專利名稱：一種光罩及其修正方法
一種光罩及其修正方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種光罩及其修正方法。
背景技術(shù)：
隨著液晶技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)液晶生產(chǎn)效率提出了很高的要求。在液晶顯示器的制作過程中，光罩(MASK)是必不可少的制作部件，譬如在制作薄膜場效應(yīng)晶體管(Thin Film Transistor, TFT)基板的像素區(qū)、或者彩色濾光片(ColorFilter，CF)基板的色阻區(qū)(R、G和B)的過程中，都需要用到光罩。而現(xiàn)有技術(shù)中光罩的制作不僅周期長，而且成本高，譬如單片光罩的成本高達(dá)百萬元。 請參閱圖1，圖I為現(xiàn)有技術(shù)中一種光罩的俯視結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為圖I中的部分截面結(jié)構(gòu)示意圖。圖I所示的光罩10包括透明玻璃11，疊加于所述透明玻璃11上的鉻膜層12，與所述鉻膜層12位于同一層、且形成于所述鉻膜層12之間的透光區(qū)13，其中所述鉻膜層12不透光，所述鉻膜層12和所述透光區(qū)13共同形成光罩圖案。由于所述光罩10的使用頻率較大，因此極易受到損傷；而且，有時(shí)候需要對(duì)所述光罩10的光罩圖案的進(jìn)行部分調(diào)整，譬如將所述鉻膜層12進(jìn)行加寬處理。上述兩種情況都需要將所述光罩10送回原廠進(jìn)行重新鍍膜來進(jìn)行修正，將受到損傷或者需要加寬的部分鍍上鉻膜層。但是該方式不僅花費(fèi)較高(基本要花費(fèi)在數(shù)十萬元)，而且修正的周期較長，影響液晶的生廣效率。綜上，需解決現(xiàn)有技術(shù)修正光罩的成本較高，周期較長以及影響液晶生產(chǎn)效率的技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種光罩的修正方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中修訂光罩的成本較高，周期較長以及影響液晶生產(chǎn)效率的技術(shù)問題。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明構(gòu)造了一種光罩的修正方法，所述方法包括以下步驟提供可鏤空件、光罩及光罩模板，所述光罩具有待補(bǔ)充遮光區(qū)，所述光罩模板具有示意圖案，該示意圖案與未形成所述待補(bǔ)充遮光區(qū)之前的光罩的光罩圖案形狀相同；在所述光罩模板的示意圖案中選定一參照區(qū)，并使得所述參照區(qū)對(duì)應(yīng)所述光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)，根據(jù)所述參照區(qū)的圖案在所述可鏤空件上形成一修補(bǔ)區(qū)，該修補(bǔ)區(qū)的圖案與所述光罩的光罩圖案具有相同的比例；對(duì)所述可鏤空件的修補(bǔ)區(qū)進(jìn)行鏤空處理形成鏤空區(qū)，所述鏤空區(qū)對(duì)應(yīng)所述光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)；將形成有所述鏤空區(qū)的可鏤空件貼合所述光罩，并使得所述鏤空區(qū)對(duì)應(yīng)所述待補(bǔ)充遮光區(qū)；
在形成有所述鏤空區(qū)的可鏤空件上涂布遮光材料，以在所述待補(bǔ)充遮光區(qū)形成一遮光層。在本發(fā)明的光罩的修正方法中根據(jù)所述參照區(qū)的圖案在所述可鏤空件上形成一修補(bǔ)區(qū)的步驟具體包括提供一打印板；根據(jù)所述光罩模板中選定的參照區(qū)在所述打印板上形成一打印區(qū)，所述打印區(qū)的圖案與所述參照區(qū)的圖案形狀相同，所述打印區(qū)與所述光罩的光罩圖案具有相同的比例；
