專利名稱：可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造光刻領(lǐng)域，尤其涉及一種可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)：
隨著人們生活水平的提高，環(huán)保意識的增強，對家居環(huán)境、休閑和舒適度追求的不斷提高。燈具燈飾也逐漸由單純的照明功能轉(zhuǎn)向裝飾和照明共存的局面，具有照明和裝飾雙重優(yōu)勢的LED取代傳統(tǒng)光源進入人們的日常生活成為必然之勢。目前LED完全取代傳統(tǒng)光源進入照明領(lǐng)域遇到的最大難題就是亮度問題和散熱問題，其實這兩個問題是同一個問題，亮度提高了，散熱問題就自然解決了。在內(nèi)量子效率 (已接近100%)可提高的空間有限的前提下，LED行業(yè)的科研工作者把目光轉(zhuǎn)向了外量子效率，提出了可提高光提取率的多種技術(shù)方案和方法，例如圖形化襯底技術(shù)、側(cè)壁粗化技術(shù)、DBR技術(shù)、優(yōu)化電極結(jié)構(gòu)、在襯底或透明導(dǎo)電膜上制作二維光子晶體等。其中，圖形化襯底最具成效，但作為現(xiàn)代光子學(xué)領(lǐng)域最重要的研究成果之一-光子晶體被用于LED領(lǐng)域，提高其亮度可能最具發(fā)展?jié)摿?，因為它可控制光子晶體的晶格結(jié)構(gòu)和晶格常數(shù)，使其和外延晶體的晶格結(jié)構(gòu)和晶格常數(shù)相似，甚至相同，減少晶格匹配位錯，降低位錯密度，減少外延缺陷；不僅如此光子晶體還能更有效地控制光的行為，更有目的地改變光的傳播方向及其空間光強分布。所以近年來利用在襯底或透明導(dǎo)電膜上制作二維晶體結(jié)構(gòu)來提高LED發(fā)光亮度的技術(shù)方法鋒芒畢露，備受青睞，涌現(xiàn)出大量的專利文獻。但是，用于制作光子晶體掩膜層的方法、裝置或系統(tǒng)還不夠成熟，要么生產(chǎn)效率低下、生產(chǎn)成本較高、難于實現(xiàn)大批量生產(chǎn)；要么功能單一，只能制作一兩種光子晶體結(jié)構(gòu)，若需要改變光子晶體結(jié)構(gòu)，就得更新設(shè)備；要么就是結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜。尋求能用于制作光子晶體掩膜層的結(jié)構(gòu)簡單、價格低廉的、多功能的曝光系統(tǒng)，促進LED產(chǎn)業(yè)化進程的工作勢在必行。因此，如何提供一種結(jié)構(gòu)簡單、價格低廉的、易于實現(xiàn)的可用于制作光子晶體掩膜層的曝光系統(tǒng)及方法是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的一個技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡單、價格低廉的、易于實現(xiàn)的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)及方法，通過控制電動快門的開關(guān)及可轉(zhuǎn)動晶片夾持器的角度可實現(xiàn)同時對固定在對應(yīng)可轉(zhuǎn)動晶片夾持器上的兩片晶片實施曝光、轉(zhuǎn)動、再曝光的循環(huán)操作，直到完成所需光子晶體掩膜層結(jié)構(gòu)的制作為止，具有產(chǎn)能高效的優(yōu)點。為了達到上述的目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案一種可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，包括激光光源、擴束準直系統(tǒng)、分束合光裝置和兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器，所述分束合光裝置包括第一分束合光棱鏡、第二分束合光棱鏡和兩個反射鏡，所述激光光源、擴束準直系統(tǒng)和第一分束合光棱鏡由前至后依次設(shè)置，所述兩個反射鏡分別位于所述第一分束合光棱鏡的后面和側(cè)面，第一、第二分束合光棱鏡和兩個反射鏡所在的位置組成平行四邊形，所述兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器分別位于第二分束合光棱鏡的后面和側(cè)面；激光光源發(fā)出的激光經(jīng)擴束準直系統(tǒng)擴束準直后，經(jīng)第一分束合光棱鏡分成兩束光，兩束光分別經(jīng)對應(yīng)的反射鏡反射后傳播到第二個分束合光棱鏡處，經(jīng)第二個分束合光棱鏡合光后交疊在兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器上。