專利名稱：灰階掩膜版及利用其形成的柱狀隔墊物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及掩膜版和柱狀隔墊物，特別涉及一種灰階掩膜版及利用其形成的柱狀隔墊物。
背景技術(shù)：
薄膜晶體管液晶顯示裝置是目前平面顯示器的主流。薄膜晶體管液晶顯示裝置的面板，包括平行設(shè)置的薄膜晶體管陣列基板和彩色濾光片基板，兩者之間設(shè)置有液晶層，為了控制液晶層厚度的穩(wěn)定均一性，在兩基板之間設(shè)置隔墊物。目前，高性能的薄膜晶體管液 晶顯示裝置較多采用柱狀隔墊物。由于薄膜晶體管液晶顯示裝置在高溫下工作時(shí)液晶分子會(huì)隨重力場(chǎng)移動(dòng)，從而出現(xiàn)重力水波紋現(xiàn)象，影響薄膜晶體管液晶顯示裝置的顯示質(zhì)量。另夕卜，向液晶層注入液晶的時(shí)候，如果在周邊區(qū)域出現(xiàn)液晶堆積過多的情況，就會(huì)導(dǎo)致周邊水波紋現(xiàn)象，情況嚴(yán)重時(shí)還會(huì)在薄膜晶體管液晶顯示裝置的下端出現(xiàn)大面積的漏光現(xiàn)象。通過將位于液晶層周邊區(qū)域內(nèi)的柱狀隔墊物的高度設(shè)置成高于液晶層中部區(qū)域內(nèi)的柱狀隔墊物的高度，可以有效解決重力水波紋現(xiàn)象和重力水波紋現(xiàn)象。在薄膜晶體管液晶顯示裝置的生產(chǎn)過程中，可以使用掩膜版通過曝光形成柱狀隔墊物。為了實(shí)現(xiàn)柱狀隔墊物高度不同的要求，利用灰階掩膜版實(shí)現(xiàn)，傳統(tǒng)的灰階掩膜版是通過半透過膜實(shí)現(xiàn)部分曝光區(qū)的部分曝光的。利用傳統(tǒng)的灰階掩膜版形成高度不同的柱狀隔墊物的過程如下首先，如圖I所示，在彩色濾光片基板300上涂布用于形成隔墊物的負(fù)性光刻膠200，其中，負(fù)性光刻膠在受到光照后形成不可溶物質(zhì)；然后，通過傳統(tǒng)的灰階掩膜版100'對(duì)負(fù)性光刻膠進(jìn)行曝光和顯影后，將沒有受到光照的負(fù)性光刻膠清除，這樣，如圖2所示，在傳統(tǒng)的灰階掩膜版的完全曝光區(qū)110的下方形成完全曝光區(qū)隔墊物，在傳統(tǒng)的灰階掩膜版的部分曝光區(qū)120'的下方形成部分曝光區(qū)隔墊物。圖3為傳統(tǒng)的灰階掩膜版的完全曝光區(qū)110的示意圖，圖4為傳統(tǒng)的灰階掩膜版的部分曝光區(qū)120'的示意圖，部分曝光區(qū)是半透過膜。但是傳統(tǒng)的采用半透過膜的灰階掩膜版的成本是普通掩膜版的兩倍，大大提成了制造的成本。另外，通過傳統(tǒng)的灰階掩膜版形成的柱狀隔墊物的上表面是圓弧面，薄膜晶體管陣列基板和彩色濾光片基板對(duì)盒后，由于外力作用，很容易導(dǎo)致薄膜晶體管陣列基板和彩色濾光片基板的相對(duì)位移，影響液晶顯示裝置的畫質(zhì)。在采用柱狀隔墊物的薄膜晶體管液晶顯示裝置設(shè)計(jì)中，需要液晶層具有范圍較大的液晶層上下限區(qū)間(Liquid Crystal Margin),液晶層上下限區(qū)間是指液晶填充上限(在高溫時(shí)不出現(xiàn)重力缺陷)與液晶允許填充下限(在低溫時(shí)不出現(xiàn)真空氣泡)之間的范圍，因此要求柱狀隔墊物的結(jié)構(gòu)既能提供足夠的變形量防止真空氣泡不良，又能夠提供更多的支撐カ防止重力缺陷、擠壓缺陷等不良。通過傳統(tǒng)的灰階掩膜版形成的柱狀隔墊物的結(jié)構(gòu)沒有解決這個(gè)技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種灰階掩膜版及利用其形成的柱狀隔墊物，灰階掩膜版的成本比傳統(tǒng)的灰階掩膜版低；且利用灰階掩膜版形成的柱狀隔墊物有利于防止薄膜晶體管陣列基板和彩色濾光片基板的相對(duì)位移，且為液晶層提供范圍較大的液晶層上下限區(qū)間。