專利名稱：曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，尤其涉及利用多個(gè)制作靶目標(biāo)發(fā)光單元在雙面感光電路板的表面制作多個(gè)靶標(biāo)的對(duì)位裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的曝光機(jī)的電路板的對(duì)位裝置是在曝光機(jī)的曝光框上設(shè)置多個(gè)定位銷，并在感光電路板上相對(duì)的位置設(shè)有定位孔，再由定位銷與定位孔間的套合關(guān)系，將感光電路板對(duì)位于曝光框，然而，為了套合的順暢性，一般會(huì)讓定位孔的孔徑稍大于定位銷的直徑，這樣便會(huì)形成對(duì)位誤差，降低電路板的合格率。之后，感光電路板的對(duì)位是將成對(duì)的對(duì)位銷穿設(shè)于電路板的對(duì)位孔并依據(jù)CCD攝影機(jī)所擷取的對(duì)位影像控制對(duì)位銷移動(dòng)而帶動(dòng)感光電路板，然而，由于對(duì)位裝置的結(jié)構(gòu)過于龐大，控制系統(tǒng)過于復(fù)雜，因此使得成本提高。因此，如何提供一種曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，以使其可便于設(shè)置于曝光機(jī)，且可提高在雙面感光電路板上制作電路的便利性，更可提高雙面電路位置的精度，將是本實(shí)用新型所欲積極揭露之處。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的缺憾，發(fā)明人有感其未臻于完善，遂竭其心智悉心研究克月艮，憑其從事該項(xiàng)產(chǎn)業(yè)多年的累積經(jīng)驗(yàn)，進(jìn)而研發(fā)出一種曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，以期達(dá)到可便于設(shè)置于曝光機(jī)，且可提高在雙面感光電路板上制作電路的便利性，更可提高雙面電路位置的精度的目的。為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型提供一種曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，其包含對(duì)位處理單元，其設(shè)置于該曝光機(jī)，該對(duì)位處理單元儲(chǔ)存多個(gè)靶標(biāo)位置；多個(gè)制作靶目標(biāo)發(fā)光單元，其設(shè)置于該曝光機(jī)并與該曝光機(jī)的曝光裝置相對(duì)，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元的發(fā)光端朝向該雙面感光電路板的表面；以及多個(gè)靶標(biāo)影像擷取單元，其電連接該對(duì)位處理單元，這些靶標(biāo)影像擷取單元設(shè)置于該曝光機(jī)并與該曝光裝置位于同一側(cè)，這些靶標(biāo)影像擷取單元的影像擷取端朝向該雙面感光電路板的另一表面。上述對(duì)位裝置還包含靶標(biāo)影像顯示單元，其設(shè)置于該曝光機(jī)，該靶標(biāo)影像顯示單元電連接該對(duì)位處理單元。上述對(duì)位裝置的這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元的發(fā)光端與該雙面感光電路板的表面接觸。上述對(duì)位裝置的這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元的發(fā)光端與該雙面感光電路板的表面相隔。上述對(duì)位裝置的這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元分別為紫外線發(fā)光二極管。由此，本實(shí)用新型的曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置便于設(shè)置于曝光機(jī)，且可提高在雙面感光電路板上制作電路的便利性，更可提高雙面電路位置的精度。
圖1為本實(shí)用新型具體實(shí)施例雙面感光電路板的分解示意圖。圖2為本實(shí)用新型具體實(shí)施例雙面感光電路板的組合示意圖。圖3為本實(shí)用新型具體實(shí)施例應(yīng)用的示意圖一。圖4為本實(shí)用新型具體實(shí)施例應(yīng)用的示意圖二。圖5為本實(shí)用新型具體實(shí)施例應(yīng)用的示意圖三。圖6為圖5的后側(cè)示意圖。圖7為本實(shí)用新型具體實(shí)施例靶目標(biāo)示意圖。圖8為本實(shí)用新型具體實(shí)施例對(duì)位的示意圖。圖9為本實(shí)用新型具體實(shí)施例發(fā)光端與雙面感光電路板表面相隔的示意圖。主要部件附圖標(biāo)記I 對(duì)位處理單元11 靶標(biāo)位置2 制作靶目標(biāo)發(fā)光單元21 發(fā)光端3 靶標(biāo)影像擷取單元31 影像擷取端4 靶標(biāo)影像顯示單元5 承載臺(tái)51 L型倚靠邊條52 通道6 曝光裝置8 曝光機(jī)9 雙面感光電路板91 基板92 導(dǎo)電層93 光阻劑層94 靶標(biāo)
具體實(shí)施方式