將所述打印板貼合所述可鏤空件，并將所述打印區(qū)壓印于所述可鏤空件，以在所述可鏤空件上形成所述修補(bǔ)區(qū)。在本發(fā)明的光罩的修正方法中在提供具有所述待補(bǔ)充遮光區(qū)的光罩后，所述方法還包括以下步驟在所述待補(bǔ)充遮光區(qū)所屬區(qū)域選定定位區(qū)；其中對(duì)所述可鏤空件的修補(bǔ)區(qū)進(jìn)行鏤空處理形成鏤空區(qū)的同時(shí)，還包括以下步驟在所述可鏤空件上形成對(duì)位部，并使得所述對(duì)位部對(duì)應(yīng)所述光罩上選定的定位區(qū)；其中在將形成有所述鏤空區(qū)的可鏤空件貼合所述光罩時(shí)，還包括以下步驟將所述可鏤空件的對(duì)位部對(duì)齊所述光罩的對(duì)位區(qū)，以使得所述可鏤空件的鏤空區(qū)對(duì)齊所述光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)。在本發(fā)明的光罩的修正方法中所述光罩上選定四個(gè)對(duì)位區(qū)，該四個(gè)對(duì)位區(qū)構(gòu)成一方形區(qū)域，且所述四個(gè)對(duì)位區(qū)分別位于該方形區(qū)域的四角；其中所述可鏤空件為方形，所述可鏤空件上包括四個(gè)對(duì)位部，該四個(gè)對(duì)位部分別位于所述可鏤空件的四角；在將所述可鏤空件的對(duì)位部對(duì)齊所述光罩的對(duì)位區(qū)時(shí)，通過光線以及放大鏡將所述可鏤空件的四個(gè)對(duì)位部與所述光罩的四個(gè)對(duì)位區(qū)分別進(jìn)行四角對(duì)位。在本發(fā)明的光罩的修正方法中所述遮光材料為黑色油墨。在本發(fā)明的光罩的修正方法中所述待補(bǔ)充遮光區(qū)為所述光罩上需要修補(bǔ)的殘缺缺陷。在本發(fā)明的光罩的修正方法中所述待補(bǔ)充遮光區(qū)為所述光罩上需要擴(kuò)充的遮光區(qū)。在本發(fā)明的光罩的修正方法中在所述可鏤空件上涂布遮光材料形成所述遮光層后，所述方法還包括以下步驟提供一光刻膠層；使用形成有所述遮光層的光罩對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行曝光，之后對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行顯影處理；檢查所述遮光層對(duì)應(yīng)的光刻膠層是否刻蝕掉，若被刻蝕掉，則重新對(duì)所述光罩進(jìn)行修正。本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種光罩，以解決現(xiàn)有技術(shù)修訂光罩的成本較高，周期較長以及影響液晶生產(chǎn)效率的技術(shù)問題。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明構(gòu)造了一種光罩，包括第一遮光區(qū)和第二遮光區(qū)，所述第一遮光區(qū)由第一遮光材料形成，所述第二遮光區(qū)由第二遮光材料涂布形成，其中所述第二遮光材料是形成于所述第二遮光材料之后。在本發(fā)明的光罩中所述第二遮光材料為黑色油墨。本發(fā)明中的光罩具有待補(bǔ)充遮 光區(qū)，譬如殘缺缺陷或者需要擴(kuò)充的遮光區(qū)，而本發(fā)明是通過將光罩模板中對(duì)應(yīng)所述待補(bǔ)充遮光區(qū)的圖案放大至可鏤空件上，在所述可鏤空件上形成一鏤空區(qū)，該鏤空區(qū)是對(duì)應(yīng)所述光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)，之后將該可鏤空件貼合所述光罩，使得該可鏤空件的鏤空區(qū)對(duì)齊所述光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)，并在所述可鏤空件上涂布遮光材料，以使得所述遮光材料填充至所述待補(bǔ)充遮光區(qū)形成遮光層，顯然本發(fā)明不僅成本低、修正周期短，而且修正的效率較高。為讓本發(fā)明的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下

圖I為現(xiàn)有技術(shù)中光罩的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為沿圖I中M-M’的截面結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明中光罩的修正方法的較佳實(shí)施例的流程示意圖；圖4A-4I為圖3中對(duì)光罩修正過程中的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5A-5C為本發(fā)明中對(duì)光罩進(jìn)行修正的另一較佳實(shí)施例結(jié)構(gòu)不意圖；圖6為本發(fā)明提供的光罩的一較佳實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下各實(shí)施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本發(fā)明可用以實(shí)施的特定實(shí)施例。