電致變色顯示盒及電致變色顯示裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種電致變色顯示盒和包括所述電致變色顯示盒的電致變色顯示裝置。所述電致變色顯示盒包括第一透明基板和形成有第二凹槽的第二透明基板，且所述第二凹槽中形成有多個(gè)透明支柱。其中，所述第二凹槽形成在電致變色顯示區(qū)域內(nèi)；所述透明支柱通過(guò)對(duì)透明基板選擇性地減薄而形成，且在所述第二凹槽中的分布密度為每個(gè)盒內(nèi)2～50個(gè)。所述電致變色顯示盒實(shí)現(xiàn)了小的盒厚和一致的盒間隙，同時(shí)保持良好的電致變色性能。
【專(zhuān)利說(shuō)明】電致變色顯示盒及電致變色顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電致變色顯示相關(guān)技術(shù)；更具體地，涉及一種電致變色顯示盒和包括所述電致變色顯示盒的電致變色顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]電致變色是指材料在交替的高低或正負(fù)外電場(chǎng)的作用下通過(guò)注進(jìn)或抽取電荷離子或電子，從而在低透射率的致色狀態(tài)或高透射率的消色狀態(tài)之間產(chǎn)生可逆變化的一種特殊現(xiàn)象，在外觀性能上則表現(xiàn)為顏色及透明度的可逆變化。近年來(lái)，基于電致變色技術(shù)已研制開(kāi)發(fā)出了多種電致變色顯示盒，主要有信息顯示裝置、電致變色靈巧窗、無(wú)眩反光鏡、電色儲(chǔ)存裝置等。隨著電致變色顯示盒變小變薄的趨勢(shì)，電致變色顯示盒的厚度日趨變薄。
[0003]常規(guī)的電致變色顯示盒包括上下兩塊形成有透明導(dǎo)電層(例如ΙΤ0)的玻璃或透明塑料基板，以及位于兩塊透明基板之間的電致變色材料。在電致變色顯示盒的制作過(guò)程中，在上下基板之間使電致變色顯示盒保持所需的一致的盒間隙是個(gè)難題。常規(guī)方式是在其中噴灑球形隔墊物(ball spacer) 0然而，隔墊物的材料通常為玻璃或聚合物，因而其絕緣性能會(huì)影響電致變色材料的電導(dǎo)率，甚至?xí)c電致變色材料發(fā)生反應(yīng)，從而影響電致變色顯示盒的變色性能。另一種常規(guī)方式是在透明基板的四周的封框膠里摻入大尺寸的硅球或玻璃纖維，這對(duì)于維持3微米以上的盒間隙比較困難。
[0004]因此，需要開(kāi)發(fā)一種既不影響電致變色顯示盒性能，又能簡(jiǎn)便實(shí)施的方式，來(lái)實(shí)現(xiàn)較大的盒間隙，例如10至70微米的盒間隙。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]因此，針對(duì)上述問(wèn)題提出了本發(fā)明，本發(fā)明的目的是提供一種電致變色顯示盒，可以實(shí)現(xiàn)10至70微米的盒間隙，例如50微米左右的盒間隙，同時(shí)可以保證電致變色顯示盒的電致變色性能不受外來(lái)物質(zhì)的影響。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，本發(fā)明提供了一種電致變色顯示盒，包括第一透明基板和形成有第二凹槽的第二透明基板，所述第二凹槽形成于所述第二透明基板的面向所述第一透明基板的表面中，且所述第二凹槽中形成有多個(gè)透明支柱。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，所述第二凹槽的深度為10微米至70微米。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的又一個(gè)方面，所述第二凹槽形成在電致變色顯示區(qū)域內(nèi)。
[0009]優(yōu)選地，所述透明支柱的高度與所述第二凹槽的深度相等。
[0010]本發(fā)明的另一個(gè)方面，所述透明支柱的橫截面形狀為圓形、橢圓形、方形和菱形中的一種或多種。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的又一個(gè)方面，所述透明支柱通過(guò)對(duì)所述第二透明基板選擇性地減薄而形成，且其分布密度為每個(gè)盒內(nèi)2至50個(gè)。
[0012]其中，所述第一透明基板沒(méi)有凹槽，或在所述第一透明基板的面向所述第二透明基板的表面中與所述第二凹槽對(duì)應(yīng)的位置處具有第一凹槽，且所述第一凹槽具有與所述第二凹槽相同的深度。
[0013]根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方法，可在所述第一凹槽中形成多個(gè)透明支柱，所述第一凹槽中的多個(gè)透明支柱與所述第二凹槽中的多個(gè)透明支柱形成在分別對(duì)應(yīng)的位置處，并分別具有相同的橫截面形狀和尺寸。