為充分了解本實(shí)用新型的目的、特征及技術(shù)效果，這里通過下述具體的實(shí)施例，并結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型做詳細(xì)說明，說明如下圖1至圖3分別為本實(shí)用新型具體實(shí)施例雙面感光電路板的分解示意圖、組合示意圖及應(yīng)用的不意圖一，如圖所不，本實(shí)用新型的曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置包含對(duì)位處理單元1、多個(gè)制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2及多個(gè)靶標(biāo)影像擷取單元3。其中，該雙面感光電路板9具有基板91、兩個(gè)導(dǎo)電層92及兩個(gè)光阻劑層93，該基板91可為透光或不透光，這些導(dǎo)電層92分別設(shè)置于該基板91的兩面上，這些光阻劑層93分別設(shè)置于這些導(dǎo)電層92上，該雙面感光電路板9可為硬式或軟式。該對(duì)位處理單元I設(shè)置于該曝光機(jī)8且儲(chǔ)存多個(gè)靶標(biāo)位置11，例如儲(chǔ)存這些靶目標(biāo)位置坐標(biāo)，該對(duì)位處理單元I可具有中央處理器、處理電路及內(nèi)存等，該內(nèi)存可儲(chǔ)存這些靶目標(biāo)位置坐標(biāo)。這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2可電連接該對(duì)位處理單元I或可電連接其他的手動(dòng)控制裝置(圖未示)以啟動(dòng)或關(guān)閉這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2設(shè)置于該曝光機(jī)8并與該曝光機(jī)8的曝光裝置6相對(duì)，例如這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2可設(shè)置于該曝光機(jī)8的承載臺(tái)5或其他可與該曝光裝置6相對(duì)的位置，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2的發(fā)光端21朝向該雙面感光電路板9的表面(光阻劑層93)，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2 (儲(chǔ)存于該對(duì)位處理單元I的這些靶標(biāo)位置11)與該曝光裝置6內(nèi)的電路圖像默認(rèn)有相對(duì)位置關(guān)系。這些靶標(biāo)影像擷取單元3電連接該對(duì)位處理單元I且分別可為攝影機(jī)，這些靶標(biāo)影像擷取單元3設(shè)置于該曝光機(jī)8并與該曝光裝置6位于同一側(cè)，例如這些靶標(biāo)影像擷取單元3可設(shè)置于該曝光裝置6的內(nèi)部或鄰近該曝光裝置6，或其他可與該曝光裝置6同一側(cè)的位置，這些靶標(biāo)影像擷取單元3的影像擷取端31朝向該雙面感光電路板9的另一表面(光阻劑層93)，這些靶標(biāo)影像擷取單元3與該曝光裝置6內(nèi)的電路圖像默認(rèn)有相對(duì)位置關(guān)系，因此，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2 (儲(chǔ)存于該對(duì)位處理單元I的這些靶標(biāo)位置11)、這些靶標(biāo)影像擷取單元3與該曝光裝置6內(nèi)的電路圖像默認(rèn)有相對(duì)位置關(guān)系。圖3至圖8分別為本實(shí)用新型具體實(shí)施例應(yīng)用的示意圖一至三、圖5的后側(cè)示意圖、靶目標(biāo)示意圖及對(duì)位的示意圖，如圖所示，本實(shí)用新型應(yīng)用時(shí)先將該雙面感光電路板9放置于該曝光機(jī)8的承載臺(tái)5上，接著再將該曝光機(jī)8的曝光裝置6接近該雙面感光電路板9，該雙面感光電路板9可倚靠在該承載臺(tái)5上的L型倚靠邊條51，當(dāng)該雙面感光電路板9欲固定在該承載臺(tái)5上時(shí)，該L型倚靠邊條51可固定于該承載臺(tái)5上，當(dāng)該雙面感光電路板9欲在該承載臺(tái)5上調(diào)整位置時(shí)，該L型倚靠邊條51亦可隨之移動(dòng)位置，該L型倚靠邊條51僅為固定該雙面感光電路板9或調(diào)整該雙面感光電路板9位置的示例，該雙面感光電路板9亦可通過其他裝置固定或調(diào)整位置，兩個(gè)制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2設(shè)置于該承載臺(tái)5內(nèi)且位于該雙面感光電路板9的下方，該制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2的數(shù)量可視實(shí)際需求而為兩個(gè)以上，以增加對(duì)位的精度，兩個(gè)靶標(biāo)影像擷取單元3設(shè)置于該曝光裝置6內(nèi)且位于該雙面感光電路板9的上方，該靶標(biāo)影像擷取單元3的數(shù)量與該制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2的數(shù)量相同。