專利名稱：正型光致抗蝕劑剝離劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在光刻膠的剝離中不腐蝕基板、且能有效地除去光致抗蝕劑膜，特別是剝離性能優(yōu)異的正型光致抗蝕劑剝離劑組合物。
背景技術(shù)：
常規(guī)半導(dǎo)體元件或液晶面板元件的制造步驟首先在硅片等基板上形成蒸鍍得到的導(dǎo)電性金屬膜等絕緣膜。然后，在上述膜上均一地涂布光致抗蝕劑，選擇性地對其進(jìn)行曝光、顯影，形成圖案。接下來，將該圖案作為掩模選擇性地蝕刻上述導(dǎo)電性金屬膜或絕緣膜，隨后，用剝離液除去不要的光致抗蝕劑層。目前，從安全性、剝離性觀點(diǎn)考慮使用各種有機(jī)類剝離液除去上述殘留的光致抗蝕劑層。而蝕刻工藝，根據(jù)其蝕刻條件在抗蝕劑表面引發(fā)復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，并在這種化學(xué)反應(yīng)下形成表面層變質(zhì)的抗蝕劑。即，變質(zhì)的抗蝕劑引發(fā)用于干式蝕刻的等離子氣體與基板及感光液之間的反應(yīng)而生成副產(chǎn)品。一般情況下，如果不能穩(wěn)定地去除變質(zhì)的高分子物質(zhì)，那么在蝕刻的圖案上或在圖案和圖案之間就會產(chǎn)生抗蝕劑的殘?jiān)?。這種殘?jiān)鼤蔀樵诤罄m(xù)的成膜、照相平版印刷、蝕刻等工藝中出現(xiàn)斷線及短路現(xiàn)象的主要原因，而上述問題會導(dǎo)致產(chǎn)品的可靠性、生產(chǎn)效率及性能降低?，F(xiàn)有的剝離劑對鋁和銅等具有腐蝕作用。且不能滿足加工圖案趨于微細(xì)化的要求?；谏鲜龈鞣N理由，需要一種即使采用上述的有機(jī)溶劑進(jìn)行處理，在對鋁和銅等腐蝕小的同時，也能完全去除抗蝕劑基板上的殘留物，具有強(qiáng)剝離能力的組合物。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是在于需要提供一種在光刻膠的剝離中不腐蝕基板、且能有效地除去光致抗蝕劑膜的正型光致抗蝕劑剝離劑組合物，從而彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)上的不足。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種正型光致抗蝕劑剝離劑組合物，其特征在于包括a) 1-20重量份的N，N- 二乙基羥胺；b) 1-70重量份的二甘醇單烷基醚；c) 1-5重量份的[式I]所示的化合物；d) 1-5重量份的[式2]所示的化合物；
權(quán)利要求
1.一種正型光致抗蝕劑剝離劑組合物，其特征在于包括a) 1-20重量份的N，N- ニ乙基羥基胺；b) 1-70重量份的ニ甘醇單烷基醚；c) 1-5重量份的[式I]所示的化合物；d) 1-5重量份的[式2]所示的化合物；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正型光致抗蝕劑剝離劑組合物，其中，還含有e)O. 01-10重量份的非離子表面活性剤。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正型光致抗蝕劑剝離劑組合物，其中，還含有f)20-90重量份的非質(zhì)子極性溶剤。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的正型光致抗蝕劑剝離劑組合物，其中，所述的ニ甘醇單烷基醚是選自丁基こニ醇、丁基ニこニ醇、丁基三甘醇、甲基こニ醇、甲基ニこニ醇、甲基三こニ醇、及甲基丙ニ醇中的至少ー種化合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的正型光致抗蝕劑剝離劑組合物，其中，所述的非質(zhì)子極性溶劑是選自ニ甲基亞砜、N-甲基-2-吡咯烷酮、N, N- ニ甲基こ酰胺、N, N- ニ甲基甲酰胺、N，N-ニ甲基咪唑啉酮、及Y-丁內(nèi)酯中的至少ー種化合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的正型光致抗蝕劑剝離劑組合物，其中，所述的非離子表面活性劑，是選自聚氧丙烯こニ醇醚、聚氧丙烯こ基醚、聚氧丙烯甲基醚、聚氧丙稀丁基醚、聚氧こ烯聚丙ニ醇醚、聚氧こ烯聚丙こ基醚、聚氧こ烯聚丙甲基醚、聚氧こ烯聚丙丁基醚中的至少ー種化合物。
7.如權(quán)利要求1所述的正型光致抗蝕劑剝離劑組合物在光刻膠剝離中的應(yīng)用。
8.ー種如[式I]所示的化合物
全文摘要
本發(fā)明提供了一種正型光致抗蝕劑剝離劑組合物，它包括a)1-20重量份的N，N-二乙基羥胺；b)1-70重量份的二甘醇單烷基醚；c)1-5重量份的[式1]所示的化合物；d)1-5重量份的[式2]所示的化合物；[式1]，其中R’為氫，或具有1至4個碳原子的烷基，[式2]。本發(fā)明正型光致抗蝕劑剝離劑組合物不腐蝕基板、且能有效地除去光致抗蝕劑膜，因此具有很強(qiáng)的實(shí)用性。
文檔編號G03F7/42GK102998915SQ20121024620
公開日2013年3月27日 申請日期2012年7月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月17日
發(fā)明者張峰 申請人:張峰