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案—種灰階掩膜版，包括透明襯底和形成于其上的遮光層，所述遮光層包括部分曝光區(qū)，所述部分曝光區(qū)包括多個(gè)透光孔，所述多個(gè)透光孔均勻分布。優(yōu)選地，所述多個(gè)透光孔分多行分布，每一行的同一行內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔相等。優(yōu)選地，所述多個(gè)透光孔，包括m行和n列，同一行內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔a相同，同一列內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔b相同且a=b，其中m和n是大于等于2的自然數(shù)。優(yōu)選地，所述多個(gè)透光孔分多行分布，所述多行透光孔的相鄰行之間緊密相鄰且相鄰行的透光孔交錯(cuò)設(shè)置。 優(yōu)選地，所述所有透光孔圍成的圖案是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正E邊形，其中E是大于等于3的自然數(shù)。優(yōu)選地，每個(gè)所述透光孔是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正F邊形，其中F是大于等于3的自然數(shù)。本發(fā)明還提供另ー技術(shù)方案ー種灰階掩膜版，包括透明襯底和形成于其上的遮光層，所述遮光層包括部分曝光區(qū)，所述部分曝光區(qū)包括曝光開口和位于曝光開ロ內(nèi)的多個(gè)遮光區(qū)，所述多個(gè)遮光區(qū)均勻分布。優(yōu)選地，所述多個(gè)遮光區(qū)分多行分布，每一行的同一行內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間
隔相等。優(yōu)選地，所述多個(gè)遮光區(qū)，包括s行和t列，同一行內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間隔c相同，同一列內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間隔d相同且c=d，其中s和t是大于等于2的自然數(shù)。優(yōu)選地，所述多個(gè)遮光區(qū)分多行分布，所述多行遮光區(qū)的相鄰行之間緊密相鄰且相鄰行的遮光區(qū)交錯(cuò)設(shè)置。優(yōu)選地，所述曝光開ロ是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正G邊形，其中G是大于等于3的自然數(shù)。優(yōu)選地，每個(gè)所述遮光區(qū)是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正H邊形，其中H是大于等于3的自然數(shù)。本發(fā)明還提供另ー技術(shù)方案ー種柱狀隔墊物，所述柱狀隔墊物通過上述任一種灰階掩膜版形成，所述灰階掩膜版的部分曝光區(qū)下形成的柱狀隔墊物的上表面是凹凸不平的。本發(fā)明提供的灰階掩膜版及利用其形成的隔墊物，灰階掩膜版在部分曝光區(qū)均勻分布多個(gè)透光孔或在曝光開ロ均勻分布的多個(gè)遮光區(qū)實(shí)現(xiàn)部分曝光，與傳統(tǒng)的的灰階掩膜版相比，降低了成本。利用灰階掩膜版形成隔墊物的過程中，利用其部分曝光區(qū)均勻分布多個(gè)透光孔或在曝光開ロ均勻分布的多個(gè)遮光區(qū)的衍射作用，形成上表面是凹凸不平的部分曝光區(qū)的柱狀隔墊物的，這樣有利于防止薄膜晶體管陣列基板和彩色濾光片基板的相對(duì)位移，從而改善液晶顯示裝置的畫質(zhì)，同時(shí)為液晶層提供范圍較大的液晶層上下限區(qū)間。