當(dāng)該曝光裝置6經(jīng)由該對(duì)位處理單元I的控制而對(duì)該雙面感光電路板9 一面的光阻劑層93曝光時(shí)，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2亦會(huì)經(jīng)由該對(duì)位處理單元I或其他的手動(dòng)控制裝置(圖未示)的控制而對(duì)該雙面感光電路板9另一面的光阻劑層93發(fā)光以使該雙面感光電路板9的表面形成兩個(gè)靶標(biāo)94，這些靶標(biāo)94的形狀分別可為圓形或其他幾何形狀，接著再以人工或翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)翻轉(zhuǎn)該雙面感光電路板9以使兩個(gè)靶標(biāo)94朝上面向兩個(gè)靶標(biāo)影像擷取單元3，之后該對(duì)位處理單元I控制該曝光裝置6及這些靶標(biāo)影像擷取單元3移動(dòng)，或該對(duì)位處理單元I控制該承載臺(tái)5移動(dòng)，以使這些靶標(biāo)影像擷取單元3可分別正對(duì)這些靶標(biāo)94，例如這些靶標(biāo)影像擷取單元3的影像擷取中心(儲(chǔ)存于該對(duì)位處理單元I的這些靶標(biāo)位置11)分別正對(duì)這些靶標(biāo)94的形心，接著該曝光裝置6再經(jīng)由該對(duì)位處理單元I的控制而對(duì)該雙面感光電路板9另一面的光阻劑層93曝光，以完成該雙面感光電路板9的雙面曝光。由于這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2 (儲(chǔ)存于該對(duì)位處理單元I的這些靶標(biāo)位置11)、這些靶標(biāo)影像擷取單元3與該曝光裝置6內(nèi)的電路圖像默認(rèn)有相對(duì)位置關(guān)系，因此當(dāng)這些靶標(biāo)影像擷取單元3的影像擷取中心(儲(chǔ)存于該對(duì)位處理單元I的這些靶標(biāo)位置11)分別正對(duì)這些靶標(biāo)94的形心再進(jìn)行曝光時(shí)，該雙面感光電路板9兩面的電路便可形成正確的電路位置。另外，該靶標(biāo)影像擷取單元3影像擷取范圍內(nèi)的任一點(diǎn)皆可作為該靶標(biāo)位置11，該靶標(biāo)94上的任一點(diǎn)皆可作為該靶標(biāo)位置11 (例如多邊形靶目標(biāo)端角)，只要該靶標(biāo)影像擷取單元3影像擷取的位置與該靶標(biāo)94上的位置一開始即默認(rèn)。如上所述，本實(shí)用新型的制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2、靶標(biāo)影像擷取單元3及對(duì)位處理單元I的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，因此便于設(shè)置于曝光機(jī)8，且通過上述的對(duì)位方式可提高在雙面感光電路板9上制作電路的便利性，進(jìn)而提高雙面電路位置的精度。請(qǐng)?jiān)賲⒄請(qǐng)D3至圖8，如圖所示，上述對(duì)位裝置還包含靶標(biāo)影像顯示單元4，其設(shè)置于該曝光機(jī)8，該靶標(biāo)影像顯示單元4電連接該對(duì)位處理單元I。該靶標(biāo)影像顯示單元4上可顯示儲(chǔ)存于該對(duì)位處理單元I的這些靶標(biāo)位置11，且操作者可通過該靶標(biāo)影像顯示單元4監(jiān)視這些靶標(biāo)影像擷取單元3的影像擷取中心(儲(chǔ)存于該對(duì)位處理單元I的這些靶標(biāo)位置11)分別正對(duì)這些靶標(biāo)94的形心的過程。另外，當(dāng)該雙面感光電路板9被翻轉(zhuǎn)以使兩個(gè)靶標(biāo)94朝上面向兩個(gè)靶標(biāo)影像擷取單元3后，操作者亦可不需通過該對(duì)位處理單元I控制該曝光裝置6及這些靶標(biāo)影像擷取單元3移動(dòng)，或控制該承載臺(tái)5移動(dòng)，而是操作者改以手動(dòng)以移動(dòng)調(diào)整該曝光裝置6及這些靶標(biāo)影像擷取單元3的位置，或移動(dòng)調(diào)整該承載臺(tái)5的位置，并通過監(jiān)看該靶標(biāo)影像顯示單元4以使這些靶標(biāo)影像擷取單元3的影像擷取中心(儲(chǔ)存于該對(duì)位處理單元I的這些靶標(biāo)位置11)分別正對(duì)這些靶標(biāo)94的形心，同時(shí)可通過該對(duì)位處理單元I的聲音或圖像提示以確定對(duì)位的正確性。請(qǐng)?jiān)賲⒄請(qǐng)D6，如圖所示，上述對(duì)位裝置的這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2的發(fā)光端21與該雙面感光電路板9的表面(光阻劑層93)接觸，其可使該靶標(biāo)94的形狀即為該制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2的發(fā)光端21的形狀，以便于在靶標(biāo)94上設(shè)定位置。