專利名稱：曝光對(duì)位系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及機(jī)械領(lǐng)域，具體涉及一種曝光對(duì)位系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
印制電路板(PCB板)制造工藝中，最關(guān)鍵的工序之一就是將底片圖像轉(zhuǎn)移到覆銅箔基材上，這個(gè)過程稱為PCB曝光。為了導(dǎo)線的連通，PCB板的上下圖形必須有準(zhǔn)確的位置關(guān)系，要求上下底片和PCB板三者間互相對(duì)位，即曝光對(duì)位。曝光對(duì)位的精度、速度決定了PCB板的生產(chǎn)精度和效率。現(xiàn)有技術(shù)中，主要通過曬架進(jìn)行PCB的曝光對(duì)位?，F(xiàn)有曬架主要由上、下框組成，上下玻璃分別安裝于上下框上，上下玻璃沒有移動(dòng)對(duì)位的功能。下框上安裝有可移動(dòng)的膨脹釘，能夠夾持PCB板移動(dòng)對(duì)位。在曝光作業(yè)時(shí)，操作者在電荷耦合元件(CCD)鏡頭顯示下，將上底片、覆銅箔板與下底片的靶標(biāo)圈、孔、點(diǎn)同心對(duì)位后插入下玻璃的膨脹釘上，上框和下框閉合，開啟上底片真空，將上底片吸附于上玻璃；打開上框，取出覆銅箔板，再將底片托板放置在下底片上，并用透明膠帶將底片托板和下底片連接；點(diǎn)擊底片對(duì)位，下框上設(shè)置的可移動(dòng)的膨脹定位釘夾持底片托板帶動(dòng)下底片與上底片對(duì)位，當(dāng)上下底片的靶點(diǎn)偏差在要求偏差范圍之內(nèi)時(shí)，下玻璃開啟真空吸附下底片，完成上底片與下底片的對(duì)位。由于上下玻璃無法移動(dòng)，在設(shè)備工作中，必須靠上下玻璃的定位銷來保證上下底片的對(duì)位精度。如果對(duì)位精度超差，無法自動(dòng)修復(fù)，必須重新裝載底片和對(duì)位，對(duì)位操作復(fù)雜。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種曝光對(duì)位系統(tǒng)，能夠簡(jiǎn)化對(duì)位操作。本實(shí)用新型的技術(shù)方案具體是這樣實(shí)現(xiàn)的—種曝光對(duì)位系統(tǒng),用于印制電路板曬架,該系統(tǒng)包括底片偏差感應(yīng)模塊，用于感應(yīng)放入所述曬架中的上底片和下底片的對(duì)位靶點(diǎn)位置，確定所述上底片、下底片之間的第一位置偏差；底片對(duì)位模塊，用于根據(jù)所述第一位置偏差確定底片移動(dòng)值，根據(jù)所述底片移動(dòng)值，以所述上底片和所述下底片其中之一為基準(zhǔn)驅(qū)動(dòng)另一個(gè)進(jìn)行所述上底片、所述下底片的對(duì)位；鎖定模塊，用于將對(duì)位完成的所述上底片、所述下底片進(jìn)行位置鎖定；覆銅箔板偏差感應(yīng)模塊，用于感應(yīng)放入被位置鎖定的所述上底片和所述下底片之間的覆銅箔板的對(duì)位靶點(diǎn)位置，確定所述覆銅箔板與所述上底片或所述下底片之間的第二
位置偏差；覆銅箔板對(duì)位模塊，用于根據(jù)所述第二位置偏差確定覆銅箔板移動(dòng)值，根據(jù)所述覆銅箔板移動(dòng)值，以所述上底片或所述下底片為基準(zhǔn)，驅(qū)動(dòng)所述覆銅箔板進(jìn)行所述覆銅箔板與所述上底片、所述下底片的對(duì)位。優(yōu)選地，所述底片偏差感應(yīng)模塊，包括底片位置感應(yīng)器，用于感應(yīng)放入曬架中的上底片和下底片的對(duì)位靶點(diǎn)位置；底片偏差獲取器，用于根據(jù)所述上底片和下底片的對(duì)位靶點(diǎn)位置，確定所述上底片、下底片之間的第一位置偏差。優(yōu)選地，所述底片對(duì)位模塊包括底片移動(dòng)控制器，用于根據(jù)所述第一位置偏差確定底片移動(dòng)值；底片驅(qū)動(dòng)器，用于根據(jù)所述底片移動(dòng)值，以所述上底片和所述下底片其中之一為基準(zhǔn)驅(qū)動(dòng)另一個(gè)進(jìn)行所述上底片、所述下底片的對(duì)位。