圖I為傳統(tǒng)的灰階掩膜版在對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光之前的示意圖；圖2為利用傳統(tǒng)的灰階掩膜版形成不同高度的柱狀隔墊物的示意圖；圖3為傳統(tǒng)的灰階掩膜版的完全曝光區(qū)的示意圖；圖4為傳統(tǒng)的灰階掩膜版的部分曝光區(qū)的示意圖；圖5為本發(fā)明的灰階掩膜版的一個(gè)實(shí)施例的部分曝光區(qū)的示意圖；圖6為圖5所示灰階掩膜版在對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光之前的示意圖；圖7為利用圖5所示灰階掩膜版形成不同高度的柱狀隔墊物的示意圖；
圖8為圖7所示部分曝光區(qū)的柱狀隔墊物的俯視圖；圖9為為圖8所示A-A剖視線的剖視圖；圖10為本發(fā)明的灰階掩膜版的另ー個(gè)實(shí)施例的部分曝光區(qū)的示意圖；圖11為本發(fā)明的灰階掩膜版的另ー個(gè)實(shí)施例的部分曝光區(qū)的示意圖；圖12為本發(fā)明的灰階掩膜版的另ー個(gè)實(shí)施例的部分曝光區(qū)的示意圖；圖13為本發(fā)明的灰階掩膜版的另ー個(gè)實(shí)施例的部分曝光區(qū)的示意圖；圖14為本發(fā)明的灰階掩膜版的另ー個(gè)實(shí)施例的部分曝光區(qū)的示意圖；圖15為本發(fā)明的灰階掩膜版的另ー個(gè)實(shí)施例的部分曝光區(qū)的示意圖；圖16為本發(fā)明的灰階掩膜版的另ー個(gè)實(shí)施例的部分曝光區(qū)的示意圖；圖17為本發(fā)明的灰階掩膜版的另ー個(gè)實(shí)施例的部分曝光區(qū)的示意圖；圖18為本發(fā)明的灰階掩膜版的另ー個(gè)實(shí)施例的部分曝光區(qū)的示意圖。主要元件附圖標(biāo)記說明100'傳統(tǒng)的灰階掩膜版，120'傳統(tǒng)的灰階掩膜版的部分曝光區(qū)，100灰階掩膜版，110完全曝光區(qū)，120部分曝光區(qū)，200負(fù)性光刻膠，300彩色濾光片基板。
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。實(shí)施例一本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的灰階掩膜版，包括透明襯底和形成于其上的遮光層，遮光層包括部分曝光區(qū)，如圖5所示，部分曝光區(qū)包括六行透光孔，六行的同一行內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔相等；六行透光孔的相鄰行之間的間隔相等且等于同一行內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔;所有透光孔圍成的圖案是軸對(duì)稱圖形且是中心對(duì)稱圖形，所有透光孔圍成的圖案的邊緣接近于圓形。進(jìn)ー步地,如圖5所示,姆個(gè)透光孔是正八邊形。本實(shí)施例的灰階掩膜版的完全曝光區(qū)與傳統(tǒng)的灰階掩膜版的完全曝光區(qū)相同不予累述。利用本實(shí)施例的灰階掩膜版形成高度不同的柱狀隔墊物的過程如下首先，如圖6所示，在彩色濾光片基板300上，涂布用于形成隔墊物的負(fù)性光刻膠200，其中，負(fù)性光刻膠在受到光照后形成不可溶物質(zhì)；然后，通過本實(shí)施例的灰階掩膜版100的對(duì)負(fù)性光刻膠進(jìn)行曝光和顯影后，將沒有受到光照的負(fù)性光刻膠清除，這樣，如圖7所示，灰階掩膜版的完全曝光區(qū)110的下方形成完全曝光區(qū)隔墊物，在灰階掩膜版的部分曝光區(qū)120的下方形成部分曝光區(qū)隔墊物。這樣，利用本實(shí)施例的灰階掩膜版，能夠在彩色濾光片基板上形成高度不同的柱狀隔墊物，可以有效解決重力水波紋現(xiàn)象和重力水波紋現(xiàn)象，從而改善液晶顯示裝置的畫質(zhì)。與利用傳統(tǒng)的灰階掩膜版相比，本實(shí)施例的灰階掩膜版的成本比較低，有利于降低生產(chǎn)液晶顯示裝置的成本。