專利名稱：膠片曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及向膠片狀的被曝光體上曝光各種圖形一的膠片曝光裝置。
技術(shù)背景 已知有一種曝光裝置,它一邊沿一個(gè)方向來(lái)運(yùn)送膠片狀的基材，一邊向該基材上曝光相位差圖形、濾光片圖形、電路圖形等各種圖形。例如，下述專利文獻(xiàn)I中記載的曝光裝置將具有規(guī)定寬度的膠卷狀的被曝光體送入到曝光部上，將掩模的圖形曝光到被曝光體上，包括供給卷盤旋轉(zhuǎn)部，使送出被曝光體的供給卷盤旋轉(zhuǎn)；導(dǎo)輥，引導(dǎo)從該供給卷盤送出的被曝光體；以及對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記繪制部，被配置在該導(dǎo)輥和曝光部之間，向被曝光體上繪制與圖形掩模對(duì)位用的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。此外，包括拍攝該對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)，根據(jù)對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)的圖像來(lái)進(jìn)行膠片狀的被曝光體和掩模的位置調(diào)整。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :(日本)特開(kāi)2009-53383號(hào)公報(bào)在這種曝光裝置中，膠片狀的被曝光體由于曝光而被加熱，從而有時(shí)在被曝光體的曝光面上沿運(yùn)送方向產(chǎn)生條狀的褶皺。在曝光面上產(chǎn)生這種褶皺后，在曝光面上形成掩模的圖形時(shí)，有時(shí)對(duì)圖形的尺寸造成不良影響，產(chǎn)生在曝光面上不能形成高精度的圖形的問(wèn)題。此外，在用對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)來(lái)拍攝被曝光體的膠片面上形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記時(shí)，如果在膠片面上產(chǎn)生了前述褶皺，則對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)的焦點(diǎn)位置變化，取得圖像的鮮明度降低，而產(chǎn)生不能高精度地進(jìn)行膠片狀的被曝光體和掩模的位置調(diào)整的問(wèn)題。對(duì)此，作為抑制被曝光體的曝光面形成的褶皺的方法，可以使直徑比較大的支承輥接觸被曝光體的曝光面的相反一側(cè)的面，用該支承輥的曲面來(lái)壓平褶皺。然而根據(jù)該方法，被曝光體的曝光面的相反一側(cè)的空間由支承輥占有，產(chǎn)生想在曝光面的相反一側(cè)配置的對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)等器材的配置空間受到制約的問(wèn)題。假如將對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)配置在被曝光體的曝光面?zhèn)龋瑒t不僅產(chǎn)生本來(lái)必須配置在曝光面?zhèn)鹊墓庠春脱谀１３植康呐渲煤蛯?duì)準(zhǔn)攝像機(jī)的配置沖突這一問(wèn)題，而且由于用對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)來(lái)拍攝支承輥的曲面反射的光，所以支承輥的曲面將光反射到各種各樣的方向，入射到攝像機(jī)中的光的光量降低，產(chǎn)生取得圖像的對(duì)比度降低的問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型就是將處理這種問(wèn)題作為課題的一例。即，本實(shí)用新型的目的是在向膠片狀的被曝光體上曝光掩模圖形的曝光裝置中，通過(guò)抑制曝光面上產(chǎn)生的褶皺，能夠在曝光面上形成高精度的圖形，或者高精度地進(jìn)行膠片狀的被曝光體和掩模的位置調(diào)整；能夠在曝光面的相反一側(cè)確?？膳渲脤?duì)準(zhǔn)攝像機(jī)等器材的有效空間；能夠提高對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)的取得圖像的對(duì)比度等。為了實(shí)現(xiàn)這種目的，本實(shí)用新型至少具備以下結(jié)構(gòu)。