本發(fā)明所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「側(cè)面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。在圖中，結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號(hào)表示。圖3為本發(fā)明中光罩的修正方法的較佳實(shí)施例的流程示意圖。在步驟S301中，提供可鏤空件20、光罩30及光罩模板40。請一并參閱圖4A中的光罩30，圖4B中的光罩模板40以及圖4C中的可鏤空件20。其中圖4A中光罩30具有一待補(bǔ)充遮光區(qū)33，該待補(bǔ)充遮光區(qū)33為所述光罩30的殘缺缺陷，該殘缺缺陷可以是在使用所述光罩30的過程中產(chǎn)生的，也可以是制作所述光罩30過程中產(chǎn)生。該殘缺缺陷的存在，使得由所述光罩30制作形成的基板(譬如TFT基板)存在殘缺，影響了廣品良率。在步驟S302中，在所述光罩模板40的示意圖案中選定一參照區(qū)43，并使得所述參照區(qū)43對(duì)應(yīng)所述光罩30的待補(bǔ)充遮光區(qū)33，請一并參閱圖4A以及圖4D。其中所述參照區(qū)43對(duì)應(yīng)所述光罩30上由四個(gè)對(duì)位區(qū)34構(gòu)成的方形區(qū)域。在步驟S303中，提供一打印板50，根據(jù)所述參照區(qū)43在所述打印板50上形成一打印區(qū)51，該打印區(qū)51與所述光罩30的光罩圖案具有相同的比例，請一并參閱圖4E。在步驟S304中，將所述打印區(qū)51打印至所述可鏤空件20，以在所述可鏤空件20上形成一修補(bǔ)區(qū)21，該修補(bǔ)區(qū)21與所述光罩30的光罩圖案具有相同的比例，請一并參閱圖4F。在步驟S305中，對(duì)所述可鏤空件20進(jìn)行鏤空處理，以在所述修補(bǔ)區(qū)21形成鏤空區(qū)23，同時(shí)形成有四個(gè)對(duì)位部22，請一并參閱圖4G。在步驟S306中，將形成有所述鏤空區(qū)23的可鏤空件20貼合所述光罩30，并使得所述鏤空區(qū)23對(duì)應(yīng)所述待補(bǔ)充遮光區(qū)33，請一并參閱圖4H。在步驟S307中，在形成有所述鏤空區(qū)23的可鏤空件20上涂布遮光材料。其中所述遮光材料優(yōu)選為黑色油墨，使用黑色油墨的優(yōu)點(diǎn)是費(fèi)用低，可降低成本，當(dāng)然在具體實(shí)施過程中也可以是其它材質(zhì)的遮光材料，此處不一一列舉。
在步驟S308中，將所述可鏤空件20移走，請一并參閱圖41。在圖41中，所述待補(bǔ)充遮光區(qū)33由于涂覆有遮光材料因而形成一遮光層35。在步驟S309中，使用形成有所述遮光層35的光罩30對(duì)某一光刻膠層進(jìn)行曝光，之后進(jìn)行顯影處理。檢查所述遮光層35是否遮光，若所述遮光層35對(duì)應(yīng)的光刻膠層未被刻蝕掉，則說明修正成功，否則說明修正失敗，則繼續(xù)進(jìn)行步驟S301。其中在圖4A中，其中所述光罩30具有遮光區(qū)31、透光區(qū)32、待補(bǔ)充遮光區(qū)33，以及根據(jù)該待補(bǔ)充遮光區(qū)33選定的對(duì)位區(qū)34。所述遮光區(qū)31用于在光罩制程中遮擋光線，所述透光區(qū)32用于在光罩制程中使得光線透過，所述遮光區(qū)31對(duì)應(yīng)的光刻膠層未被光線照射，因此在顯影過程中保留下來；所述透光區(qū)32對(duì)應(yīng)的光刻膠層被透過的光線照射，其內(nèi)部發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，因此在顯影過程中被刻蝕掉。請繼續(xù)參閱圖4A，為了更準(zhǔn)確的對(duì)所述待補(bǔ)充遮光區(qū)33進(jìn)行修正，本發(fā)明還選定有對(duì)位區(qū)34。本發(fā)明選定的四個(gè)對(duì)位區(qū)34構(gòu)成一方形區(qū)域，而四個(gè)對(duì)位區(qū)34分別位于所述該方形區(qū)域的四角上，所述對(duì)位區(qū)34用于對(duì)所述待補(bǔ)充遮光區(qū)33進(jìn)行準(zhǔn)確的圈定定位。每個(gè)所述對(duì)位區(qū)34具有第一對(duì)位圖案，所述第一對(duì)位圖案包括四個(gè)環(huán)形相鄰的遮光區(qū)31中每個(gè)遮光區(qū)31的一角、以及上述四個(gè)遮光區(qū)33環(huán)繞包圍的透光區(qū)32。