優(yōu)選地，所述底片移動(dòng)控制器包括移動(dòng)值確定單元，用于確定底片在水平X、Y方向上的移動(dòng)值和轉(zhuǎn)動(dòng)值；優(yōu)選地，所述底片驅(qū)動(dòng)器包括一個(gè)X驅(qū)動(dòng)單元，用于根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元確定的，底片在水平X方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)底片在水平X方向上移動(dòng)；兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元，用于根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元確定的，底片在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)底片在水平Y(jié)方向上移動(dòng)；根據(jù)轉(zhuǎn)動(dòng)值，即兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值之差，驅(qū)動(dòng)底片在水平方向上轉(zhuǎn)動(dòng)。優(yōu)選地，所述覆銅箔板偏差感應(yīng)模塊，包括覆銅箔板位置感應(yīng)器，用于感應(yīng)放入被位置鎖定的所述上底片和所述下底片之間的所述覆銅箔板的對(duì)位靶點(diǎn)位置；覆銅箔板偏差獲取器，用于根據(jù)所述覆銅箔板的對(duì)位靶點(diǎn)位置，確定所述覆銅箔板與所述上底片或所述下底片之間的第二位置偏差。優(yōu)選地，所述覆銅箔板對(duì)位模塊包括覆銅箔板移動(dòng)控制器，用于根據(jù)所述第二位置偏差確定覆銅箔板移動(dòng)值；覆銅箔板驅(qū)動(dòng)器，用于根據(jù)所述覆銅箔板移動(dòng)值，以所述上底片或所述下底片為基準(zhǔn)，驅(qū)動(dòng)所述覆銅箔板進(jìn)行所述覆銅箔板與所述上底片、所述下底片的對(duì)位。優(yōu)選地，所述覆銅箔板移動(dòng)控制器包括移動(dòng)值確定單元，用于確定覆銅箔板在水平X、Y方向上的移動(dòng)值和轉(zhuǎn)動(dòng)值。優(yōu)選地，所述覆銅箔板驅(qū)動(dòng)器包括一個(gè)X驅(qū)動(dòng)單元，用于根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元確定的，覆銅箔板在水平X方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)覆銅箔板在水平X方向上移動(dòng)。兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元，用于根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元確定的，覆銅箔板在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)覆銅箔板在水平Y(jié)方向上移動(dòng)；根據(jù)所述轉(zhuǎn)動(dòng)值，即兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值之差，驅(qū)動(dòng)覆銅箔板在水平方向上轉(zhuǎn)動(dòng)。優(yōu)選地，該系統(tǒng)進(jìn)一步包括限位模塊，用于限制所述曬架的上框，在上框運(yùn)動(dòng)過程中，與下框之間在水平方向上的相對(duì)移動(dòng)。通過本實(shí)用新型提供的曝光對(duì)位系統(tǒng)，能夠達(dá)到如下的有益效果1.通過底片偏差感應(yīng)模塊確定上底片、下底片二者之間的位置偏差，然后通過底片對(duì)位模塊針對(duì)該位置偏差進(jìn)行以兩個(gè)底片之一為基準(zhǔn)調(diào)節(jié)另一個(gè)底片；然后通過鎖定模塊將對(duì)位完畢的上底片、下底片鎖定后，將覆銅箔板放入上底片、下底片之間，通過覆銅箔板偏差感應(yīng)模塊確定覆銅箔板與上底片或下底片的位置偏差，最后通過覆銅箔板對(duì)位模塊針對(duì)該位置偏差以上底片或下底片為基準(zhǔn)調(diào)節(jié)覆銅箔板，完成曝光對(duì)位。在該系統(tǒng)中底片和覆銅箔板可以分別自動(dòng)對(duì)位，獨(dú)立調(diào)節(jié)，因此簡(jiǎn)化了對(duì)位操作。2.底片偏差感應(yīng)模塊和覆銅箔板偏差感應(yīng)模塊能夠?qū)崿F(xiàn)偏差的自動(dòng)獲取，從而提高了對(duì)位的效率和準(zhǔn)確性。3.通過限位模塊，限制了曬架的上框，在上框運(yùn)動(dòng)過程中，與下框之間的相對(duì)移動(dòng)，從而進(jìn)一步提聞了對(duì)位的精確性和對(duì)位的效率。4.通過底片偏差感應(yīng)模塊，和底片對(duì)位模塊之間的配合，底片對(duì)位超差后可以自動(dòng)修復(fù)；通過覆銅箔板偏差感應(yīng)模塊，和覆銅箔板對(duì)位模塊之間的配合，覆銅箔板對(duì)位超差后可以自動(dòng)修復(fù)。