進一步，所述第一分束合光棱鏡和第二分束合光棱鏡分別米用由兩塊直角棱鏡中間夾一層分束合光膜粘合而成的立方棱鏡或一塊鍍有分束合光膜的平板玻璃兩種形式中的任意一種。進一步，所述分束合光膜能對光束實現(xiàn)反射與透射按I :1的比例進行分光。進一步，所述可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)還包括分別用于支撐和調(diào)節(jié)對應(yīng)的反射鏡的兩個反射鏡調(diào)角裝置，通過調(diào)節(jié)反射鏡調(diào)角裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)對應(yīng)的反射鏡上下左右180度調(diào)角。進一步，所述可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)還包括電動快門，所述電動快門設(shè)置于所述激光光源和擴束準直系統(tǒng)之間或者設(shè)置于所述擴束準直系統(tǒng)和第一分束合光棱鏡之間。進一步，所述可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)還包括光強衰減器，所述光強衰減器設(shè)置于激光光源和電動快門之間，或者設(shè)置于電動快門和擴束準直系統(tǒng)之間，或者設(shè)置于擴束準直系統(tǒng)和第一分束合光棱鏡之間。進一步，所述光強衰減器能夠連續(xù)改變光強。
進一步，所述激光光源是固體激光器、或氣體激光器、或半導(dǎo)體激光器、或單個激光器、或多個激光器組合而成的光源、或可見光激光器、或不可見光激光器。進一步，所述擴束準直系統(tǒng)包括由前至后依次設(shè)置擴束鏡和準直鏡。進一步，所述擴束鏡是消球差雙凹透鏡，所述準直鏡是凸透鏡，其中，所述凸透鏡的前焦點和所述消球差雙凹透鏡的前焦點重合。進一步，所述凸透鏡是雙凸透或平凸透鏡。進一步，所述反射鏡均為寬帶介質(zhì)膜高反射鏡，對可見光及紫外光具有高反射性。進一步，所述可轉(zhuǎn)動晶片夾持器能夠?qū)⒕潭?，且能載著晶片旋轉(zhuǎn)任意角度。本發(fā)明還提供了一種可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光方法，包括如下步驟激光光源發(fā)出光束，將該光束經(jīng)過擴束準直后的光束進行分光，形成兩個分光束；將兩個分光束合并到一個或兩個交疊區(qū)域，各交疊區(qū)域分別用于對裝載于可轉(zhuǎn)動晶片夾持器上的晶片進行曝光。進一步，在分光前的光路中設(shè)有用于控制光路開啟和關(guān)閉的電動快門。進一步，每個分光束的角度能夠進行上下左右180度調(diào)整。進一步，在分光前的光路中還設(shè)有用于改變光束光強的光強衰減器。進一步，所述光強衰減器能夠連續(xù)改變光強。本發(fā)明提供的用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)及方法，結(jié)構(gòu)簡單、成本低廉、易于實現(xiàn)，通過控制可轉(zhuǎn)動晶片夾持器的角度可實現(xiàn)同時對固定在對應(yīng)可轉(zhuǎn)動晶片夾持器上的兩片晶片實施曝光、轉(zhuǎn)動、再曝光的循環(huán)操作，直到完成所需光子晶體掩膜層結(jié)構(gòu)的制作為止，具有產(chǎn)能高效的特點。另外，通過控制兩反射鏡的角度可以制作多種光子晶體結(jié)構(gòu)，具有多功能的優(yōu)點，本發(fā)明可適用于任何尺寸的LED芯片制造，符合LED行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展之路。總而言之，本發(fā)明提供的一種可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)及方法具有如下有益效果一、結(jié)構(gòu)簡單、價格低廉，易于實現(xiàn)；二、利用光束干涉原理曝光，無需掩膜版，具有較高的成本優(yōu)勢；三、通過計算機控制電動快門的開關(guān)可實現(xiàn)對兩片晶片同時曝光，具有產(chǎn)能高效的優(yōu)點；
四、通過控制兩反射鏡的角度可制作多種光子晶體掩膜層，具有一種設(shè)備多種功能的特點，可用于制作各種光子晶體結(jié)構(gòu)；五、兩反射鏡均均為寬帶介質(zhì)膜高反射鏡，能夠?qū)Ω鞣N波長具有高反射形，便于激光光源的選擇和更換。六、生產(chǎn)過程環(huán)保無污染、符合現(xiàn)階段節(jié)能環(huán)抱的需求，便于大批量商業(yè)化生產(chǎn)。


