專利名稱：鎳合金導光板模仁的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及顯示器背光模組的導光板領域，尤其涉及ー種用LIGA技術制造的鎳合金導光板模仁。
背景技術：
顯示器的均勻度與輝度為評估顯示器的重大指標，此特性由背光模塊所決定，其中導光板是背光模塊中光源傳播的媒介，導光板的形狀及材料為光源輝度及均勻度的關鍵因素。隨著顯示質量要求日益提升，導光板光學微特征的尺度要求越來越精細。目前大尺寸LCD背光模塊中的導光板，其模具制作部分使用網(wǎng)點印刷方式、精密機械加工與電射加エ，其中網(wǎng)點印刷方式所得的導光板圖樣線寬較大，在輝度與分辨率表現(xiàn)方面較不理想；而利用精密機械加工以鉆石刀具在模具鋼上刻畫出V型溝槽的圖樣制成導光板，可以得到圖 樣精密的模具，然而在模具制作時鉆石刀具容易在過程中斷裂，因此費用昂貴且費時。因此有必要提供一種高輝度及高均勻度、表面粗糙度佳、可制作精微結構、模仁質量穩(wěn)定、生產(chǎn)周期快速的鎳合金導光板模仁。

實用新型內容本實用新型的目的在于克服上述問題，提供高輝度及高均勻度、表面粗糙度佳、可制作精微三維結構、模仁質量穩(wěn)定、生產(chǎn)周期快速的鎳合金導光板模仁。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型所采用的技術方案為鎳合金導光板模仁，其特征在于包括基板、涂布于基板的光阻膜和電鑄沉積于光阻膜表面及四周的電鑄鎳層，光阻膜設有光阻膜圖案，電鑄鎳層上設有多個均勻微孔；光阻膜圖案與微孔的形狀一致。前述的鎳合金導光板模仁，光阻膜圖案與掩膜板的圖形一致。前述的鎳合金導光板模仁，所述的微孔為圓形或橢圓形或扇形或方形，微孔的孔壁粗糙度〈O. 0003mm。前述的鎳合金導光板模仁，電鑄鎳層的材料為鎳合金，鎳合金硬度為450-550HV。前述的鎳合金導光板模仁，微孔的開孔尺寸精度為±0. 005mm。本實用新型的有益效果使用LIGA技術制造的鎳合金導光板模仁，制造出的導光板具高輝度及高均勻度、表面粗糙度佳、可制作精微三維結構、生產(chǎn)周期快速；利用光罩設計，可以設計不同圖樣，制作出不同微結構的微凹鏡(如橢圓、長扇形等任意形狀)，進而得到不同的導光效果。

圖I為本實用新型的鎳合金導光板模仁的結構示意圖；圖2為本實用新型的電鑄鎳層的微孔結構示意圖；其中，I電鑄鎳層，2光刻膠圖案，3基板，4微孔。
具體實施方式
圖為本實用新型的優(yōu)選實施例，
以下結合附圖對本實用新型作進一步描述其中，I電鑄鎳層，2光刻膠圖案，3基板，4微孔。圖I為本實用新型的鎳合金導光板模仁的結構示意圖；鎳合金導光板模仁，包括基板3、涂布于基板3的光阻膜(未圖示完全)和電鑄沉積于光阻膜表面及四周的電鑄鎳層1，光阻膜設有光阻膜圖案(即光刻膠圖案2)，電鑄鎳 層I上設有多個均勻微孔4?；?作為基底，材料為矽晶片；根據(jù)工程文件和導光板的設計制作具有一定三維圖案的掩膜板(即光罩)，掩膜板(未圖示)也是模仁的一部分。矽晶片一般要先進行處理，需要經(jīng)過脫水烘培蒸發(fā)掉矽晶片表面的水分，并涂上用來增加光阻膜(主要是光刻膠)與矽晶片表面附著能力的化合物。