由于部分曝光區(qū)的多個(gè)小孔產(chǎn)生衍射作用，如圖8和圖9所示，在部分曝光區(qū)隔墊物的上表面形成與透光孔個(gè)數(shù)對(duì)應(yīng)的柱狀突起且柱狀突起的下表面比上表面面積大；即部分曝光區(qū)柱狀隔墊物的上 表面是凹凸不平的。這樣，利用本實(shí)施例的灰階掩膜版在部分曝光區(qū)形成的柱狀隔墊物的上表面是凹凸不平的，與利用傳統(tǒng)的灰階掩膜版形成的柱狀隔墊物的上表面是圓弧面相比，上表面是凹凸不平的柱狀隔墊物有利于防止薄膜晶體管陣列基板和彩色濾光片基板的相對(duì)位移，從而改善液晶顯示裝置的畫質(zhì)；同時(shí)，上表面是凹凸不平的這種結(jié)構(gòu)的柱狀隔墊物能夠提供更多的變形量防止真空氣泡不良，又能夠提供更多的支撐カ防止重力缺陷、擠壓缺陷等不良；即上表面是凹凸不平的柱狀隔墊物為液晶層提供范圍較大的液晶層上下限區(qū)間。作為ー種可選的方式，每個(gè)透光孔可以是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正F邊形，其中F是大于等于3的自然數(shù)。作為ー種可選的方式，每個(gè)透光孔是軸對(duì)稱圖形且是中心對(duì)稱圖形。作為ー種可選的方式，所有透光孔圍成的圖案是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正E邊形，其中E是大于等于3的自然數(shù)。作為ー種可選的方式，根據(jù)需要灰階掩膜版的遮光層可以只包括部分曝光區(qū)，不包括完全曝光區(qū)。利用這種只包括部分曝光區(qū)的灰階掩膜版形成的柱狀隔墊物的上表面是凹凸不平的，上表面是凹凸不平的柱狀隔墊物的技術(shù)效果如上所述，因此不予累述。實(shí)施例ニ本發(fā)明的另ー個(gè)實(shí)施例的灰階掩膜版，包括透明襯底和形成于其上的遮光層，遮光層包括部分曝光區(qū)，如圖10所示，部分曝光區(qū)包括五行和五列透光孔，同一行內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔相同，同一列內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔相同，且同一行內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔等于同一列內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔；所有透光孔圍成的圖案是軸對(duì)稱圖形且是中心對(duì)稱圖形。進(jìn)ー步地，如圖10所示，所有透光孔圍成的圖案的邊緣接近于正八邊形。進(jìn)ー步地，如圖10所示，每個(gè)透光孔是正八邊形。作為ー種選的方式，每個(gè)透光孔還可以是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正F邊形，其中F是大于等于3的自然數(shù)。作為ー種可選的方式，每個(gè)透光孔是軸對(duì)稱圖形且是中心對(duì)稱圖形。利用本實(shí)施例的灰階掩膜版形成高度不同的柱狀隔墊物的過程與利用實(shí)施ー的過程相同，由于部分曝光區(qū)的多個(gè)小孔產(chǎn)生衍射作用，在部分曝光區(qū)隔墊物的上表面形成與透光孔個(gè)數(shù)對(duì)應(yīng)的柱狀突起且柱狀突起的下表面比上表面面積大。即部分曝光區(qū)柱狀隔墊物的上表面是凹凸不平的。利用本實(shí)施例的灰階掩膜版在部分曝光區(qū)形成的柱狀隔墊物所解決的技術(shù)問題和技術(shù)效果與實(shí)施例一中相同，不予累述。作為ー種可選的方式，如圖11所示，透光孔呈陣列分布，包括五行和五列，所有透光孔圍成的圖案的邊緣接近于正四邊形。實(shí)施例三本發(fā)明的另ー個(gè)實(shí)施例的灰階掩膜版，包括透明襯底和形成于其上的遮光層，遮光層包括部分曝光區(qū)，如圖12所示，部分曝光區(qū)包括七行，七行透光孔的相鄰行之間緊密相鄰且相鄰行的透光孔交錯(cuò)設(shè)置，所有透光孔圍成的圖案是軸對(duì)稱圖形且是中心對(duì)稱圖形。進(jìn)ー步地，如圖12所示，所有透光孔圍成的圖案的邊緣接近于正八邊形。進(jìn)ー步地，如圖12所示，每個(gè)透光孔是正方邊形。作為ー種可選的方式，每個(gè)透光孔還可以是長(zhǎng)方形。