本發(fā)明的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)及方法由以下的實施例及附圖給出。圖I是本發(fā)明一實施例用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)的整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本發(fā)明一實施例中的可轉(zhuǎn)動晶片夾持器的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本發(fā)明一實施例中的擴束準直系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是本發(fā)明一實施例中的分束合光棱鏡結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1_激光光源，2-電動快門，3-擴束準直系統(tǒng)、31-擴束鏡，32-準直鏡，4-分束合光裝置，41-第一分束合光棱鏡,42-第二分束合光棱鏡,43-反射鏡,5-可轉(zhuǎn)動晶片夾持器，6-光強衰減器，7-直角棱鏡，8-分束合光膜。
具體實施例方式以下將對本發(fā)明的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)及方法作進一步的詳細描述。下面將參照附圖對本發(fā)明進行更詳細的描述，其中表示了本發(fā)明的優(yōu)選實施例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本發(fā)明而仍然實現(xiàn)本發(fā)明的有利效果。因此，下列描述應(yīng)當被理解為對于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對本發(fā)明的限制。為使本發(fā)明的目的、特征更明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
作進一步的說明。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比率，僅用以方便、明晰地輔助說明本發(fā)明實施例的目的。請參閱圖1，圖I所示為本發(fā)明一實施例用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)的整體結(jié)構(gòu)示意圖。本實施例提供的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，包括激光光源I、電動快門2、擴束準直系統(tǒng)3、分束合光裝置4和兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器5，所述可轉(zhuǎn)動晶片夾持器5如圖2所示，其可將晶片固定，且能載著晶片旋轉(zhuǎn)任意角度；所述分束合光裝置4包括第一分束合光棱鏡41、第二分束合光棱鏡42和兩個反射鏡43，所述激光光源I、電動快門2、擴束準直系統(tǒng)3和第一分束合光棱鏡41由前至后依次設(shè)置，所述兩個反射鏡分別位于所述第一分束合光棱鏡41的后面和側(cè)面，第一、第二分束合光棱鏡41、42和兩個反射鏡43所在的位置組成平行四邊形，所述兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器5分別位于第二分束合光棱鏡42的后面和側(cè)面，所述電動快門2設(shè)置于所述激光光源I和擴束準直系統(tǒng)3之間或者設(shè)置于所述擴束準直系統(tǒng)3和第一分束合光棱鏡41之間，本實施中，所述電動快門2設(shè)置于所述激光光源I和擴束準直系統(tǒng)3之間；激光光源I發(fā)出的激光經(jīng)擴束準直系統(tǒng)3擴束準直后，經(jīng)第一分束合光棱鏡41分成兩束光，兩束光分別經(jīng)對應(yīng)的反射鏡43反射后傳播到第二個分束合光棱42鏡處，經(jīng)第二個分束合光棱鏡42合光后交疊在兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器5上。通過控制電動快門2的開關(guān)及可轉(zhuǎn)動晶片夾持器5的角度可實現(xiàn)同時對固定在對應(yīng)可轉(zhuǎn)動晶片夾持器5上的兩片晶片實施曝光、轉(zhuǎn)動、再曝光的循環(huán)操作，直到完成所需光子晶體掩膜層結(jié)構(gòu)的制作為止，具有產(chǎn)能高效的特點。 