[0014]本發(fā)明還提供了 一種包括上述電致變色顯示盒的電致變色顯示裝置。
[0015]通過(guò)在透明基板內(nèi)形成凹槽，并在凹槽中形成多個(gè)透明支柱，未引入另外的材料，并且不增加顯示盒的厚度，由此根據(jù)本發(fā)明的電致變色顯示盒實(shí)現(xiàn)了 10至70微米的盒間隙，同時(shí)保持良好的電致變色性能。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0016]圖1為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的電致變色顯示盒的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖2為圖1所示電致變色顯示盒中帶凹槽的透明基板的俯視圖。
[0018]圖3為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的電致變色顯示盒的凹槽部分的局部示意圖。
[0019]圖4至圖5為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的采用機(jī)械減薄法形成凹槽的示意圖。
[0020]圖6至圖9為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的采用化學(xué)減薄法形成凹槽的示意圖。
[0021]附圖標(biāo)記說(shuō)明:
[0022]1、第二透明基板；2、第二凹槽；3、第一透明基板；4、透明支柱；5、封框膠；6、研磨墊；7、研磨墊基底；8、載臺(tái)；9、嵌縫；10、光刻膠；11、需要減薄的部分。
【具體實(shí)施方式】
[0023]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式提供了 一種電致變色顯示盒，包括第一透明基板和形成有第二凹槽的第二透明基板，且上述第二凹槽形成于第二透明基板的面向第一透明基板的表面中，其中形成有多個(gè)透明支柱。
[0024]本發(fā)明中所用的透明基板可為本領(lǐng)域常用的任何透明的耐久的基板，例如可為玻
璃基板。
[0025]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，第一透明基板表面可以沒(méi)有凹槽，或者可以在第一透明基板的面向第二透明基板的表面中與第二凹槽對(duì)應(yīng)的位置處具有第一凹槽，且第一凹槽具有與第二凹槽相同的深度。
[0026]可選地，在第一凹槽中也可形成多個(gè)透明支柱，且第一凹槽中的多個(gè)透明支柱與第二凹槽中的多個(gè)透明支柱形成在分別對(duì)應(yīng)的位置處，并分別具有相同的橫截面形狀和尺寸。S卩，在將第一透明基板和第二透明基板對(duì)盒時(shí)，第一凹槽中的多個(gè)透明支柱與第二凹槽中的多個(gè)透明支柱能分別對(duì)接，從而起到支撐的作用。
[0027]上述透明支柱通過(guò)對(duì)各透明基板進(jìn)行選擇性減薄而形成，從而具有與透明基板相同的材質(zhì)。
[0028]以上第一凹槽和/或第二凹槽形成在電致變色顯示區(qū)域內(nèi)，且均具有10微米至70微米的厚度。
[0029]以下將參加各個(gè)附圖對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行更詳細(xì)的說(shuō)明。
[0030]參見(jiàn)圖1，根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施方式的電致變色顯示盒包括沒(méi)有凹槽的第一透明基板3和形成有第二凹槽2的第二透明基板1，在第二凹槽2底部形成有多個(gè)透明支柱4。該電致變色顯示盒進(jìn)一步包括分別沉積在第一透明基板表面和第二透明基板的凹槽表面的ITO層(未示出)，以及涂布在第二凹槽中的液態(tài)電致變色漿料(未示出)。該電致變色漿料為氧化還原型有機(jī)小分電致變色材料及溶劑。
[0031]電致變色材料為氧化還原型有機(jī)小分電致變色材料及溶劑，其中電致變色材料包括紫精類(lèi)及紫精衍生物，例如甲基紫精，乙基紫精等。
[0032]可采用常規(guī)的涂布方式將電致變色漿料涂布在第二透明基板的第二凹槽表面，例如刮涂法、棒涂法等。
[0033]對(duì)上述透明支柱的橫截面形狀沒(méi)有特別限制，例如可為圓形、橢圓形、方形、菱形，或它們的組合。
[0034]上述透明支柱優(yōu)選具有6至19微米的直徑(或者長(zhǎng)徑或?qū)蔷€)，并具有與盒間隙(即凹槽深度)一致的高度，例如10至70微米，且優(yōu)選50微米。
[0035]透明支柱的分布密度可為每個(gè)盒內(nèi)2至50個(gè)，優(yōu)選10至35個(gè)。