當(dāng)然在一些其它實(shí)施例中，所述對(duì)位區(qū)34還可以選定為其它的形式，只要能夠?qū)λ龃a(bǔ)充遮光區(qū)33進(jìn)行準(zhǔn)確的對(duì)位即可，此處不一一列舉。在圖4B中,所述光罩模板40上標(biāo)示有示意圖案,所述示意圖案與未形成所述待補(bǔ)充遮光區(qū)33之前的光罩30的光罩圖案形狀相同。其中可能存在不同之處在于，所述光罩模板40上的示意圖案與所述光罩30上的光罩圖案的比例不同，所述光罩模板40上的示意圖案與所述光罩30上的光罩圖案的比例譬如為1:5，當(dāng)然所述光罩模板40上的示意圖案也可以與所述光罩30上的光罩圖案的比例相同，只要使得所述光罩模板40方便進(jìn)行壓印即可。其中，所述光罩30的光罩圖案為所述遮光區(qū)31和透光區(qū)32共同形成的圖案。請繼續(xù)參閱圖4B，所述光罩模板40上包括有用于標(biāo)識(shí)所述光罩30的遮光區(qū)31的遮光標(biāo)識(shí)區(qū)41，用于標(biāo)識(shí)所述光罩30的透光區(qū)32的透光標(biāo)識(shí)區(qū)42。在圖4C中，該可鏤空件20優(yōu)選為方形，其大小與所述光罩30的四個(gè)對(duì)位區(qū)34圈定的方形區(qū)域大致相同。所述可鏤空件20優(yōu)選為透明薄膜，當(dāng)然也可以為其它材質(zhì)，譬如易切割的板材，此處不詳述。在圖4E中，所述打印區(qū)51的大小與所述光罩30上四個(gè)對(duì)位區(qū)34圈定的方形區(qū)域大致相同。其中所述打印板50可以為普通的紙張，只要能夠方便將所述參照區(qū)43擴(kuò)大壓印于所述打印版50上形成所述打印區(qū)51即可，此處不一一列舉。在圖4F中，所述修補(bǔ)區(qū)21具有與所述打印區(qū)51形狀和大小均相同的圖案，所述修補(bǔ)區(qū)21包括修補(bǔ)遮光區(qū)211和修補(bǔ)透光區(qū)212。當(dāng)然，在具體實(shí)施過程中，還可以直接將所述打印區(qū)51擴(kuò)大至所述可鏤空件20形成所述修補(bǔ)區(qū)21，該方式可以省略步驟S303中的打印板50，進(jìn)而節(jié)省成本。在圖4G中，所述鏤空區(qū)23對(duì)應(yīng)所述光罩30的待補(bǔ)充遮光區(qū)33，所述四個(gè)對(duì)位部22分別對(duì)應(yīng)所述光罩30的四個(gè)對(duì)位區(qū)34。其中每個(gè)對(duì)位部22具有第二對(duì)位圖案，該第二對(duì)位圖案是與所述光罩30上每個(gè)定位區(qū)34的第一對(duì)位圖案的大小和形狀相同。在圖4H中，在將形成有所述鏤空區(qū)23的可鏤空件20貼合所述光罩30時(shí)，通過四個(gè)對(duì)位部22分別對(duì)應(yīng)所述光罩30上的四個(gè)對(duì)位區(qū)34，以使得所述鏤空區(qū)23對(duì)齊所述待補(bǔ)充遮光區(qū)33。 更具體的，在將形成有所述鏤空區(qū)23的可鏤空件20貼合所述光罩30時(shí)，使用光線和放大鏡進(jìn)行四角對(duì)位，使得所述可鏤空件20的四個(gè)對(duì)位部22分別對(duì)齊所述光罩30的四個(gè)對(duì)位區(qū)34，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)所述鏤空區(qū)23與所述待補(bǔ)充遮光區(qū)33的準(zhǔn)確對(duì)位。當(dāng)然，本發(fā)明的光罩的修正方法并不限于對(duì)殘缺缺陷進(jìn)行修正，在一些其它實(shí)施例中，還可以對(duì)完整、但是需要擴(kuò)充遮光區(qū)的光罩進(jìn)行修正，譬如請參閱圖5A至5C。在圖5A中，光罩50包括有遮光區(qū)51和透光區(qū)52，由于待生產(chǎn)產(chǎn)品的要求，需要沿方向A擴(kuò)大所述遮光區(qū)51的寬度，譬如圖5A中的待補(bǔ)充遮光區(qū)53。此時(shí)若將所述光罩50返回原廠進(jìn)行擴(kuò)充，無疑仍存在成本高、周期長的問題，而使用本發(fā)明提供的光罩的修正方法，則可避免上述問題。對(duì)應(yīng)上文，首先提供可鏤空件60以及光罩模板(圖未示出)，其中該光罩模板譬如為所述光罩50的說明書，該光罩模板具有與所述光罩50形狀相同的光罩圖案。之后將所述光罩模板的圖案放大后打印至所述可鏤空件60，之后對(duì)所述可鏤空件60進(jìn)行鏤空處理，形成擴(kuò)充鏤空區(qū)61，譬如請參閱圖5B。其中所述擴(kuò)充鏤空區(qū)61對(duì)應(yīng)所述光罩50的待補(bǔ)充遮光區(qū)53。