較佳的，在本實施例的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)中，所述激光光源I可以是固體激光器、或氣體激光器、或半導(dǎo)體激光器、或單個激光器、或多個激光器組合而成的光源、或可見光激光器、或不可見光激光器。可見，激光光源I的選用范圍相當廣泛，可以適用于各種光子晶體掩膜層的制作。請參閱圖3，并請結(jié)合圖1，其中，圖3是本發(fā)明一實施例中的擴束準直系統(tǒng)3的結(jié)構(gòu)示意圖，由圖3可見，所述擴束準直系統(tǒng)3包括由前至后依次設(shè)置擴束鏡31和準直鏡32。優(yōu)選的，所述擴束鏡31是消球差雙凹透鏡，所述準直鏡32是凸透鏡，其中，所述凸透鏡的前焦點和所述消球差雙凹透鏡的前焦點重合。優(yōu)選的，所述凸透鏡可以是雙凸透鏡或平凸透鏡。如圖2所示，由擴束鏡31和準直鏡32組成的擴束準直系統(tǒng)3可將如圖I所示的激光光源I發(fā)出的激光束按比例放大，并轉(zhuǎn)變成適合后續(xù)各光學(xué)器件尺寸大小的平行光束。請繼續(xù)參閱圖1，較佳的，在本實施例的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)中，還包括光強衰減器6，所述光強衰減器6設(shè)置于激光光源I和電動快門2之間。當然，所述光強衰減器6也可以設(shè)置于電動快門2和擴束準直系統(tǒng)3之間，或者設(shè)置于擴束準直系統(tǒng)3和第一分束合光棱鏡41之間。本實施例的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)中，所述光強衰減器6能夠連續(xù)改變光強。請參閱圖4，并請結(jié)合圖1，其中，圖4所示是本發(fā)明一實施例中的分束合光棱鏡結(jié)構(gòu)41的結(jié)構(gòu)示意圖。在本實施例的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)中，第一分束合光棱鏡41和第二分束合光棱鏡42米用由兩塊直角棱鏡7中間夾一層分束合光膜8粘合而成的立方棱鏡或一塊鍍有分束合光膜的平板玻璃兩種形式中的任意一種。本實施例，第一、第二分束合光棱鏡41、42均米用由兩塊直角棱鏡7中間夾一層分束合光膜8粘合而成的立方分束合光棱鏡。當然，所述第一、第二分束合光棱鏡41、42也可以均米用一塊鍍有分束合光膜的平板玻璃(未圖不)?；蛘?，所述第一分束合光棱鏡41米用由兩塊直角棱鏡7中間夾一層分束合光膜8粘合而成的立方分束合光棱鏡,而第二分束合光棱鏡42米用一塊鍍有分束合光膜的平板玻璃?；蛘撸龅诙质瞎饫忡R42采用由兩塊直角棱鏡7中間夾一層分束合光膜8粘合而成的立方分束合光棱鏡,而第一分束合光棱鏡41米用一塊鍍有分束合光膜的平板玻璃。較佳的，在本實施例的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)中，所述分束合光膜8能對光束實現(xiàn)反射與透射按I :1的比例進行分光。較佳的，在本實施例的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)中，所述反射鏡43均為寬帶介質(zhì)膜高反射鏡，對可見光及紫外光具有高反射性，從而便于激光光源I的選擇和更換。較佳的，在本實施例的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)中，還包括分別用于支撐和調(diào)節(jié)對應(yīng)的反射鏡43的兩個反射鏡調(diào)角裝置(未圖示)，通過調(diào)節(jié)反射鏡調(diào)角裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)對應(yīng)的反射鏡43上下左右180度調(diào)角。通過控制兩反射鏡43的角度可制作多種光子晶體掩膜層，經(jīng)過曝光后的晶片，再經(jīng)顯影工藝便能形成各種光子晶體結(jié)構(gòu)的掩膜層；后續(xù)再經(jīng)過感應(yīng)稱合等離子體刻蝕(ICP刻蝕,全稱Inductively CoupledPlasma)就能將光子晶體結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到襯底或透明導(dǎo)電膜上。可見，本發(fā)明具有一種設(shè)備多種 功能的特點，可用于制作各種光子晶體結(jié)構(gòu)。