涂布光阻材料于基板3上,在基板3表面形成光阻膜,如將光刻膠溶液噴灑于石夕晶片表面，通過甩膠形成光刻膠。之后進行軟烘干操作，去除光阻膜內剩余溶劑，降低灰塵的玷污，提高光阻膜的附著性。之后進行曝光，掩膜板上的圖形轉移到光阻膜上形成光阻膜圖案。再經(jīng)過顯影，在光阻膜(主要是光刻膠)上形成三維圖形，之后經(jīng)由熱回流制程使光阻膜表面形成圓滑的半球形結構，此即為電鑄所需母模，由于不導電，需在此基礎上濺鍍上一層金屬膜使其導電。最后在電鑄槽中電鑄一層鎳合金層以制得鎳合金導光板模仁。根據(jù)圖I和圖2，光阻膜圖案與微孔4的形狀一致，光阻膜與電鑄鎳層I可分離；根據(jù)工程文件和導光板的設計制作具有一定三維圖案的掩膜板(即光罩)，因此經(jīng)過曝光顯影后所得的光阻膜圖案與掩膜板(即光罩)的圖形一致，即掩膜板上的圖形轉移到光阻膜上。利用光罩設計，可以輕易地重新設計不同圖樣(pattern)，制作出不同微結構的微凹鏡(Micro Lens)，如橢圓、長扇形等任意形狀，進而得到不同的導光效果，體現(xiàn)為微孔4為圓形或橢圓形或長扇形或方形，微孔4的孔壁粗糙度〈O. 0003mm，微孔4的開孔尺寸精度為±0. 005mm。電鑄鎳層I的材料為鎳合金，鎳合金硬度為450_550Hv。上述實施例不以任何形式限制本實用新型，凡采用等同替換或等效變換的方式所獲得的技術方案，均落在本實用新型的保護范圍。
權利要求1.鎳合金導光板模仁，其特征在于包括基板、涂布于基板的光阻膜和電鑄沉積于光阻膜表面及四周的電鑄鎳層，光阻膜設有光阻膜圖案，電鑄鎳層上設有多個均勻微孔；光阻膜圖案與微孔的形狀一致。
2.根據(jù)權利要求I所述的鎳合金導光板模仁，其特征在于所述的光阻膜圖案與掩膜板的圖形一致。
3.根據(jù)權利要求I所述的鎳合金導光板模仁，其特征在于所述的微孔為圓形或橢圓形或扇形或方形，微孔的孔壁粗糙度〈O. 0003mm。
4.根據(jù)權利要求I所述的鎳合金導光板模仁，其特征在于所述的電鑄鎳層的材料為鎳合金，鎳合金硬度為450-550HV。
5.根據(jù)權利要求I所述的鎳合金導光板模仁，其特征在于所述的微孔的開孔尺寸精度為 ±0. 005mm。
專利摘要本實用新型涉及顯示器背光模組的導光板領域，尤其涉及一種用LIGA技術制造的鎳合金導光板模仁，包括基板、涂布于基板的光阻膜和電鑄沉積于光阻膜表面及四周的電鑄鎳層，光阻膜設有光阻膜圖案，電鑄鎳層上設有多個均勻微孔；光阻膜圖案與微孔的形狀一致。本實用新型的有益效果使用LIGA技術制造的鎳合金導光板模仁，制造出的導光板具高輝度及高均勻度、表面粗糙度佳、可制作精微三維結構、生產(chǎn)周期快速；利用光罩設計，可以設計不同圖樣，制作出不同微結構的微凹鏡(如橢圓、長扇形等任意形狀)，進而得到不同的導光效果。
文檔編號G02B6/00GK202583691SQ20122003417
公開日2012年12月5日 申請日期2012年2月3日 優(yōu)先權日2012年2月3日
發(fā)明者黎杰, 周濤, 李真明, 黎盼, 余文龍 申請人:昆山美微電子科技有限公司