用于電泳顯示器的底板的制作方法
【專利摘要】用于電泳顯示器的底板提供有多個(gè)層，包括基膜層、互連層、箔層和顯示膜層。箔層包括至少一個(gè)激光形成的缺口，該缺口在箔層已經(jīng)被施加至一個(gè)其它層以后被限定在箔層內(nèi)。在一個(gè)實(shí)施方式中，互連層是印刷互連層。在另一個(gè)實(shí)施方式中，互連層是第二箔層。
【專利說明】用于電泳顯示器的底板
[0001] 相關(guān)申請的交叉參考
[0002] 本申請要求2011年12月1日提交的美國臨時(shí)專利申請?zhí)?1/565, 563的權(quán)益，其 通過引用全部并入本文中。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003] 本主題涉及電泳顯示器。更具體地，本主題涉及用于電泳顯示器的底板。
[0004] 發(fā)明背景
[0005] 并入電泳技術(shù)的顯示裝置因?yàn)樵谏痰昊蚱渌徫飬^(qū)內(nèi)向顧客或作為信息傳播輔 助設(shè)備向其它人介紹關(guān)于商品的信息（例如，商品的出售價(jià)格或關(guān)于商品的特征）而廣為 人知。其它應(yīng)用（例如，在移動電話或者在電子閱讀裝置中的"電子紙"形式中）也已知使 用電泳。對比傳統(tǒng)的"靜態(tài)"顯示器，使用電泳的顯示裝置是優(yōu)越的，因?yàn)樗鼈兛梢栽诒举|(zhì) 上為動態(tài)的，允許所顯示的信息改變無需手動介入。電泳顯示器也比其它已知的電子顯示 器（例如，背光或液晶顯示器）優(yōu)越，由于它們外形小、可讀性和柔韌性。
[0006] 復(fù)合顯示器（complex displays)(例如，涉及可選擇像素如點(diǎn)陣列或字符段的那 些）能夠要求與驅(qū)動芯片的復(fù)雜互連。如果這種互連要在單個(gè)表面上實(shí)現(xiàn)，其可以是優(yōu)越 的，必須在顯示器驅(qū)動器和顯示器元件或像素之間行經(jīng)導(dǎo)線。然而，這些導(dǎo)線能夠產(chǎn)生扭曲 由顯示元件創(chuàng)建的圖像的電場。進(jìn)一步，為了獲得具有干凈和整潔邊緣的顯示元件，在像素 邊緣和周圍金屬之間具有小缺口是優(yōu)選的。不幸運(yùn)的是，理想的缺口尺寸難以或者不可能 使用已知的低成本印刷工藝實(shí)現(xiàn)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 存在本主題的若干方面，其可以單獨(dú)或一起體現(xiàn)在下文描述或要求保護(hù)的裝置和 系統(tǒng)中。這些方面可以單獨(dú)或與在此描述的主題的其它方面聯(lián)合使用，并且一起對這些方 面的描述不是意圖排除單獨(dú)使用這些方面或者單獨(dú)或以與在此所附的權(quán)利要求所述的不 同組合要求保護(hù)這些方面。
[0008] 在一個(gè)方面中，底板被提供用于電泳顯示器中。該底板包括基膜層、印刷互連層、 包括至少一個(gè)激光形成的缺口（gap)的箔層以及顯不膜層。激光形成的缺口在箔層被施加 至一個(gè)其它層后被限定在箔層內(nèi)。.
[0009] 在另一個(gè)方面中，底板被提供用于電泳顯不器中。該底板包括基膜層、第一箔層、 第二箔層以及顯不膜層。第一箔層和第二箔層每個(gè)包括至少一個(gè)激光形成的缺口。第一箔 層的激光形成的缺口在將第二箔層施加至其它層之前被提供。第二箔層的激光形成的缺口 在將第二箔層施加至其它箔層之后被提供。
[0010] 在進(jìn)一步的方面中，方法被提供用于制造在電泳顯示器中使用的底板。該方法包 括提供基膜層并將互連層施加在該基膜層之上。箔層被施加在互連層之上并且顯示膜層被 施加在箔層之上。至少一個(gè)激光形成的缺口在箔層被施加在互連層之上后被限定在箔層 中。通過本方法，激光能夠切割箔，諸如鋁箔，而不引起對設(shè)置在后方的材料的實(shí)質(zhì)損害。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011] 圖1是根據(jù)本公開方面的電泳顯示器的俯視圖；
[0012] 圖2-5是橫斷面圖，其圖示了制造圖1的電泳顯示器的一種方法；并且
[0013] 圖6-10是橫斷面圖，其圖示了制造圖1的電泳顯示器的另一種方法。

【具體實(shí)施方式】
[0014] 如所要求的，本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】在此被公開；然而，應(yīng)該理解，所公開的實(shí)施 方式僅僅是本發(fā)明示例性的，其可以以多種形式體現(xiàn)。因此，在此公開的具體細(xì)節(jié)不被解釋 為限制性的，而僅僅是作為權(quán)利要求的基礎(chǔ)并且是作為教導(dǎo)本領(lǐng)域技術(shù)人員以實(shí)際上任意 合適的方式不同地使用本發(fā)明的代表性基礎(chǔ)。
[0015] 根據(jù)本公開的顯示裝置10由多個(gè)顯示字符12組成，其中每一個(gè)由多個(gè)單獨(dú)要素 (element)或段或像素14組成（圖1)。顯示字符12的每個(gè)要素14通過互連層16與驅(qū)動 芯片或裝置電連接?；ミB層16可以經(jīng)多種配置，例如，在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，被提供為 印刷互連層并且在另一個(gè)示例性實(shí)施方式中由箔材料組成。
