專利名稱：一種顯示面板及其制造方法、平板顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及圖像顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板及其制造方法、平板顯示裝置。
背景技術(shù)：
光刻制程在平板顯示器的制造中至關(guān)重要，主要步驟為“薄膜沉積一光阻涂布一曝光一光阻顯影一薄膜蝕刻一光阻剝離”。一般情況下，“光阻顯影”是使用液態(tài)的顯影液進行，而金屬(合金)層的“薄膜蝕刻”是使用液態(tài)的蝕刻液進行，均為所謂的“濕制程”。在“濕制程”中，基板表面的薄膜圖案會影響溶液中藥劑的局部濃度，即如果某處需要顯影的光阻面積或需要蝕刻的金屬(合金)面積大，則該處消耗的藥劑多；反之，如果某處需要顯影的光阻面積或需要蝕刻的金屬(合金)面積小，則該處消耗的藥劑少。溶液普遍存在擴散作用，自發(fā)地傾向于保持各處濃度相等。因此當基板表面的薄膜圖案差異很大時，顯影或蝕刻時會出現(xiàn)藥劑從高濃度區(qū)向低濃度區(qū)的擴散，從而導致圖案邊界區(qū)的顯影或蝕刻效果與中心區(qū)明顯不同。這種效應被稱為“負載效應”(Loading Effect)。下面以液晶面板的像素電極層的光阻顯影制程為例，說明Loading Effect對普通液晶面板的圖像顯示區(qū)域(AA區(qū))邊緣的不利影響。圖I所示為現(xiàn)有普通液晶面板的像素電極層的設計，面板中心為AA區(qū)1，需要顯影的光阻面積??；AA區(qū)外大部分為空白區(qū)2，需要顯影的光阻面積大。從圖I中選取AA區(qū)I的邊緣區(qū)域A’處放大來看，內(nèi)側(cè)設計為正常像素區(qū)3，具有整齊的ITO (銦錫氧化物)電極陣列，外側(cè)設計為空白區(qū)(無ITO電極陣列)4。然而由于Loading Effect的影響，實際光阻顯影制程不能實現(xiàn)上述理想設計，實際結(jié)果如圖2所示。同樣，從圖2中選取AA區(qū)I的邊緣區(qū)域A’處放大來看，靠近空白區(qū)4的邊緣區(qū)5將會由于光阻顯影不充分而出現(xiàn)圖案異常，但越靠內(nèi)側(cè)的像素異常程度將越輕，足夠靠內(nèi)的正常像素區(qū)3就能實現(xiàn)理想設計。LoadingEffect影響光阻顯影的具體過程為在顯影制程開始時刻，AA區(qū)I緩慢消耗了少量的顯影齊U，而空白區(qū)2迅速消耗了大量的顯影劑，濃度差導致AA區(qū)I的顯影劑整體向空白區(qū)2擴散。從AA區(qū)I的邊緣區(qū)域A’處看，邊緣區(qū)5的顯影液濃度呈明顯的梯度衰減，越靠近空白區(qū)4的顯影液濃度越低；在顯影制程的后續(xù)時間里，邊緣區(qū)5的顯影能力呈梯度降低，越靠近空白區(qū)4的像素的光阻顯影程度越弱。Loading Effect使邊緣區(qū)5的光阻顯影程度減弱，必然導致其蝕刻制程后圖案異常(主要表現(xiàn)為不能蝕刻出圖案或者圖案粗大)。邊緣區(qū)5由于出現(xiàn)圖案異常，會造成圖像顯示缺陷，不僅其亮度、視角、響應時間等重要指標均有別于正常像素區(qū)3，而且還會影響正常像素區(qū)3的充放電特性，因此必須設法消除。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種顯示區(qū)域所顯示圖案保持正常、均一的一種顯示面板及其制造方法、平板顯示裝置。
為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種顯示面板，包括圖像顯示區(qū)和圍繞在所述圖像顯示區(qū)域外圍的空白區(qū)，在所述圖像顯示區(qū)和空白區(qū)之間，沿所述圖像顯示區(qū)的外圍邊緣設有無顯示功能的啞圖案區(qū)。進一步地，在所述顯示面板的濕制程中，所述啞圖案區(qū)與所述圖像顯示區(qū)相接處的溶液濃度和所述圖像顯示區(qū)的溶液濃度大致相同，所述啞圖案區(qū)的溶液濃度自所述相接處向所述空白區(qū)遞減。進一步地，所述圖像顯示區(qū)域的溶液濃度維持不變。進一步地，所述圖像顯示區(qū)、空白區(qū)和啞圖案區(qū)設于所述顯示面板中使用濕制程進行顯影或蝕刻的圖層，所述圖層包括像素電極層、第一金屬層或第二金屬層。進一步地，所述圖像顯示區(qū)、空白區(qū)和啞圖案區(qū)設于所述像素電極層，所述啞圖案區(qū)包括若干啞像素。