請繼續(xù)參閱圖1，本實施例提供的一種可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光方法，可以采用上所述可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，也可以采用其他結(jié)構(gòu)形式的曝光系統(tǒng)，該可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光方法包括如下步驟激光光源I發(fā)出光束，將該光束經(jīng)過擴束準直后的光束進行分光，形成兩個分光束；將兩個分光束合并到一個或兩個交疊區(qū)域，各交疊區(qū)域分別用于對裝載于可轉(zhuǎn)動晶片夾持器5上的晶片進行曝光。較佳的，在本實施例中，在分光前的光路中設(shè)有用于控制光路開啟和關(guān)閉的電動快門2。較佳的，在本實施例中，每個分光束的角度能夠進行上下左右180度調(diào)整。通過調(diào)整每個分光束的角度可制作多種光子晶體掩膜層，經(jīng)過曝光后的晶片，再經(jīng)顯影工藝便能形成各種光子晶體結(jié)構(gòu)的掩膜層；后續(xù)再經(jīng)過感應(yīng)耦合等離子體刻蝕就能將光子晶體結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到襯底或透明導(dǎo)電膜上?？梢?，本發(fā)明具有一種設(shè)備多種功能的特點，可用于制作各種光子晶體結(jié)構(gòu)。在本實施例中,在分光前的光路中還設(shè)有用于改變光束光強的光強衰減器6。較佳的，在本實施例中，所述光強衰減器6能夠連續(xù)改變光強。綜上所述，本發(fā)明提供的用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)及方法，結(jié)構(gòu)簡單、成本低廉、易于實現(xiàn)，通過控制電動快門可對分別承載于兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器的兩片晶片同時曝光及轉(zhuǎn)動曝光，具有產(chǎn)能高效的特點。另外，通過控制兩反射鏡的角度可以制作多種光子晶體結(jié)構(gòu)，具有多功能的優(yōu)點，該系統(tǒng)可適用于任何尺寸的LED芯片制造，符合LED行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展之路。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，包括激光光源、擴束準直系統(tǒng)、分束合光裝置和兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器，所述分束合光裝置包括第一分束合光棱鏡、第二分束合光棱鏡和兩個反射鏡，所述激光光源、擴束準直系統(tǒng)和第一分束合光棱鏡由前至后依次設(shè)置，所述兩個反射鏡分別位于所述第一分束合光棱鏡的后面和側(cè)面，第一、第二分束合光棱鏡和兩個反射鏡所在的位置組成平行四邊形，所述兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器分別位于第二分束合光棱鏡的后面和側(cè)面；激光光源發(fā)出的激光經(jīng)擴束準直系統(tǒng)擴束準直后,經(jīng)第一分束合光棱鏡分成兩束光,兩束光分別經(jīng)對應(yīng)的反射鏡反射后傳播到第二個分束合光棱鏡處，經(jīng)第二個分束合光棱鏡合光后交疊在兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，第一分束合光棱鏡和第二分束合光棱鏡分別米用由兩塊直角棱鏡中間夾一層分束合光膜粘合而成的立方棱鏡或一塊鍍有分束合光膜的平板玻璃兩種形式中的任意一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述分束合光膜能對光束實現(xiàn)反射與透射按I :1的比例進行分光。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，還包括分別用于支撐和調(diào)節(jié)對應(yīng)的反射鏡的兩個反射鏡調(diào)角裝置，通過調(diào)節(jié)反射鏡調(diào)角裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)對應(yīng)的反射鏡上下左右180度調(diào)角。