之后將圖5B中形成有所述擴(kuò)充鏤空區(qū)61的可鏤空件60貼合圖5A中所述光罩50，使得所述可鏤空件60上的擴(kuò)充鏤空區(qū)61對(duì)齊所述光罩50上的待補(bǔ)充遮光區(qū)53。之后在形成有所述擴(kuò)充鏤空區(qū)61的可鏤空件60上涂布遮光材料，最后將形成有所述擴(kuò)充鏤空區(qū)61的可鏤空件60移走，則所述光罩50形成圖5C所示的形狀，涂布在所述待補(bǔ)充遮光區(qū)53的遮光材料形成遮光層70。當(dāng)然，在具體實(shí)施過程中，對(duì)所述可鏤空件60進(jìn)行鏤空處理時(shí)，還同時(shí)形成用于對(duì)位的部件，具體請參閱上文，此處不再贅述。請參閱圖6，圖6為本發(fā)明提供的光罩的一較佳實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。所述光罩80包括遮光區(qū)81和透光區(qū)82,所述遮光區(qū)81包括第一遮光區(qū)811和第二遮光區(qū)812，其中所述第一遮光區(qū)811和所述第二遮光區(qū)812的遮光材料不同，所述第一遮光區(qū)811的遮光材料譬如為金屬鉻，而所述第二遮光區(qū)812的材料譬如為黑色油墨等價(jià)格較低的遮光材料。而且所述第二遮光區(qū)812是在形成第一遮光區(qū)811之后涂布形成的，譬如請參閱圖4A至圖41的光罩修補(bǔ)過程示意圖，此處不再詳述。本發(fā)明中的光罩具有待補(bǔ)充遮光區(qū)，譬如殘缺缺陷或者需要擴(kuò)充的遮光區(qū)，而本發(fā)明是通過將光罩模板中對(duì)應(yīng)所述待補(bǔ)充遮光區(qū)的圖案放大至可鏤空件上，在所述可鏤空件上鏤空一鏤空區(qū)，該鏤空區(qū)是對(duì)應(yīng)所述光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)，之后將該可鏤空件貼合所述光罩，使得該可鏤空件的鏤空區(qū)對(duì)齊所述光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)，并在所述可鏤空件上涂布遮光材料，以使得所述遮光材料填充至所述待補(bǔ)充遮光區(qū)形成遮光層，顯然本發(fā)明不僅成本低、修正周期短，而且修正的效率較高。綜上所述，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上，但上述優(yōu)選 實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動(dòng)與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種光罩的修正方法，其特征在于所述方法包括以下步驟 提供可鏤空件、光罩及光罩模板，所述光罩具有待補(bǔ)充遮光區(qū)，所述光罩模板具有示意圖案，該示意圖案與未形成所述待補(bǔ)充遮光區(qū)之前的光罩的光罩圖案形狀相同； 在所述光罩模板的示意圖案中選定ー參照區(qū)，并使得所述參照區(qū)對(duì)應(yīng)所述光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)，根據(jù)所述參照區(qū)的圖案在所述可鏤空件上形成一修補(bǔ)區(qū)，該修補(bǔ)區(qū)的圖案與所述光罩的光罩圖案具有相同的比例； 對(duì)所述可鏤空件的修補(bǔ)區(qū)進(jìn)行鏤空處理形成鏤空區(qū)，所述鏤空區(qū)對(duì)應(yīng)所述光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)； 將形成有所述鏤空區(qū)的可鏤空件貼合所述光罩，并使得所述鏤空區(qū)對(duì)應(yīng)所述待補(bǔ)充遮光區(qū)； 在形成有所述鏤空區(qū)的可鏤空件上涂布遮光材料，以在所述待補(bǔ)充遮光區(qū)形成一遮光層。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光罩的修正方法，其特征在于根據(jù)所述參照區(qū)的圖案在所述可鏤空件上形成一修補(bǔ)區(qū)的步驟具體包括 提供一打印板； 根據(jù)所述光罩模板中選定的參照區(qū)在所述打印板上形成一打印區(qū)，所述打印區(qū)的圖案與所述參照區(qū)的圖案形狀相同，所述打印區(qū)與所述光罩的光罩圖案具有相同的比例； 將所述打印板貼合所述可鏤空件，并將所述打印區(qū)壓印于所述可鏤空件，以在所述可鏤空件上形成所述修補(bǔ)區(qū)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光罩的修正方法，其特征在于在提供具有待補(bǔ)充遮光區(qū)的光罩后，所述方法還包括以下步驟 