一種膠片曝光裝置，向膠片狀的被曝光體上曝光掩模圖形，其特征在于，包括膠片運(yùn)送部，沿一個(gè)方向運(yùn)送上述被曝光體；光掩模，被接近配置在上述被曝光體的曝光面上；掩模保持部，將上述光掩模保持在上述被曝光體的曝光面上；以及光照射部，向上述光掩模的掩模圖形上照射光；上述光掩模具有沿上述被曝光體的運(yùn)送方向配置的第I掩模圖形和第2掩模圖形；上述膠片運(yùn)送部具有與上述第I掩模圖形和上述第2掩模圖形的位置對(duì)應(yīng)而配置的一對(duì)支承輥，用上述一對(duì)支承輥來(lái)支持曝光上述第I掩模圖形和上述第2掩模圖形的曝光面的相反一側(cè)的面。根據(jù)具備這種特征的本實(shí)用新型的膠片曝光裝置，用一對(duì)支承輥來(lái)支持曝光第I掩模圖形和第2掩模圖形的被曝光體的曝光面的相反一側(cè)的面，所以曝光面接觸支承輥的表面而成為難以產(chǎn)生褶皺的狀態(tài)。由此，能夠抑制被曝光體的曝光面上產(chǎn)生的褶皺，能夠在 曝光面上形成高精度的圖形。此外，通過(guò)抑制被曝光體的曝光面上產(chǎn)生的褶皺，能夠無(wú)焦點(diǎn)偏差地拍攝被曝光體的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，能夠高精度地進(jìn)行被曝光體和掩模的位置調(diào)整。此外，通過(guò)設(shè)一對(duì)支承輥，能夠在一對(duì)支承輥之間確?？臻g，能夠在該空間中配置對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)等調(diào)整器材。由此，對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)能夠用透過(guò)光掩模和被曝光體的光來(lái)拍攝對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，能夠充分確保入射到對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)中的光，來(lái)得到高對(duì)比度的圖像。

圖I是本實(shí)用新型的實(shí)施方式的膠片曝光裝置的整體結(jié)構(gòu)的說(shuō)明圖。圖2是本實(shí)用新型的實(shí)施方式中的光掩模的掩模圖形的說(shuō)明圖(圖2(a)是平面圖，圖2(b)是A-A剖面圖)。圖3是本實(shí)用新型的實(shí)施方式中的掩模保持部的具體結(jié)構(gòu)例的說(shuō)明圖(圖3(a)是B-B剖面圖，圖3 (b)是A-A剖面圖)。標(biāo)號(hào)說(shuō)明I :膠片曝光裝置，2 :膠片運(yùn)送部，3 :光掩模，4:掩模保持部，4&:開(kāi)口，5(5八、58):光照射部，6(6A、6B):對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)，7 :位置調(diào)整部，8 :間隙傳感器，9 :位置調(diào)整用光源，21、22 :支承輥，23、24 :運(yùn)送輥，31 :第I掩模圖形，32 :第2掩模圖形，33、34、35 :對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部，41 :遮光板,43 :支持框,44 :框體，45 :掩模吸附孔F :被曝光體，a:曝光面
具體實(shí)施方式
以下，參照附圖來(lái)說(shuō)明本實(shí)用新型的實(shí)施方式。圖I是本實(shí)用新型的實(shí)施方式的膠片曝光裝置的整體結(jié)構(gòu)的說(shuō)明圖。膠片曝光裝置I是向膠片狀的被曝光體F上曝光掩模圖形的裝置，包括膠片運(yùn)送部2,沿一個(gè)方向來(lái)運(yùn)送被曝光體F ;光掩模3,被配置在接近被曝光體F的曝光面a上；掩模保持部4，將光掩模3保持在被曝光體F的曝光面a上；以及光照射部5，向光掩模3的掩模圖形上照射光。被曝光體F在表面或內(nèi)部具有通過(guò)對(duì)沿一個(gè)方向長(zhǎng)的膠片狀的基材照射紫外線等光而變性的感光性樹(shù)脂層。被曝光體F上形成的曝光圖形可以是相位差圖形、濾色片圖形、電路圖形等各種圖形，圖形的形態(tài)沒(méi)有特別的限定，但是是一邊沿一個(gè)方向來(lái)運(yùn)送被曝光體F，一邊形成圖形，所以沿運(yùn)送方向形成線狀的圖形。膠片運(yùn)送部2沿圖示的箭頭沿一個(gè)方向來(lái)運(yùn)送膠片狀的被曝光體F。該膠片運(yùn)送部2相對(duì)于光掩模3在被曝光體F的運(yùn)送方向上游側(cè)和下游側(cè)具有一對(duì)支承輥21、22，在該支承輥21、22上配置有被曝光體F的曝光面a。