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，以下將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，以下描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖所示實(shí)施例得到其它的實(shí)施例及其附圖。圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的曝光對(duì)位系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例的底片偏差感應(yīng)模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例的底片對(duì)位模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例的底片移動(dòng)控制器及底片驅(qū)動(dòng)器的結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例的覆銅箔板偏差感應(yīng)模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例的覆銅箔板對(duì)位模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例的覆銅箔板移動(dòng)控制器及覆銅箔板驅(qū)動(dòng)器的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型各實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整的描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所得到的所有其它實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型所保護(hù)的范圍。圖1為本實(shí)用新型的曝光對(duì)位系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖，如圖1所示，該系統(tǒng)用于印制電路板曬架，包括底片偏差感應(yīng)模塊101，用于感應(yīng)放入所述曬架中的上底片和下底片的位置，確定所述上底片、下底片之間的第一位置偏差。底片對(duì)位模塊102，用于根據(jù)所述第一位置偏差確定底片移動(dòng)值，根據(jù)所述底片移動(dòng)值，以所述上底片和所述下底片其中之一為基準(zhǔn)驅(qū)動(dòng)另一個(gè)進(jìn)行所述上底片、所述下底片的對(duì)位。[0055]鎖定模塊103，用于將對(duì)位完成的所述上底片、所述下底片進(jìn)行位置鎖定；覆銅箔板偏差感應(yīng)模塊104，用于感應(yīng)放入被位置鎖定的所述上底片和所述下底片之間的覆銅箔板的位置，確定所述覆銅箔板與所述上底片或所述下底片之間的第二位置偏差。覆銅箔板對(duì)位模塊105，用于根據(jù)所述第二位置偏差確定覆銅箔板移動(dòng)值，根據(jù)所述覆銅箔板移動(dòng)值，以所述上底片或所述下底片為基準(zhǔn)，驅(qū)動(dòng)所述覆銅箔板進(jìn)行所述覆銅箔板與所述上底片、所述下底片的對(duì)位。其中，所述底片偏差感應(yīng)模塊101的結(jié)構(gòu)如圖2所示，包括底片位置感應(yīng)器201，用于感應(yīng)放入曬架中的上底片和下底片的對(duì)位靶點(diǎn)位置；具體可以采用光學(xué)感應(yīng)器，比如電荷耦合元件(CCD)。底片偏差獲取器202，用于根據(jù)所述上底片和下底片的位置，確定所述上底片、下底片之間的第一位置偏差。所述底片對(duì)位模塊102的結(jié)構(gòu)如圖3所示，包括底片移動(dòng)控制器301，用于根據(jù)所述第一位置偏差確定底片移動(dòng)值；底片驅(qū)動(dòng)器302，用于根據(jù)所述底片移動(dòng)值，以所述上底片和所述下底片其中之一為基準(zhǔn)驅(qū)動(dòng)另一個(gè)進(jìn)行所述上底片、所述下底片的對(duì)位。