圖9為本實(shí)用新型具體實(shí)施例發(fā)光端與雙面感光電路板表面相隔的示意圖，如圖所示，上述對(duì)位裝置的這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2的發(fā)光端21亦可視實(shí)際需求而與該雙面感光電路板9的表面(光阻劑層93)相隔，而相隔的通道52的截面形狀可與該制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2的發(fā)光端21的形狀相同，如此同樣亦可使該靶標(biāo)94的形狀即為該制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2的發(fā)光端21的形狀，以便于在靶標(biāo)94上設(shè)定位置。上述對(duì)位裝置的這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元2分別可為紫外線發(fā)光二極管，或其他可使這些光阻劑層93曝光的發(fā)光體。本實(shí)用新型在上文中已以較佳實(shí)施例揭露，然而本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解的是，該實(shí)施例僅用于描繪本實(shí)用新型，而不應(yīng)解讀為限制本實(shí)用新型的范圍。應(yīng)注意的是，凡是與該實(shí)施例等效的變化與置換，均應(yīng)視為涵蓋于本實(shí)用新型的范圍內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求書所限定的內(nèi)容為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，其特征在于，包含對(duì)位處理單元，其設(shè)置于該曝光機(jī)，該對(duì)位處理單元儲(chǔ)存多個(gè)靶標(biāo)位置；多個(gè)制作靶目標(biāo)發(fā)光單元，其設(shè)置于該曝光機(jī)并與該曝光機(jī)的曝光裝置相對(duì)，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元的發(fā)光端朝向該雙面感光電路板的表面；以及多個(gè)靶標(biāo)影像擷取單元，其電連接該對(duì)位處理單元，這些靶標(biāo)影像擷取單元設(shè)置于該曝光機(jī)并與該曝光裝置位于同一側(cè)，這些靶標(biāo)影像擷取單元的影像擷取端朝向該雙面感光電路板的另一表面。
2.如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，其特征在于，還包含靶標(biāo)影像顯示單元，其設(shè)置于該曝光機(jī)，該靶標(biāo)影像顯示單元電連接該對(duì)位處理單元。
3.如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，其特征在于，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元的發(fā)光端與該雙面感光電路板的表面接觸。
4.如權(quán)利要求2所述的曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，其特征在于，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元的發(fā)光端與該雙面感光電路板的表面接觸。
5.如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，其特征在于，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元的發(fā)光端與該雙面感光電路板的表面相隔。
6.如權(quán)利要求2所述的曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，其特征在于，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元的發(fā)光端與該雙面感光電路板的表面相隔。
7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，其特征在于，這些制作靶目標(biāo)發(fā)光單元分別為紫外線發(fā)光二極管。
專利摘要一種曝光機(jī)的雙面感光電路板的對(duì)位裝置，其可提高雙面電路板上電路位置的精度，本實(shí)用新型利用對(duì)位處理單元、多個(gè)制作靶目標(biāo)發(fā)光單元及多個(gè)靶標(biāo)影像擷取單元，對(duì)位處理單元、制作靶目標(biāo)發(fā)光單元及靶標(biāo)影像擷取單元設(shè)置于曝光機(jī)，靶標(biāo)影像擷取單元電連接對(duì)位處理單元，制作靶目標(biāo)發(fā)光單元與曝光裝置相對(duì)且朝向雙面感光電路板的表面，靶標(biāo)影像擷取單元與曝光裝置位于同一側(cè)且朝向雙面感光電路板的另一表面。由此，本實(shí)用新型便于設(shè)置于曝光機(jī)，且可提高在雙面感光電路板上制作電路的便利性，更可提高雙面電路位置的精度。
文檔編號(hào)G03F7/20GK202904224SQ20122059170
公開日2013年4月24日 申請(qǐng)日期2012年11月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月9日
發(fā)明者張鴻明 申請(qǐng)人:川寶科技股份有限公司