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，包括電動快門，所述電動快門設(shè)置于所述激光光源和擴束準直系統(tǒng)之間或者設(shè)置于所述擴束準直系統(tǒng)和第一分束合光棱鏡之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，還包括光強衰減器，所述光強衰減器設(shè)置于激光光源和電動快門之間，或者設(shè)置于電動快門和擴束準直系統(tǒng)之間，或者設(shè)置于擴束準直系統(tǒng)和第一分束合光棱鏡之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述光強衰減器能夠連續(xù)改變光強。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述激光光源是固體激光器、或氣體激光器、或半導(dǎo)體激光器、或單個激光器、或多個激光器組合而成的光源、或可見光激光器、或不可見光激光器。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述擴束準直系統(tǒng)包括由前至后依次設(shè)置擴束鏡和準直鏡。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述擴束鏡是消球差雙凹透鏡，所述準直鏡是凸透鏡，其中，所述凸透鏡的前焦點和所述消球差雙凹透鏡的前焦點重合。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述凸透鏡是雙凸透或平凸透鏡。
12.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述反射鏡均為寬帶介質(zhì)膜高反射鏡，對可見光及紫外光具有高反射性。
13.根據(jù)權(quán)利要求I所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述可轉(zhuǎn)動晶片夾持器能夠?qū)⒕潭?，且能載著晶片旋轉(zhuǎn)任意角度。
14.一種可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光方法，其特征在于，包括如下步驟激光光源發(fā)出光束，將該光束經(jīng)過擴束準直后的光束進行分光，形成兩個分光束；將兩個分光束合并到一個或兩個交疊區(qū)域，各交疊區(qū)域分別用于對裝載于可轉(zhuǎn)動晶片夾持器上的晶片進行曝光。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光方法，其特征在于，在分光前的光路中設(shè)有用于控制光路開啟和關(guān)閉的電動快門。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光方法，其特征在于，每個分光束的角度能夠進行上下左右180度調(diào)整。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光方法，其特征在于，在分光前的光路中還設(shè)有用于改變光束光強的光強衰減器。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光方法，其特征在于，所述光強衰減器能夠連續(xù)改變光強。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光系統(tǒng)，包括激光光源、擴束準直系統(tǒng)、分束合光裝置和兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器,分束合光裝置包括第一分束合光棱鏡、第二分束合光棱鏡和兩個反射鏡，激光光源、擴束準直系統(tǒng)和第一分束合光棱鏡由前至后依次設(shè)置，兩個反射鏡分別位于第一分束合光棱鏡的后面和側(cè)面，第一、第二分束合光棱鏡和兩個反射鏡所在的位置組成平行四邊形，兩個可轉(zhuǎn)動晶片夾持器分別位于第二分束合光棱鏡的后面和側(cè)面，電動快門設(shè)置于激光光源和擴束準直系統(tǒng)之間或者設(shè)置于擴束準直系統(tǒng)和第一分束合光棱鏡之間。還公開了一種可用于制作光子晶體掩膜層的雙光束曝光方法。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單、價格低廉、易于實現(xiàn)。
文檔編號G03F7/20GK102707584SQ201210202600
公開日2012年10月3日 申請日期2012年6月15日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月15日
發(fā)明者丁海生, 張昊翔, 李東昇, 李超, 江忠永, 王洋, 馬新剛, 黃捷, 黃敬 申請人:杭州士蘭明芯科技有限公司