圖示的膠片運(yùn)送部2在一對(duì)支承輥21、22的上游側(cè)及下游側(cè)具有多個(gè)運(yùn)送輥23、24。光掩模3在支承輥21、22上被配置在接近被曝光體F的曝光面a上，具有沿被曝·光體F的運(yùn)送方向配置的第I掩模圖形31和第2掩模圖形32。圖2是本實(shí)用新型的實(shí)施方式中的光掩模的掩模圖形的說(shuō)明圖(圖2(a)是平面圖，圖2(b)是A-A剖面圖)。在圖示的例子中，第I掩模圖形31被配置在被曝光體F的運(yùn)送方向上流側(cè)，第2掩模圖形32被配置在被曝光體F的運(yùn)送方向下流側(cè)。第I掩模圖形31和第2掩模圖形32分別在被曝光體F的曝光面a上的不同位置上形成線狀的圖形。光掩模3在第I掩模圖形31和第2掩模圖形32之間具有對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部33、34、35。對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部33、34本身具有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的功能，用它來(lái)進(jìn)行光掩模3的初始狀態(tài)下的位置調(diào)整。對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部35是狹縫狀的開(kāi)口部，在其內(nèi)部沿被曝光體F的運(yùn)送方向設(shè)有線狀的標(biāo)記(圖示省略)。通過(guò)對(duì)齊被曝光體F上所設(shè)的線狀的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部35內(nèi)的線狀的標(biāo)記，來(lái)進(jìn)行被曝光體F的運(yùn)送中的位置調(diào)整。此外，光掩模3通過(guò)濺射等在透明的石英玻璃基板3A的一面上形成了鉻等的遮光層3B，在該遮光層3B上用光刻工序等形成了第I掩模圖形31、第2掩模圖形32、對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部33、34、35。掩模保持部4將光掩模3保持在被曝光體F的曝光面a上,并且具有與光掩模3的對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部33、34、35對(duì)應(yīng)的開(kāi)口 4a。在圖示的例子中，掩模保持部4在大致中央部包括遮光板41。在掩模保持部4保持的光掩模3上，配置向第I掩模圖形31和第2掩模圖形32分別照射光的光照射部5 (5A、5B)。光照射部5 (5A、5B)將來(lái)自圖中省略的一個(gè)或多個(gè)光源的光分別引導(dǎo)到光掩模3的第I掩模圖形31和第2掩模圖形32上。說(shuō)明光照射部5 (5A、5B)的一例將不同的直線偏光分量(P偏光和S偏光)從各個(gè)光照射部5A、5B以傾斜的角度照射到曝光面a上。由此，能夠在曝光面a上形成條狀的相位差圖形。此外，本實(shí)用新型的實(shí)施方式的膠片曝光裝置I包括位置調(diào)整部7，在一對(duì)支承輥21、22間配置拍攝對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)6(6A、6B)，根據(jù)對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)6(6A、6B)的取得圖像來(lái)進(jìn)行掩模保持部4和被曝光體F的位置調(diào)整。位置調(diào)整部7經(jīng)掩模保持部4的支持框43來(lái)進(jìn)行掩模保持部4保持的光掩模3和被曝光體F的位置調(diào)整。對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)6用從位置調(diào)整用光源9照射、并透過(guò)對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部33、34、35及被曝光體F的光，來(lái)取得對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的圖像。對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)6的圖像由圖中省略的控制部進(jìn)行圖像處理，通過(guò)該控制部的輸出使位置調(diào)整部7動(dòng)作。