利用本實(shí)施例的灰階掩膜版形成高度不同的柱狀隔墊物的過程與利用實(shí)施ー的過程相同，由于部分曝光區(qū)的多個(gè)小孔產(chǎn)生衍射作用，在部分曝光區(qū)隔墊物的上表面形成與透光孔個(gè)數(shù)對(duì)應(yīng)的柱狀突起且柱狀突起的下表面比上表面面積大。即部分曝光區(qū)柱狀隔墊物的上表面是凹凸不平的。利用本實(shí)施例的灰階掩膜版在部分曝光區(qū)形成的柱狀隔墊物所解決的技術(shù)問題和技術(shù)效果與實(shí)施例一中相同，不予累述。作為ー種可選的方式，如圖13所示，所有透光孔圍成的圖案的邊緣是正方邊形。作為ー種可選的方式，所有透光孔圍成的圖案的邊緣是長(zhǎng)方邊形實(shí)施例四本發(fā)明的另ー個(gè)實(shí)施例的灰階掩膜版，包括透明襯底和形成于其上的遮光層，遮光層包括部分曝光區(qū)，如圖14所示，部分曝光區(qū)包括曝光開口和位于曝光開口內(nèi)的六行遮光區(qū)，每一行的同一行內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間隔相等；六行遮光區(qū)的相鄰行之間的間隔相等且等于同一行內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間隔;部分曝光區(qū)是軸對(duì)稱圖形且是中心對(duì)稱圖形，曝光開ロ是圓形。進(jìn)ー步地，如圖14所示，每個(gè)遮光區(qū)是正八邊形。作為ー種可選的方式，每個(gè)遮光區(qū)還可以是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正H邊形，其中H是大于等于3的自然數(shù)。作為一種可選的方式，遮光區(qū)是軸對(duì)稱圖形且是中心對(duì)稱圖形。利用本實(shí)施例的灰階掩膜版形成高度不同的柱狀隔墊物的過程與利用實(shí)施ー的過程相同，由于部分曝光區(qū)的曝光開口和多個(gè)遮光區(qū)所組成的空間的產(chǎn)生衍射作用，在部分曝光區(qū)隔墊物的上表面形成與曝光開口和多個(gè)遮光區(qū)所組成的空間大致相同的突起且突起的下表面比上表面面積大。即部分曝光區(qū)柱狀隔墊物的上表面是凹凸不平的。利用本實(shí)施例的灰階掩膜版在部分曝光區(qū)形成的柱狀隔墊物所解決的技術(shù)問題和技術(shù)效果與實(shí)施例一中相同，不予累述。實(shí)施例五本發(fā)明的另ー個(gè)實(shí)施例的灰階掩膜版，包括透明襯底和形成于其上的遮光層，遮光層包括部分曝光區(qū)，如圖15所示，部分曝光區(qū)包括曝光開口和位于曝光開口內(nèi)的五行和五列遮光區(qū)，同一行內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間隔相同，同一列內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間隔相等，且同一行內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間隔等于同一列內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間隔；