所述底片移動(dòng)控制器301的結(jié)構(gòu)如圖4所示，包括移動(dòng)值確定單元401，用于確定底片在水平方向上的移動(dòng)值；如水平X、Y軸方向上的移動(dòng)值和轉(zhuǎn)動(dòng)值。所述底片驅(qū)動(dòng)器302的結(jié)構(gòu)如圖4所示，包括多個(gè)驅(qū)動(dòng)單元，用于根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元確定的，底片在水平方向上的移動(dòng)值，驅(qū)動(dòng)底片在水平方向上移動(dòng)；如驅(qū)動(dòng)底片在水平X、Y軸方向上的移動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)，具體可以包括一個(gè)水平X軸方向上的X驅(qū)動(dòng)單元402、兩個(gè)水平Y(jié)軸方向上的Y驅(qū)動(dòng)單元403，驅(qū)動(dòng)方式可以采用電機(jī)帶動(dòng)螺母或螺桿轉(zhuǎn)動(dòng)的方式；Χ驅(qū)動(dòng)單元402可以根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元401確定的，底片在水平X方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)底片在水平X方向上移動(dòng)；兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元403可以根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元401確定的，底片在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)底片在水平Y(jié)方向上移動(dòng)；還可以根據(jù)移動(dòng)值確定單元401確定的轉(zhuǎn)動(dòng)值，即兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元403在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值之差，驅(qū)動(dòng)底片在水平方向上轉(zhuǎn)動(dòng)。所述覆銅箔板偏差偏差感應(yīng)模塊104的結(jié)構(gòu)如圖5所示,包括覆銅箔板位置感應(yīng)器501，用于感應(yīng)放入被位置鎖定的所述上底片和所述下底片之間的所述覆銅箔板的對(duì)位靶點(diǎn)位置；具體可以采用光學(xué)感應(yīng)器，比如電荷耦合元件(CCD)。覆銅箔板偏差獲取器502，用于根據(jù)所述覆銅箔板的對(duì)位靶點(diǎn)位置，確定所述覆銅箔板與所述上底片或所述下底片之間的第二位置偏差。所述覆銅箔板對(duì)位模塊105的結(jié)構(gòu)如圖6所示,包括覆銅箔板移動(dòng)控制器601，用于根據(jù)所述第二位置偏差確定覆銅箔板移動(dòng)值；覆銅箔板驅(qū)動(dòng)器602，用于根據(jù)所述覆銅箔板移動(dòng)值，以所述上底片或所述下底片為基準(zhǔn)，驅(qū)動(dòng)所述覆銅箔板進(jìn)行所述覆銅箔板與所述上底片、所述下底片的對(duì)位。所述覆銅箔板移動(dòng)控制器601的結(jié)構(gòu)如圖7所示，包括[0076]移動(dòng)值確定單元701，用于確定覆銅箔板在水平方向上的移動(dòng)值；如水平X、Y軸方向上的移動(dòng)值和轉(zhuǎn)動(dòng)值。所述覆銅箔板驅(qū)動(dòng)器602的結(jié)構(gòu)如圖7所示，包括多個(gè)驅(qū)動(dòng)單元，用于根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元701確定的，覆銅箔板在水平方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)覆銅箔板在水平方向上移動(dòng)；如驅(qū)動(dòng)覆銅箔板在水平X、Y軸方向上的移動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)，具體可以包括一個(gè)水平X軸方向上的X驅(qū)動(dòng)單元702，