本發(fā)明實施例還提供一種顯示面板的制造方法，包括步驟
設置圖像顯示區(qū)和圍繞在所述圖像顯示區(qū)域外圍的空白區(qū)；
在所述圖像顯示區(qū)和空白區(qū)之間，沿所述圖像顯示區(qū)的外圍邊緣設置無顯示功能的啞圖案區(qū)。進一步地，設直所述啞圖案區(qū)滿足以下條件
在所述顯示面板的濕制程中，所述啞圖案區(qū)與所述圖像顯示區(qū)相接處的溶液濃度和所述圖像顯示區(qū)的溶液濃度大致相同，而所述啞圖案區(qū)上的溶液濃度自所述相接處向所述空白區(qū)遞減。進一步地，所述圖像顯示區(qū)、空白區(qū)和啞圖案區(qū)設于所述顯示面板中使用濕制程進行顯影或蝕刻的圖層，所述圖層包括像素電極層、第一金屬層或第二金屬層。進一步地，所述圖像顯示區(qū)、空白區(qū)和啞圖案區(qū)設于所述像素電極層，所述啞圖案區(qū)包括若干啞像素。本發(fā)明實施例還提供一種平板顯示裝置，包括所述的顯示面板。本發(fā)明所提供的顯示面板及其制造方法、平板顯示裝置，由于在圖像顯示區(qū)的外圍邊緣增設了啞圖案區(qū)，由啞圖案區(qū)來承受Loading Effect的影響,保證圖像顯示區(qū)免受Loading Effect的影響,所顯示的圖案均正常、均一。


為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖I是現(xiàn)有顯示面板設計示意圖。圖2是現(xiàn)有顯示面板設計實際效果示意圖。圖3是本發(fā)明實施例的顯示面板設計示意圖。圖4是本發(fā)明實施例的顯示面板設計實際效果示意圖。
具體實施方式
下面參考附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施例進行描述。本發(fā)明實施例提供一種顯示面板，包括圖像顯示區(qū)和圍繞在所述圖像顯示區(qū)域外圍的空白區(qū)，在所述圖像顯示區(qū)和空白區(qū)之間，沿所述圖像顯示區(qū)的外圍邊緣設有無顯示功能的啞圖案區(qū)(Dummy Pattern)。本發(fā)明適用于像素電極層、第一金屬層或第二金屬層等使用“濕制程”進行顯影或蝕刻的圖層。為表述方便，以下以像素電極層為例對本發(fā)明的主要思想進行說明。具體參照圖3-4所示，其中圖3為本發(fā)明實施例一的顯示面板的像素電極層設計示意圖，圖4為本發(fā)明實施例一的顯示面板的像素電極層設計效果示意圖。如圖3所示，本發(fā)明實施例一的顯示面板包括圖像顯示區(qū)域I (AA區(qū))、圍繞在顯示區(qū)域I外圍的空白區(qū)域2，以及在圖像顯示區(qū)域I和空白區(qū)域2之間、沿圖像顯示區(qū)域I的外圍邊緣設置的無顯示功能的啞圖案區(qū)域6。從圖3中選取AA區(qū)I的邊緣區(qū)域A處放大 來看，啞圖案區(qū)6包括若干啞像素7，啞像素7的圖案設計可以和正常像素區(qū)3的像素完全相同，也可以根據(jù)情況調(diào)整。啞像素7沒有電學、光學功用，不接入驅(qū)動信號，因此不會影響正常像素區(qū)3的充放電，也不會增加驅(qū)動電路的負荷。下面以顯影制程為例說明本發(fā)明實施例一的顯示面板是如何實現(xiàn)顯示區(qū)域正常顯示圖案，不受Loading Effect影響的。在顯影制程開始時，AA區(qū)I緩慢消耗了少量的顯影劑，而空白區(qū)2迅速消耗了大量的顯影劑，濃度差導致AA區(qū)I的顯影劑整體向空白區(qū)2擴散。