對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)6包括初始調(diào)整用攝像機(jī)6A，用于拍攝對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部33、34和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；和跟蹤用攝像機(jī)6B，用于拍攝對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部35內(nèi)的線狀標(biāo)記和被曝光體F上所設(shè)的線狀的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。此外，可以在一對(duì)支承輥21、22間設(shè)間隙傳感器8，用于檢測(cè)被曝光體F和光掩模3的間隔并調(diào)整到適當(dāng)?shù)拈g隔。圖3是本實(shí)用新型的實(shí)施方式中的掩模保持部的具體結(jié)構(gòu)例的說(shuō)明圖(圖3(a)是B-B剖面圖，圖3(b)是A-A剖面圖)。圖示的例子的掩模保持部4吸附并保持光掩模3，具有框體44，該框體44具有與光掩模3的外周緣對(duì)應(yīng)的外緣。該掩模保持部4在第I掩模圖形31和第2掩模圖形32之間保持光掩模3。在框體44上設(shè)有開(kāi)口 4a，用于使光透過(guò)到光掩模3的對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部33、34、35。在框體44的大致中央設(shè)有遮光板41，該遮光板41沿與被曝光體F的運(yùn)送方向交叉的方向延設(shè)，設(shè)有支持框43，使其橫跨遮光板41。遮光板41被設(shè)置成使得照射到第I掩模圖形31上的光和照射到第2掩模圖形32上的光不相互交錯(cuò)。再者，在框體44的底面上設(shè)有掩模吸附孔45，用該掩模吸附孔45中產(chǎn)生的負(fù)壓將光掩模3吸附在框體44的底面上。具備這種結(jié)構(gòu)的膠片曝光裝置I的光掩模3沿被曝光體F的運(yùn)送方向包括第I掩模圖形31和第2掩模圖形32，其膠片運(yùn)送部2具有與第I掩模圖形31和第2掩模圖形32的位置對(duì)應(yīng)而配置的一對(duì)支承輥21、22。用一對(duì)支承輥21、22支持曝光第I掩模圖形31和第2掩模圖形32的曝光面a的相反一側(cè)的面。由此，如圖2所示，通過(guò)在光掩模3的第I掩模圖形31和第2掩模圖形32之間設(shè)比較寬的間隔，能夠?qū)⑴c這些位置對(duì)應(yīng)而配備的一對(duì)支承輥21、22之間的空間取得比較大。由此，能夠在一對(duì)支承輥21、22之間的空間中配置對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)6 (6A、6B)和間隙傳感器8等調(diào)整器材。一對(duì)支承輥21、22之間的空間位于與被曝光體F的曝光面a相反一側(cè)，成為與掩模保持部4和光照射部5的配置不沖突的空間。此外，由于在光掩模3的第I掩模圖形31和第2掩模圖形32之間有比較廣的空間，能夠在該空間的任意的位置上配置對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部33、34、35，所以對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)6(6A、6B)的位置也能夠與之相應(yīng)而任意設(shè)定。此外，由于對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)6用從位置調(diào)整用光源9出射并透過(guò)對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部33、34、35及被曝光體F的光，來(lái)得到對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部33、34、35和被曝光體F的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的圖像，所以能夠以足夠的光量來(lái)取得圖像，能夠根據(jù)高對(duì)比度的圖像來(lái)進(jìn)行位置調(diào)整。由此，能夠高精度地進(jìn)行被曝光體F和光掩模3的位置調(diào)整。由于與光掩模3的第I掩模圖形31和第2掩模圖形32對(duì)應(yīng)的被曝光體F的曝光面a分別由支承輥21、22的曲面從背面?zhèn)戎С种?