兩個(gè)水平Y(jié)軸方向上的Y驅(qū)動(dòng)單元703，驅(qū)動(dòng)方式可以采用電機(jī)帶動(dòng)螺母或螺桿轉(zhuǎn)動(dòng)的方式；Χ驅(qū)動(dòng)單元702可以根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元701確定的，底片在水平X方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)底片在水平X方向上移動(dòng)；兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元703可以根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元701確定的，底片在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)底片在水平Y(jié)方向上移動(dòng)；還可以根據(jù)移動(dòng)值確定單元701確定的轉(zhuǎn)動(dòng)值，即兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元704在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值之差，驅(qū)動(dòng)底片在水平方向上轉(zhuǎn)動(dòng)。另外，作為優(yōu)選的實(shí)施例，曝光對(duì)位系統(tǒng)可以進(jìn)一步包括限位模塊，用于限制所述曬架的上框，在上框運(yùn)動(dòng)過程中，與下框之間在水平方向上的相對(duì)移動(dòng)。該限位模塊可以采用在上框和下框上安裝的互相配合的球銷與球套，和/或互相配合的方銷和方套，這樣可以將上框在運(yùn)動(dòng)過程中，與下框間之間在水平方向上的相對(duì)移動(dòng)保持在±8um的范圍內(nèi)。使用上述的系統(tǒng)，所需進(jìn)行的曝光對(duì)位操作如下1、首先將上底片、下底片放入曬架中；具體的操作包括抬起曬架上蓋；開啟曬架上蓋；將上底片、下底片放入曬架中。2、確定上底片、下底片之間的第一位置偏差；具體操作步驟包括，關(guān)閉上蓋；降下上蓋；對(duì)上底片、下底片進(jìn)行吸附；降下上蓋，膨脹密封圈脹起，腔體抽真空；底片偏差感應(yīng)模塊101感應(yīng)上底片、下底片之間的第一位置偏差，當(dāng)?shù)谝晃恢闷钤陬A(yù)設(shè)的對(duì)位成功范圍內(nèi)，即上底片、下底片已經(jīng)成功對(duì)位，則停止腔體真空，進(jìn)入步驟7、覆銅箔板對(duì)位；當(dāng)?shù)谝晃恢闷畛鲱A(yù)設(shè)的對(duì)位成功范圍，則進(jìn)行步驟3、底片對(duì)位。3、底片對(duì)位；底片移動(dòng)控制器301根據(jù)第一位置偏差確定底片移動(dòng)值，并將底片移動(dòng)值發(fā)送給底片驅(qū)動(dòng)器302，以上底片為基準(zhǔn)，驅(qū)動(dòng)下底片移動(dòng)；或者以下底片為基準(zhǔn)，驅(qū)動(dòng)上底片移動(dòng)，進(jìn)行底片對(duì)位。4、位置鎖定；當(dāng)?shù)灼瑢?duì)位成功后，即所述第一位置偏差進(jìn)入預(yù)設(shè)的對(duì)位成功范圍內(nèi)時(shí)，通過鎖定模塊103將上底片、下底片進(jìn)行位置鎖定。5、將覆銅箔板放入被位置鎖定的上底片和下底片之間；具體操作步驟為抬起上蓋、開啟上蓋，將覆銅箔板放入被位置鎖定的上底片和下底片之間，關(guān)閉上蓋。6、確定覆銅箔板與上底片或下底片之間的第二位置偏差；具體操作步驟為膨脹密封圈脹起，腔體抽真空；覆銅箔板偏差感應(yīng)模塊104感應(yīng)覆銅箔板與上底片或下底片之間的第二位置偏差，若第二位置偏差在預(yù)設(shè)的對(duì)位數(shù)值范圍內(nèi)，則覆銅箔板與上底片或下底片對(duì)位成功，若第二位置偏差超出預(yù)設(shè)的對(duì)位數(shù)值范圍，則進(jìn)行下一步覆銅箔板對(duì)位。7、覆銅箔板對(duì)位。具體操作步驟為覆銅箔板移動(dòng)控制器601根據(jù)第二位置偏差確定覆銅箔板移動(dòng)值，并將覆銅箔板移動(dòng)值發(fā)送給覆銅箔板驅(qū)動(dòng)器602，覆銅箔板驅(qū)動(dòng)器602以上底片或下底片為基準(zhǔn)，驅(qū)動(dòng)覆銅箔板移動(dòng)直至對(duì)位成功，即所述第二位置偏差進(jìn)入預(yù)設(shè)的對(duì)位數(shù)值范圍內(nèi)。