與圖I所示現(xiàn)有設計不同，由于本發(fā)明實施例一的顯示面板在AA區(qū)I的邊緣增設了啞圖案區(qū)6,受Loading Effect影響，啞圖案區(qū)6的顯影液濃度自內(nèi)向外(自正常像素區(qū)3向空白區(qū)4呈明顯的梯度衰減，越靠近空白區(qū)4的顯影液濃度越低；也就是說，啞圖案區(qū)6與AA區(qū)I相接處的顯影液濃度大致與AA區(qū)I上的顯影液濃度相同，而啞圖案區(qū)域6的顯影液濃度自該相接處向空白區(qū)域2遞減。在顯影制程的后續(xù)時間里，啞圖案區(qū)6的顯影能力呈梯度降低，越靠近空白區(qū)4的像素的光阻顯影程度越弱。實際制備出來的面板將如圖4所示。從圖4中選取AA區(qū)I的邊緣區(qū)域A處放大來看，經(jīng)歷顯影制程后的靠近空白區(qū)4的啞像素8的圖案受LoadingEffect影響出現(xiàn)異常，而遠離空白區(qū)4的整個正常像素區(qū)3所顯示的圖案保持正常、均一，不再像圖2所示那樣包含一個顯示異常的邊緣區(qū)5。本實施例達到上述區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的效果，是基于現(xiàn)有技術(shù)中圖像顯示區(qū)域的所有像素均用來顯示圖像，因此在濕制程中最外圍像素容易受Loading Effect影響，而本發(fā)明實施例一在圖像顯示區(qū)I的外圍邊緣增設了啞圖案區(qū)6，由啞圖案區(qū)6取代邊緣區(qū)5來承受Loading Effect的影響，一方面由于有啞圖案區(qū)6來緩沖，正常像素區(qū)3遠離空白區(qū)4，不會受到Loading Effect的影響，整個正常像素區(qū)3所顯示的圖案均正常、均一，進而保證AA區(qū)I的各層圖案與設計值完全一致；另一方面，由于啞圖案區(qū)6沒有顯示功能，僅用于緩沖濕制程的Loading Effect效應，即使其受到Loading Effect的影響，也不會對顯示面板的圖像顯示產(chǎn)生不利之處。至于啞圖案區(qū)6的大小，以及所需啞像素的個數(shù)和圖案，可根據(jù)工程實驗來實際確定，只需要滿足在濕制程中，啞圖案區(qū)6與圖像顯示區(qū)I相接處的溶液濃度和圖像顯示區(qū)I的溶液濃度大致相同，而啞圖案區(qū)6上的溶液濃度自該相接處向空白區(qū)2遞減。
相應地，本發(fā)明實施例二還提供一種顯示面板的制造方法，包括步驟
設置圖像顯示區(qū)和圍繞在所述圖像顯示區(qū)域外圍的空白區(qū)；
在所述圖像顯示區(qū)和空白區(qū)之間，沿所述圖像顯示區(qū)的外圍邊緣設置無顯示功能的啞圖案區(qū)。其中，設置啞圖案區(qū)需滿足以下條件
在顯示面板的濕制程中，啞圖案區(qū)與圖像顯示區(qū)相接處的溶液濃度和圖像顯示區(qū)的溶液濃度大致相同，而啞圖案區(qū)上的溶液濃度自該相接處向空白區(qū)遞減。圖像顯示區(qū)、空白區(qū)和啞圖案區(qū)可設在顯示面板中使用濕制程進行顯影或蝕刻的圖層，這些圖層包括像素電極層、第一金屬層或第二金屬層。作為一個例子，圖像顯示區(qū)、空白區(qū)和啞圖案區(qū)設于像素電極層，啞圖案區(qū)包括若 干啞像素。本實施例在現(xiàn)有顯示面板制造方法的設置圖像顯示區(qū)和空白區(qū)之后，增加步驟一在圖像顯示區(qū)和空白區(qū)之間，沿圖像顯示區(qū)的外圍邊緣設置無顯示功能的啞圖案區(qū)，由該啞圖案區(qū)來承受Loading Effect的影響,保證圖像顯示區(qū)免受Loading Effect的影響，其所顯示的圖案均正常、均一；而啞圖案區(qū)由于沒有顯示功能，僅用于緩沖濕制程的Loading Effect效應，即使其受到Loading Effect的影響，也不會對顯示面板的圖像顯示產(chǎn)生不利之處。本發(fā)明實施例一的顯示面板可以應用在液晶顯示器(IXD)、等離子顯示器(PDP)、有機發(fā)光二極管顯示器(OLED )等平板顯示裝置上。由此，本發(fā)明實施例三提供一種平板顯示裝置，包括本發(fā)明實施例一所公開的顯示面板。本實施例的有益效果基于本發(fā)明實施例一，此處不再贅述。以上所揭露的僅為本發(fā)明較佳實施例而已，當然不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利范圍，因此依本發(fā)明權(quán)利要求所作的等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