，所以各個(gè)曝光面a由支承輥21、22的曲面拉伸，該曝光面a成為即使加熱也難以產(chǎn)生褶皺的狀態(tài)。由此，能夠在沒(méi)有褶皺的曝光面a上曝光第I掩模圖形31和第2掩模圖形32，能夠形成尺寸精度高的掩模圖形。此外，通過(guò)抑制曝光面a的褶皺，其間的被曝光體F的膠片面也難以產(chǎn)生褶皺，用對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)6來(lái)拍攝被曝光體F上所設(shè)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記時(shí)難以產(chǎn)生焦點(diǎn)偏差。由此，能夠高精度地進(jìn)行被曝光體F和光掩模3的位置調(diào)整。與光掩模3的第I掩模圖形31和第2掩模圖形32對(duì)應(yīng)的被曝光體F的曝光面a并不被限定在支承輥21、22的曲面上，也可以形成在離支承輥21、22的曲面近的被曝光體F的平面部分上。離支承輥21、22的曲面近的被曝光體F的平面部分與支承輥21、22的曲面上同樣是難以產(chǎn)生褶皺的部分，通過(guò)將該部分作為曝光面a，能夠?qū)⑵毓忸I(lǐng)域取得很廣。通過(guò)這樣拓廣曝光領(lǐng)域，能夠降低光源照度。[0045]以上參照附圖詳述了本實(shí)用新型的實(shí)施方式，但是具體結(jié)構(gòu)并不限于這些實(shí)施方式，即使有不脫離本實(shí)用新型的要旨的范圍內(nèi)的設(shè)計(jì)的變更等，也包含在本實(shí)用新型中。此 夕卜，上述各實(shí)施方式的目的及結(jié)構(gòu)等只要沒(méi)有特別的矛盾和問(wèn)題，就可以挪用并組合相互的技術(shù)。
權(quán)利要求1.一種膠片曝光裝置，向膠片狀的被曝光體上曝光掩模圖形，其特征在于， 包括膠片運(yùn)送部，沿一個(gè)方向運(yùn)送上述被曝光體； 光掩模，被配置在接近上述被曝光體的曝光面上； 掩模保持部，將上述光掩模保持在上述被曝光體的曝光面上；以及 光照射部，向上述光掩模的掩模圖形上照射光； 上述光掩模具有沿上述被曝光體的運(yùn)送方向配置的第I掩模圖形和第2掩模圖形； 上述膠片運(yùn)送部具有與上述第I掩模圖形和上述第2掩模圖形的位置對(duì)應(yīng)而配置的一對(duì)支承輥，用上述一對(duì)支承輥來(lái)支持曝光上述第I掩模圖形和上述第2掩模圖形的曝光面的相反一側(cè)的面。
2.如權(quán)利要求I所述的膠片曝光裝置，其特征在于，在上述一對(duì)支承輥間的空間配置拍攝上述被曝光體上所設(shè)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)。
3.如權(quán)利要求2所述的膠片曝光裝置，其特征在于，上述光掩模在上述第I掩模圖形和上述第2掩模圖形之間具有與上述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)開(kāi)口部。
4.如權(quán)利要求I 3中任一項(xiàng)所述的膠片曝光裝置，其特征在于，上述掩模保持部在上述第I掩模圖形和上述第2掩模圖形之間保持上述光掩模。
專利摘要一種膠片曝光裝置，向膠片狀的被曝光體上曝光掩模圖形，通過(guò)抑制曝光面上產(chǎn)生的褶皺，而在曝光面上形成高精度的圖形。確保用于配置對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)的空間。膠片曝光裝置(1)包括膠片運(yùn)送部(2)；光掩模(3)；掩模保持部(4)，將光掩模(3)保持在被曝光體F的曝光面a上；以及光照射部(5(5A、5B))，向光掩模(3)的掩模圖形照射光。光掩模(3)具有沿被曝光體F的運(yùn)送方向配置的第1掩模圖形(31)和第2掩模圖形(32)。膠片運(yùn)送部(2)具有與第1掩模圖形(31)和第2掩模圖形(32)的位置對(duì)應(yīng)而配置的一對(duì)支承輥(21、22)，用一對(duì)支承輥(21、22)支持曝光第1掩模圖形(31)和第2掩模圖形(32)的曝光面a的相反一側(cè)的面。在一對(duì)支承輥(21、22)之間確保配置對(duì)準(zhǔn)攝像機(jī)6的空間。
文檔編號(hào)G03F7/20GK202794848SQ201220408290
公開(kāi)日2013年3月13日 申請(qǐng)日期2012年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月24日
發(fā)明者金尾正康, 佐藤敬行, 冨塚吉博 申請(qǐng)人:株式會(huì)社V技術(shù)