至此，對(duì)位結(jié)束。之后即可進(jìn)行曬架傳動(dòng)、曝光的流程?？梢娚鲜霾僮髦?，人工操作只需進(jìn)行放入上下底片、以及覆銅箔板的操作，對(duì)位過程中，只需開啟一次曬架，放入覆銅箔板，剩余對(duì)位操作完全自動(dòng)完成，相比現(xiàn)有技術(shù)，大大簡(jiǎn)化了操作。本實(shí)用新型提供的各種實(shí)施例可根據(jù)需要以任意方式相互組合，通過這種組合得到的技術(shù)方案，也在本實(shí)用新型的范圍內(nèi)。顯然，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若對(duì)本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種曝光對(duì)位系統(tǒng)，用于印制電路板曬架，其特征在于，該系統(tǒng)包括 底片偏差感應(yīng)模塊，用于感應(yīng)放入所述曬架中的上底片和下底片的對(duì)位靶點(diǎn)位置，確定所述上底片、下底片之間的第一位置偏差； 底片對(duì)位模塊，用于根據(jù)所述第一位置偏差確定底片移動(dòng)值，根據(jù)所述底片移動(dòng)值，以所述上底片和所述下底片其中之一為基準(zhǔn)驅(qū)動(dòng)另一個(gè)進(jìn)行所述上底片、所述下底片的對(duì)位； 鎖定模塊，用于將對(duì)位完成的所述上底片、所述下底片進(jìn)行位置鎖定； 覆銅箔板偏差感應(yīng)模塊，用于感應(yīng)放入被位置鎖定的所述上底片和所述下底片之間的覆銅箔板的對(duì)位靶點(diǎn)位置，確定所述覆銅箔板與所述上底片或所述下底片之間的第二位置偏差; 覆銅箔板對(duì)位模塊，用于根據(jù)所述第二位置偏差確定覆銅箔板移動(dòng)值，根據(jù)所述覆銅箔板移動(dòng)值，以所述上底片或所述下底片為基準(zhǔn)，驅(qū)動(dòng)所述覆銅箔板進(jìn)行所述覆銅箔板與所述上底片、所述下底片的對(duì)位。
2.如權(quán)利要求1所述的曝光對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述底片偏差感應(yīng)模塊，包括 底片位置感應(yīng)器，用于感應(yīng)放入曬架中的上底片和下底片的對(duì)位靶點(diǎn)位置； 底片偏差獲取器，用于根據(jù)所述上底片和下底片的對(duì)位靶點(diǎn)位置，確定所述上底片、下底片之間的第一位置偏差。
3.如權(quán)利要求1所述的曝光對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述底片對(duì)位模塊包括 底片移動(dòng)控制器，用于根據(jù)所述第一位置偏差確定底片移動(dòng)值； 底片驅(qū)動(dòng)器，用于根據(jù)所述底片移動(dòng)值，以所述上底片和所述下底片其中之一為基準(zhǔn)驅(qū)動(dòng)另一個(gè)進(jìn)行所述上底片、所述下底片的對(duì)位。
4.如權(quán)利要求3所述的曝光對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述底片移動(dòng)控制器包括 移動(dòng)值確定單元，用于確定底片在水平X、Y方向上的移動(dòng)值和轉(zhuǎn)動(dòng)值。
5.如權(quán)利要求4所述的曝光對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述底片驅(qū)動(dòng)器包括 一個(gè)X驅(qū)動(dòng)單元，用于根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元確定的，底片在水平X方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)底片在水平X方向上移動(dòng)； 兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元，用于根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元確定的，底片在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)底片在水平Y(jié)方向上移動(dòng)；根據(jù)轉(zhuǎn)動(dòng)值，即兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值之差，驅(qū)動(dòng)底片在水平方向上轉(zhuǎn)動(dòng)。