1.一種顯示面板，包括圖像顯示區(qū)和圍繞在所述圖像顯示區(qū)域外圍的空白區(qū)，其特征在于，在所述圖像顯示區(qū)和空白區(qū)之間，沿所述圖像顯示區(qū)的外圍邊緣設有無顯示功能的啞圖案區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的顯示面板，其特征在于，在所述顯示面板的濕制程中，所述啞圖案區(qū)與所述圖像顯示區(qū)相接處的溶液濃度和所述圖像顯示區(qū)的溶液濃度大致相同，所述啞圖案區(qū)的溶液濃度自所述相接處向所述空白區(qū)遞減。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述圖像顯示區(qū)域的溶液濃度維持不變。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述圖像顯示區(qū)、空白區(qū)和啞圖案區(qū)設于所述顯示面板中使用濕制程進行顯影或蝕刻的圖層，所述圖層包括像素電極層、第一金屬層或第二金屬層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示面板，其特征在于，所述圖像顯示區(qū)、空白區(qū)和啞圖案區(qū)設于所述像素電極層，所述啞圖案區(qū)包括若干啞像素。
6.一種顯示面板的制造方法，包括步驟 設置圖像顯示區(qū)和圍繞在所述圖像顯示區(qū)域外圍的空白區(qū)； 在所述圖像顯示區(qū)和空白區(qū)之間，沿所述圖像顯示區(qū)的外圍邊緣設置無顯示功能的啞圖案區(qū)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造方法，其特征在于，設置所述啞圖案區(qū)滿足以下條件 在所述顯示面板的濕制程中，所述啞圖案區(qū)與所述圖像顯示區(qū)相接處的溶液濃度和所述圖像顯示區(qū)的溶液濃度大致相同，而所述啞圖案區(qū)上的溶液濃度自所述相接處向所述空白區(qū)遞減。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述圖像顯示區(qū)、空白區(qū)和啞圖案區(qū)設于所述顯示面板中使用濕制程進行顯影或蝕刻的圖層，所述圖層包括像素電極層、第一金屬層或第二金屬層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述圖像顯示區(qū)、空白區(qū)和啞圖案區(qū)設于所述像素電極層，所述啞圖案區(qū)包括若干啞像素。
10.一種平板顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-5任一項所述的顯示面板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種顯示面板，包括圖像顯示區(qū)和圍繞在所述圖像顯示區(qū)域外圍的空白區(qū)，在所述圖像顯示區(qū)和空白區(qū)之間，沿所述圖像顯示區(qū)的外圍邊緣設有無顯示功能的啞圖案區(qū)。本發(fā)明還提供一種顯示面板的制造方法和平板顯示裝置。本發(fā)明由于在圖像顯示區(qū)的外圍邊緣增設了啞圖案區(qū)，由啞圖案區(qū)來承受LoadingEffect的影響，保證圖像顯示區(qū)免受LoadingEffect的影響，所顯示的圖案均正常、均一。
文檔編號G02F1/1333GK102830525SQ20121033172
公開日2012年12月19日 申請日期2012年9月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月10日
發(fā)明者鄭華, 陳世烽, 林沛, 林明文, 吳良東, 高攀, 陳上潘, 潘龍 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司