部分曝光區(qū)是軸對(duì)稱圖形且是中心對(duì)稱圖形。進(jìn)ー步地，如圖15所示，曝光開ロ是正八邊形。進(jìn)ー步地，如圖15所示，每個(gè)遮光區(qū)是正八邊形。作為ー種可選的方式，每個(gè)遮光區(qū)還可以圓形或橢圓形或菱形或矩形或正H邊形，其中H是大于等于3的自然數(shù)。作為ー種可選的方式，遮光區(qū)是軸對(duì)稱圖形且是中心對(duì)稱圖形。利用本實(shí)施例的灰階掩膜版形成高度不同的柱狀隔墊物的過程與利用實(shí)施ー的過程相同，由于部分曝光區(qū)的曝光開口和多個(gè)遮光區(qū)所組成的空間的產(chǎn)生衍射作用，在部分曝光區(qū)隔墊物的上表面形成與曝光開口和多個(gè)遮光區(qū)所組成的空間大致相同的突起且突起的下表面比上表面面積大。即部分曝光區(qū)柱狀隔墊物的上表面是凹凸不平的。利用本實(shí)施例的灰階掩膜版在部分曝光區(qū)形成的柱狀隔墊物所解決的技術(shù)問題和技術(shù)效果與實(shí)施例一中相同，不予累述。 作為ー種可選的方式，如圖16所示，遮光區(qū)呈陣列分布，包括五行和五列，曝光開ロ是正四邊形。作為ー種可選的方式，所述曝光開ロ是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正G邊形，其中G是大于等于3的自然數(shù)。實(shí)施例六本發(fā)明的另ー個(gè)實(shí)施例的灰階掩膜版，包括透明襯底和形成于其上的遮光層，遮光層包括部分曝光區(qū)，如圖17所示，部分曝光區(qū)包括曝光開口和位于曝光開口內(nèi)的七行遮光區(qū)，七行遮光區(qū)的相鄰行之間緊密相鄰且相鄰行的遮光區(qū)交錯(cuò)設(shè)置，部分曝光區(qū)是軸對(duì)稱圖形且是中心對(duì)稱圖形。進(jìn)ー步地，如圖17所示，曝光開ロ是正八邊形。利用本實(shí)施例的灰階掩膜版形成高度不同的柱狀隔墊物的過程與利用實(shí)施ー的過程相同，由于部分曝光區(qū)的曝光開口和多個(gè)遮光區(qū)所組成的空間的產(chǎn)生衍射作用，在部分曝光區(qū)隔墊物的上表面形成與曝光開口和多個(gè)遮光區(qū)所組成的空間大致相同的突起且突起的下表面比上表面面積大。即部分曝光區(qū)柱狀隔墊物的上表面是凹凸不平的。利用本實(shí)施例的灰階掩膜版在部分曝光區(qū)形成的柱狀隔墊物所解決的技術(shù)問題和技術(shù)效果與實(shí)施例一中相同，不予累述。作為ー種可選的方式，如圖17所不,姆個(gè)是遮光區(qū)正方邊形。作為ー種可選的方式，每個(gè)遮光區(qū)還可以是長(zhǎng)方形。作為ー種可選的方式，如圖18所示，曝光開ロ是正四邊形。作為ー種可選的方式，曝光開ロ是長(zhǎng)方形。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種灰階掩膜版，包括透明襯底和形成于其上的遮光層，其特征在于，所述遮光層包括部分曝光區(qū)，所述部分曝光區(qū)包括多個(gè)透光孔，所述多個(gè)透光孔均勻分布。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的灰階掩膜版，其特征在于，所述多個(gè)透光孔分多行分布，每一行的同一行內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔相等。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的灰階掩膜版，其特征在于，所述多個(gè)透光孔，包括m行和η列，同一行內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔a相同，同一列內(nèi)的相鄰?fù)腹饪字g的間隔b相同且a=b，其中m和η是大于等于2的自然數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的灰階掩膜版，其特征在于，所述多個(gè)透光孔分多行分布，所述多行透光孔的相鄰行之間緊密相鄰且相鄰行的透光孔交錯(cuò)設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的灰階掩膜版，其特征在于，所述所有透光孔圍成的圖案是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正E邊形，其中E是大于等于3的自然數(shù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的灰階掩膜版，其特征在于，每個(gè)所述透光孔是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正F邊形，其中F是大于等于3的自然數(shù)。
