩色濾色片3、4和彩色濾色片5對應位置上方的負性光敏樹脂層10已經暴露出來。那么，接下來可以對暴漏出來的負性光敏樹脂層10進行灰化，移除覆蓋在彩色濾色片3、4上的負性光敏樹脂層，從而露出材質為正性光敏樹脂的彩色濾色片3、4。同時，還可以對彩色濾色片5對應位置上方的負性光敏樹脂層10進行灰化，從而生成材質為負性光敏樹脂的彩色濾色片5。此段エ藝完成后就得到了 BM與三種彩色濾色片交替排列，并且BM上覆蓋了反射膜層6的彩膜基板，具體可如附圖14所示。步驟4，依照傳統(tǒng)技術在基板上涂覆絕緣OC層7，濺射公共電極ITO層8。最終得到了如附圖2所示的，半透射半反射彩膜基板。通過上述描述可以看出，本發(fā)明實施例提出的半透射半反射彩膜基板制作方法，是ー種全新的生產エ藝，該エ藝過程中，總共需要三次掩膜曝光和一次自對準曝光，相比起現有技術的5次掩膜曝光(僅對應于包括三種彩色濾色片)，減少了一次曝光エ藝，エ藝難度大大降低，エ藝過程也得到了減少，有效地提高了產品良率，有利于生產成本的降低。并且，從背面對透明基板I進行曝光時，可以使用透明基板I上已經生成的圖形作為掩膜板，進行自對準曝光，減少了一次掩模板的對位，也就是說，整個エ藝過程僅需進行三次掩膜板的對準，和一次簡單的自對準曝光即可，大大簡化了半透半反彩膜基板的制造ェ藝。
基于按照本發(fā)明實施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法而制作生成的半透射半反射彩膜基板，本發(fā)明實施例還可以提供ー種液晶顯示裝置，該液晶顯示器具體可以包括一半透射半反射液晶顯示面板。該半透射半反射液晶顯示面板具體可以包括陣列基板，如圖2所示的半透射半反射彩膜基板，以及設置于所述半透射半反射彩膜基板與陣列基板之間的液晶層。另外，本發(fā)明實施例還可以提供ー種電子產品，該電子產品中包括本發(fā)明實施例提供的液晶顯示裝置，該液晶顯示裝置中包括如附圖2所示的半透射半反射彩膜基板。以上所述僅是本發(fā)明的實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來 說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發(fā)明的保護范圍。
權利要求
1.一種半透射半反射彩膜基板，所述彩膜基板包括一透明基板，設置于所述透明基板之上的黑矩陣，以及設置于所述黑矩陣的缺口中用于呈現不同原色的多個彩色濾色片；其特征在于， 所述多個彩色濾色片中的第一彩色濾色片的材質為負性光敏樹脂，其他彩色濾色片的材質為正性光敏樹脂。
2.如權利要求I所述的半透射半反射彩膜基板，其特征在于，還包括 設置于所述黑矩陣上的負性光敏樹脂層，所述負性光敏樹脂層的材質與第一彩色濾色片的材質相同； 設置于所述負性光敏樹脂層上的正性光敏樹脂層； 設置于所述正性光敏樹脂層上的反射膜層。
3.如權利要求2所述的半透射半反射彩膜基板，其特征在于，還包括 設置于所述反射膜層以及彩色濾色片上的絕緣層； 設置于所述絕緣層上的公共電極層。
4.一種半透射半反射彩膜基板制作方法，其特征在于，方法用于制作如權利要求I至3任一項所述的半透射半反射彩膜基板； 所述方法包括 在透明基板已經生成的黑矩陣、其他彩色濾色片以及黑矩陣缺口上，涂覆一層負性光敏樹脂，生成負性光敏樹脂層，在所述負性光敏樹脂層上涂覆一層正性光敏樹脂，生成正性光敏樹脂層，在所述正性光敏樹脂層上生成反射膜層，所述其他彩色濾色片為材質是正性光敏樹脂的彩色濾色片； 從透明基板的底部方向進行背向曝光； 對曝光后的正性光敏樹脂層進行顯影處理，移除其他彩色濾色片以及第一彩色濾色片對應位置上方的正性光敏樹脂層以及反射膜層，露出其他彩色濾色片以及第一彩色濾色片對應位置上方的所述負性光敏樹脂層； 對其他彩色濾色片以及第一彩色濾色片對應位置上方的負性光敏樹脂層進行灰化處理，移除覆蓋在其他彩色濾色片上的負性光敏樹脂層，并生成第一彩色濾色片。
5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，在透明基板已經生成的黑矩陣、其他彩色濾色片以及黑矩陣缺口上，涂覆一層負性光敏樹脂，生成負性光敏樹脂層之前，所述方法還包括 在透明基板上涂覆一層黑色光阻； 從所述透明基板的頂部方向，對于所述黑色光阻進行正向掩膜曝光，并對曝光后的黑色光阻進行顯影處理，生成具有缺口的黑矩陣。
6.如權利要求5所述的方法，其特征在于，在透明基板已經生成的黑矩陣、其他彩色濾色片以及黑矩陣缺口上，涂覆一層負性光敏樹脂，生成負性光敏樹脂層之前，所述方法還包括 在生成的黑矩陣的缺口處，經過正向掩膜曝光，依次生成材質為正性光敏樹脂的其他彩色濾色片，且此步驟中所述正向掩膜曝光次數與其他彩色濾色片所呈現的原色種類數目對應。
7.如權利要求4至6任一項所述的方法，其特征在于，在生成第一彩色濾色片之后，所述方法還包括 在彩色濾色片以及剩余反射膜層上生成絕緣層； 在所述絕緣層生成公共電極層。
8.一種液晶顯示裝置，其特征在于，該液晶顯示裝置包括一半透射半反射液晶顯示面板；所述半透射半反射液晶顯示面板包括如權利要求I至3任一項所述的半透射半反射彩膜基板。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶顯示裝置，該半透射半反射彩膜基板在設置于透明基板上的黑矩陣的缺口中，設置有用于呈現不同原色的多個彩色濾色片，其中通過從透明基板底部方向進行背向曝光而最后制作生成的第一彩色濾色片的材質為負性光敏樹脂，在第一彩色濾色片之前通過從透明基板頂部方向進行正向掩膜曝光生成的其他彩色濾色片的材質為正性光敏樹脂，從而通過一次背向曝光實現現有技術中需要兩次正向掩膜曝光才能生成的圖層，使得半透射半反射彩膜基板的生產工藝得以簡化，并有效的提高了產品優(yōu)良率。
文檔編號G02F1/1333GK102707484SQ201210122750
公開日2012年10月3日 申請日期2012年4月24日 優(yōu)先權日2012年4月24日
發(fā)明者牛菁 申請人:京東方科技集團股份有限公司