在所述待補(bǔ)充遮光區(qū)所屬區(qū)域選定定位區(qū)； 其中對(duì)所述可鏤空件的修補(bǔ)區(qū)進(jìn)行鏤空處理形成鏤空區(qū)的同時(shí)，還包括以下步驟 在所述可鏤空件上形成對(duì)位部，并使得所述對(duì)位部對(duì)應(yīng)所述光罩上選定的定位區(qū)； 其中在將形成有所述鏤空區(qū)的可鏤空件貼合所述光罩時(shí)，還包括以下步驟 將所述可鏤空件的對(duì)位部對(duì)齊所述光罩的對(duì)位區(qū)，以使得所述可鏤空件的鏤空區(qū)對(duì)齊所述光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光罩的修正方法,其特征在于所述光罩上選定四個(gè)對(duì)位區(qū)，該四個(gè)對(duì)位區(qū)構(gòu)成一方形區(qū)域，且所述四個(gè)對(duì)位區(qū)分別位于該方形區(qū)域的四角； 其中所述可鏤空件為方形，所述可鏤空件上包括四個(gè)對(duì)位部，該四個(gè)對(duì)位部分別位于所述可鏤空件的四角； 在將所述可鏤空件的對(duì)位部對(duì)齊所述光罩的對(duì)位區(qū)時(shí)，通過光線以及放大鏡將所述可鏤空件的四個(gè)對(duì)位部與所述光罩的四個(gè)對(duì)位區(qū)分別進(jìn)行四角對(duì)位。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光罩的修正方法，其特征在于所述遮光材料為黑色油墨。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光罩的修正方法，其特征在于所述待補(bǔ)充遮光區(qū)為所述光罩上需要修補(bǔ)的殘缺缺陷。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光罩的修正方法，其特征在于所述待補(bǔ)充遮光區(qū)為所述光罩上需要擴(kuò)充的遮光區(qū)。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光罩的修正方法，其特征在于在所述可鏤空件上涂布遮光材料形成所述遮光層后，所述方法還包括以下步驟 提供一光刻膠層； 使用形成有所述遮光層的光罩對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行曝光，之后對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行顯影處理； 檢查所述遮光層對(duì)應(yīng)的光刻膠層是否刻蝕掉，若被刻蝕掉，則重新對(duì)所述光罩進(jìn)行修正。
9.一種光罩，其特征在于包括第一遮光區(qū)和第二遮光區(qū)，所述第一遮光區(qū)由第一遮光材料形成，所述第二遮光區(qū)由第二遮光材料涂布形成，其中所述第二遮光材料是形成干所述第二遮光材料之后。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光罩，其特征在于所述第二遮光材料為黑色油墨。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光罩及其修正方法，方法包括在光罩模板的示意圖案中選定一參照區(qū)，并使得參照區(qū)對(duì)應(yīng)光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)，根據(jù)所述參照區(qū)在可鏤空件上形成一修補(bǔ)區(qū)，并使得修補(bǔ)區(qū)的圖案與光罩的光罩圖案具有相同的比例；對(duì)可鏤空件的修補(bǔ)區(qū)進(jìn)行鏤空處理形成鏤空區(qū)，鏤空區(qū)對(duì)應(yīng)光罩的待補(bǔ)充遮光區(qū)；將形成有鏤空區(qū)的可鏤空件貼合光罩，并使得鏤空區(qū)對(duì)應(yīng)待補(bǔ)充遮光區(qū)；在可鏤空件上涂布遮光材料，以在待補(bǔ)充遮光區(qū)形成一遮光層。本發(fā)明不僅成本低、而且對(duì)光罩的修補(bǔ)效率較高。
文檔編號(hào)G03F1/72GK102736405SQ20121019925
公開日2012年10月17日 申請日期2012年6月15日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月15日
發(fā)明者馬佳星 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司