6.如權(quán)利要求1所述的曝光對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述覆銅箔板偏差感應(yīng)模塊，包括 覆銅箔板位置感應(yīng)器，用于感應(yīng)放入被位置鎖定的所述上底片和所述下底片之間的所述覆銅箔板的對(duì)位靶點(diǎn)位置； 覆銅箔板偏差獲取器，用于根據(jù)所述覆銅箔板的對(duì)位靶點(diǎn)位置，確定所述覆銅箔板與所述上底片或所述下底片之間的第二位置偏差。
7.如權(quán)利要求1所述的曝光對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述覆銅箔板對(duì)位模塊包括 覆銅箔板移動(dòng)控制器，用于根據(jù)所述第二位置偏差確定覆銅箔板移動(dòng)值； 覆銅箔板驅(qū)動(dòng)器，用于根據(jù)所述覆銅箔板移動(dòng)值，以所述上底片或所述下底片為基準(zhǔn)，驅(qū)動(dòng)所述覆銅箔板進(jìn)行所述覆銅箔板與所述上底片、所述下底片的對(duì)位。
8.如權(quán)利要求7所述的曝光對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述覆銅箔板移動(dòng)控制器包括 移動(dòng)值確定單元，用于確定覆銅箔板在水平X、Y方向上的移動(dòng)值和轉(zhuǎn)動(dòng)值。
9.如權(quán)利要求8所述的曝光對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，所述覆銅箔板驅(qū)動(dòng)器包括 一個(gè)X驅(qū)動(dòng)單元，用于根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元確定的，覆銅箔板在水平X方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)覆銅箔板在水平X方向上移動(dòng)； 兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元，用于根據(jù)所述移動(dòng)值確定單元確定的，覆銅箔板在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值；驅(qū)動(dòng)覆銅箔板在水平Y(jié)方向上移動(dòng)；根據(jù)所述轉(zhuǎn)動(dòng)值，即兩個(gè)Y驅(qū)動(dòng)單元在水平Y(jié)方向上的移動(dòng)值之差，驅(qū)動(dòng)覆銅箔板在水平方向上轉(zhuǎn)動(dòng)。
10.如權(quán)利要求廣7中任一項(xiàng)所述的曝光對(duì)位系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)進(jìn)一步包括 限位模塊，用于限制所述曬架的上框，在上框運(yùn)動(dòng)的過程中，與下框之間在水平方向上的相對(duì)移動(dòng)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種曝光對(duì)位系統(tǒng)，用于印制電路板曬架，該系統(tǒng)包括底片偏差感應(yīng)模塊，用于上底片、下底片之間的第一位置偏差；底片對(duì)位模塊，用于根據(jù)所述第一位置偏差確定底片移動(dòng)值，進(jìn)行所述上底片、所述下底片的對(duì)位；鎖定模塊，用于將對(duì)位完成的所述上底片、所述下底片進(jìn)行位置鎖定；覆銅箔板偏差感應(yīng)模塊，用于確定所述覆銅箔板與所述上底片或所述下底片之間的第二位置偏差；覆銅箔板對(duì)位模塊，用于根據(jù)所述第二位置偏差驅(qū)動(dòng)所述覆銅箔板進(jìn)行所述覆銅箔板與所述上底片、所述下底片的對(duì)位。該系統(tǒng)能夠簡(jiǎn)化對(duì)位操作。
文檔編號(hào)G03F9/00GK202837810SQ201220366130
公開日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月26日
發(fā)明者李炬, 肖麗, 王金鵬, 李松凌, 王安建, 佘瑞峰 申請(qǐng)人:四川聚能核技術(shù)工程有限公司