[0036]具體地，如圖2和圖3所示，在對(duì)應(yīng)于第二透明基板I的電致變色區(qū)域內(nèi)分別形成多個(gè)第二凹槽2，并在第二凹槽2的內(nèi)部形成多個(gè)支柱4。在每個(gè)第二凹槽2的四周涂布封框膠5，用于使電致變色顯示盒的兩塊透明基板對(duì)盒封裝。
[0037]上述凹槽的形成可采用選擇性減薄透明基板的方法，使得透明基板的顯示區(qū)域減薄10至70微米。該選擇性減薄方法可以是機(jī)械減薄法或化學(xué)減薄法。
[0038]圖4和圖5示意性示出了采用機(jī)械減薄法在透明基板中形成凹槽的工藝過(guò)程。將待減薄的透明基板I置于載臺(tái)8上，采用從研磨墊基底7突出的研磨墊6，并在研磨墊6上進(jìn)行加壓，利用研磨墊6選擇性地打磨需要減薄的透明基板I，使得在透明基板I上形成10至70微米深的凹槽，同時(shí)在凹槽中保留未被打磨的透明基板，由此形成透明支柱。
[0039]圖6至圖9示例性示出了采用化學(xué)減薄法在透明基板上形成凹槽的工藝過(guò)程。采用化學(xué)減薄試劑，例如氫氟酸(HF)來(lái)選擇性蝕刻透明基板。即，如圖6和圖7所示，在不需要減薄的部位進(jìn)行嵌縫9，例如采用嵌縫搶嵌縫，并將需要保留下來(lái)作為透明支柱部分的表面和縫隙用光刻膠10密封，以免受到化學(xué)減薄試劑的腐蝕，即僅腐蝕需要減薄的部分11。圖8和圖9分別示出了需要減薄的部分11經(jīng)腐蝕后留下的具有光刻膠的凹槽和透明支柱，以及剝離光刻膠后的凹槽和透明支柱形狀。
[0040]通過(guò)以上方法在透明基板中形成凹槽，同時(shí)在凹槽中形成透明支柱，然后通過(guò)常規(guī)的封裝方法將透明基板對(duì)盒封裝，由此制得的電致變色顯示盒同時(shí)保持了顯示效果的一致性和盒間隙的均一性。
[0041]由此，包括以上電致變色顯示盒的電致變色顯示裝置也具有良好的電致變色顯示特性。
【權(quán)利要求】
1.一種電致變色盒，其特征在于，所述電致變色盒包括第一透明基板和形成有第二凹槽的第二透明基板，所述第二凹槽形成于所述第二透明基板的面向所述第一透明基板的表面中，且所述第二凹槽中形成有多個(gè)透明支柱。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電致變色盒，其特征在于，所述第二凹槽的深度為10微米至70微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電致變色盒，其特征在于，所述第二凹槽形成在電致變色顯示區(qū)域內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電致變色盒，其特征在于，所述透明支柱的橫截面形狀為圓形、橢圓形、方形和菱形中的一種或多種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電致變色盒，其特征在于，所述透明支柱的分布密度為每個(gè)盒內(nèi)2至50個(gè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電致變色盒，其特征在于，所述第二凹槽中的所述透明支柱通過(guò)對(duì)所述第二透明基板選擇性地減薄而形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電致變色盒，其特征在于，所述透明支柱的高度與所述第二凹槽的深度相等。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電致變色盒，其特征在于，所述第一透明基板表面沒(méi)有凹槽。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電致變色盒，其特征在于，所述第一透明基板的面向所述第二透明基板的表面中與所述第二凹槽對(duì)應(yīng)的位置處形成有第一凹槽，且在所述第一凹槽中形成有多個(gè)透明支柱。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電致變色盒，其特征在于，所述第一凹槽具有與所述第二凹槽相同的深度，所述第一凹槽中的多個(gè)透明支柱與所述第二凹槽中的多個(gè)透明支柱形成在分別對(duì)應(yīng)的位置處，并分別具有相同的橫截面形狀和尺寸。
11.一種電致變色顯示裝置，包括如權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的電致變色盒。
【文檔編號(hào)】G02F1/161GK103838051SQ201210490887
【公開(kāi)日】2014年6月4日 申請(qǐng)日期:2012年11月27日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月27日
【發(fā)明者】陳娟 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司