7.一種灰階掩膜版，包括透明襯底和形成于其上的遮光層，其特征在于，所述遮光層包括部分曝光區(qū)，所述部分曝光區(qū)包括曝光開口和位于曝光開口內(nèi)的多個(gè)遮光區(qū)，所述多個(gè)遮光區(qū)均勻分布。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的灰階掩膜版，其特征在于，所述多個(gè)遮光區(qū)分多行分布，每一行的同一行內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間隔相等。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的灰階掩膜版，其特征在于，所述多個(gè)遮光區(qū)，包括s行和t列，同一行內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間隔c相同，同一列內(nèi)的相鄰遮光區(qū)之間的間隔d相同且c=d,其中s和t是大于等于2的自然數(shù)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的灰階掩膜版，其特征在于，所述多個(gè)遮光區(qū)分多行分布，所述多行遮光區(qū)的相鄰行之間緊密相鄰且相鄰行的遮光區(qū)交錯(cuò)設(shè)置。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的灰階掩膜版，其特征在于，所述曝光開口是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正G邊形，其中G是大于等于3的自然數(shù)。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的灰階掩膜版，其特征在于，每個(gè)所述遮光區(qū)是圓形或橢圓形或菱形或矩形或正H邊形，其中H是大于等于3的自然數(shù)。
13.一種柱狀隔墊物，其特征在于，所述柱狀隔墊物通過權(quán)利要求I至6中任一種灰階掩膜版形成，所述灰階掩膜版的部分曝光區(qū)下形成的柱狀隔墊物的上表面是凹凸不平的。
14.一種柱狀隔墊物，其特征在于，所述柱狀隔墊物通過權(quán)利要求7至12中任一種灰階掩膜版形成，所述灰階掩膜版的部分曝光區(qū)下形成的柱狀隔墊物的上表面是凹凸不平的。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種灰階掩膜版及利用其形成的柱狀隔墊物，所述灰階掩膜版包括透明襯底和形成于其上的遮光層，所述遮光層包括部分曝光區(qū)，所述部分曝光區(qū)包括多個(gè)透光孔，所述多個(gè)透光孔均勻分布；或所述部分曝光區(qū)包括曝光開口和位于曝光開口內(nèi)的多個(gè)遮光區(qū)，所述多個(gè)遮光區(qū)均勻分布。利用其形成的柱狀隔墊物，部分曝光區(qū)下形成的柱狀隔墊物的上表面是凹凸不平的。本發(fā)明的灰階掩膜版的成本比傳統(tǒng)的灰階掩膜版低，利用其形成的柱狀隔墊物有利于防止薄膜晶體管陣列基板和彩色濾光片基板的相對(duì)位移，且為液晶層提供范圍較大的液晶層上下限區(qū)間。
文檔編號(hào)G02F1/1339GK102819181SQ20121028567
公開日2012年12月12日 申請(qǐng)日期2012年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月10日
發(fā)明者吳洪江, 黎敏, 查長(zhǎng)軍 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司