專利名稱：正型感光性組合物的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及能夠堿顯影的正型感光性樹脂組合物、及使用了該正型感光性樹脂組合物的正型永久抗蝕劑。
背景技術：
在薄膜晶體管(以下記為“TFT”)型液晶顯示元件或磁頭元件、集成電路元件、固體攝像元件等電子部件中，通常為了將以層狀配置的布線之間絕緣而設置層間絕緣膜。作為形成層間絕緣膜的材料，優(yōu)選用于得到所需的圖案形狀的工序數目少、且具有充分的平坦性的材料，所以廣泛使用感放射線性樹脂組合物(參照專利文獻I)。上述電子部件中，例如TFT型液晶顯示元件由于經由在上述的層間絕緣膜上形成透明電極膜，進一步在其上形成液晶取向膜的工序而制造，所以層間絕緣膜在透明電極膜的形成工序中暴露于高溫條件下，或暴露于在電極的圖案形成中使用的抗蝕劑的剝離液中，因而需要對它們具有充分的耐性。此外，有時通過制造工序而形成的層間絕緣膜還暴露于干式蝕刻中，因而需要對干式蝕刻具有充分的耐性(參照專利文獻2)。此外近年，在TFT型液晶顯示元件中，存在大畫面化、高亮度化、高精細化、高速響應化、薄型化等動向，其中使用的層間絕緣膜形成用組合物要求為高感度，對所形成的層間絕緣膜，在低介電常數、高透射率等方面要求比以往更高的性能，特別是在耐熱性方面，要求300 350°C左右的耐熱性。作為絕緣性、耐熱性、耐溶劑性、干式蝕刻耐性等優(yōu)異、且能夠形成微細的圖案的層間絕緣膜材料，開發(fā)了含有具有羧基的聚硅氧烷化合物和感光性重氮醌化合物的正型感光性樹脂組合物(參照專利文獻3、4)，但由于顯影工序中的顯影容限(margin)(顯影時間達到最佳的時間的幅度)小，所以若顯影時間稍微變得過量，則顯影液容易滲透至圖案與基板之間而產生剝離，因此需要嚴格控制顯影時間，在產品的成品率方面存在問題。此外，在專利文獻3、4中記載的具有羧基的聚硅氧烷化合物的制造中，由于容易引起在聚硅氧烷中導入羧基的反應的副反應，所以以羧基被保護基蓋住的化合物作為原料，因此，之后需要將保護基脫離的工序，還存在工序繁雜的問題。另一方面，還已知含有具有酸解離性溶解抑制基的聚硅氧烷化合物和光產酸劑的化學增幅型的正型感光性樹脂組合物(參照專利文獻5)，但作為TFT型液晶顯示元件的層間絕緣膜形成用組合物，耐熱性不充分?，F有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特開2001-354822號公報專利文獻2 日本特開2005-345757號公報專利文獻3 :日本特開2010-101957號公報專利文獻4 :國際公開第2010/047148號專利文獻5 :日本特開2007-182555號公報
發(fā)明內容
發(fā)明所要解決的問題因此，本發(fā)明的目的在于提供一種正型感光性樹脂組合物，其適合于形成高耐熱性、高耐溶劑性、高透射率、低介電常數的層間絕緣膜，且具有在顯影工序中即使超過最佳顯影時間也能夠形成良好的圖案形狀的大的顯影容限。用于解決問題的手段本發(fā)明通過提供一種正型感光性組合物，從而達成上述目的，其特征在于，該正型感光性組合物含有:作為(A)成分的、使下述通式(I)表示的環(huán)狀硅氧烷化合物和下述通式
(2)表示的烷氧基硅烷化合物進行水解縮合反應而得到的聚硅氧烷化合物，作為(B)成分的光產酸劑，及作為(C)成分的有機溶劑。
權利要求
1.一種正型感光性組合物，其特征在于，其含有: 作為(A)成分的、使下述通式(I)表示的環(huán)狀硅氧烷化合物和下述通式(2)表示的烷氧基硅烷化合物進行水解縮合反應而得到的聚硅氧烷化合物， 作為(B)成分的光產酸劑，及 作為(C)成分的有機溶劑，
2.根據權利要求1所述的正型感光性樹脂組合物，其進一步含有作為(D)成分的含環(huán)氧基的硅氧烷化合物。
3.一種永久抗蝕劑，其特征在于，其是由權利要求1或2所述的正型感光性組合物得到的 。
全文摘要
本發(fā)明提供一種正型感光性組合物，其適合于形成高耐熱性、高耐溶劑性、高透射率、低介電常數的層間絕緣膜，且具有在顯影工序中即使超過最佳顯影時間也能形成良好的圖案形狀的大的顯影容限，具體而言，其是含有使下述的化合物(1)與化合物(2)進行水解縮合反應而得到的聚硅氧烷化合物、光產酸劑及有機溶劑的正型感光性組合物。R1表示C1～4的烷基或C6～10的芳基，R2表示C2～10的2價烴基，R3表示C2～10的2價飽和脂肪族烴基，X1及X2表示酸解離性溶解抑制基團，X3表示式(3)或(4)所示的基團(詳細情況參照說明書)。m為0～5，n為0～5，p為1～5，且為滿足m+n+p=3～6的數。R4表示C6～10的芳基，R5及R6表示C1～4的烷基，a表示2或3的數。
文檔編號G03F7/075GK103076721SQ201210383570
公開日2013年5月1日 申請日期2012年10月11日 優(yōu)先權日2011年10月25日
發(fā)明者竹之內宏美, 尾見仁一, 齋藤誠一 申請人:株式會社艾迪科