[0016] 在一個(gè)實(shí)施方式中，顯示裝置10包括由多個(gè)層組成的底板18(圖5)。基膜層20 被提供，其可以由金屬材料形成并與驅(qū)動芯片或裝置（未圖示）電連接?；ミB層16被施加 在基膜層20之上（圖2)。如本文描述層之間的關(guān)系所用，術(shù)語"在……之上"不要求所描 述的層直接彼此相鄰。例如，互連層16可以被施加在基膜層20之上并直接與之相鄰（即， 與其直接物理接觸），或者可以被施加在基膜層20之上，其中一個(gè)或多個(gè)其它層或組分設(shè) 置于其之間（例如，粘合劑層或材料）。進(jìn)一步，術(shù)語"層"不是意圖限制用以構(gòu)建底板18 的多種元件的配置（例如，通過暗示平面的構(gòu)造或與相鄰層同延的邊界）。
[0017] 箔層22被施加在互連層16之上（圖2)。該箔層22可以經(jīng)多種配置，但是在一 個(gè)實(shí)施方式中，由鋁材料組成。箔層22可以被直接施加至互連層16,或者可以有其它材料 和/或?qū)?4 (圖2)被設(shè)置于互連層16和箔層22之間。例如，在一個(gè)實(shí)施方式中，箔層22 和互連層16之間的層24包含粘合劑層。在另一個(gè)實(shí)施方式中，箔層22和互連層16之間 的層24包含介電層。在又一個(gè)實(shí)施方式（圖6-10)中，箔層22被設(shè)置直接與互連層16相 鄰，其中其它手段被提供以將兩者固定在一起。例如，箔層22和互連層22可以通過沉積于 箔層22的缺口 28中的導(dǎo)電粘合劑26 (如圖4所示的，并且如將會在下文中更加詳細(xì)地描 述的），或通過壓接（crimping)操作等而保持在一起。
[0018] 在施加箔層22后，在箔層22中并且，如果存在，在粘合劑或介電層24(圖3)中切 割一個(gè)或多個(gè)激光形成的缺口以限定像素。如圖3所示，箔層22的缺口 28與粘合劑或介 電層24的缺口 30基本上對齊。通過激光形成缺口 28和30而非使用其它技術(shù)（例如，光 蝕刻），更加干凈且更加整潔的邊緣是可能的。缺口 28和30被形成而不損害下方的互連層 16。在一個(gè)實(shí)施方式中，介電層被插入在互連層16和箔層22之間，其中介電層具有合適的 性質(zhì)，用于反射用以形成缺口 28的激光能量。
[0019] 提供箔層22帶來了許多益處及優(yōu)勢。例如，箔層22保護(hù)互連層16避免不希 望的電場影響，所述電場影響能夠扭曲在顯示器上創(chuàng)建的圖像。進(jìn)一步，箔層22使燒蝕 (ablation)成為可能，因?yàn)椴瓕?2的區(qū)域可以被選擇性地用激光能量加熱（而無需蒸發(fā)箔 層22的該區(qū)域），以加熱下方的材料。例如，在箔層存在下的燒蝕可以進(jìn)行而不損害箔層之 下的紙基底，或者燒蝕可以在其它材料如印刷導(dǎo)體層或其它箔層存在下進(jìn)行。
[0020] 在又一個(gè)實(shí)施方式中，印刷絕緣體層在箔層22和互連層16之間被提供，其中印刷 絕緣體層在低于燒蝕閾值的溫度下通過箔層22進(jìn)行加熱。通過加熱印刷絕緣體層，其可以 經(jīng)歷化學(xué)反應(yīng)并充當(dāng)從箔層22表面去除氧氣的還原劑，由此建立與下方互連層16的連接。 低于燒蝕閾值的選擇性加熱箔片減少箔片表面上的氧化物形成并建立與在之前曾是絕緣 體的化學(xué)轉(zhuǎn)化層下的導(dǎo)體（例如印刷導(dǎo)體）的連接。
[0021] 在箔層22(以及粘合劑或介電層24,如果提供的話）中形成缺口的情況下，導(dǎo)電 粘合劑26可以沉積到缺口 28和30 (圖4)中，接著顯示膜層32被施加在膜層22之上（圖 5)。
[0022] 在圖6-10圖示的可選實(shí)施方式中，底板34 (圖10)由多個(gè)層組成，包括基膜層36 和施加在基膜層36之上的互連層38?；ミB層38被作為具有一個(gè)活多個(gè)激光形成的缺口 40的箔材料而提供，以限定互連（圖6)。激光形成的缺口 40在將任意其它層施加在互連 層38之上以前被限定在互連層38中，并且可以在互連層38被施加在基膜層36之上以前 或以后被限定在互連層38中。
[0023] 在互連層38中形成缺口 40的情況下，箔層42被施加在互連層38之上（圖7)。 箔層42可以被直接施加至互連層38 (圖7)，或者可以有其它材料和/或?qū)樱ɡ?，粘合?層）被設(shè)置在互連層38和箔層42之間。
[0024] 施加箔層42后，在箔層42中切割一個(gè)或多個(gè)激光形成的缺口 44 (圖8)，以限定 像素。如圖8所示，互連層38的缺口 40與箔層42的缺口 44基本上對齊。缺口 44在箔層 42中形成而不損害下方的互連層38。
[0025] 在箔層42中形成缺口 44的情況下，導(dǎo)電粘合劑46可以沉積到缺口 40和44(圖 9)中，接著顯示膜層48被施加于膜層42之上。（圖10)
[0026] 針對這兩種圖示的實(shí)施方式描述的各種方面和特征并非各自的實(shí)施方式所獨(dú)有， 而是可以與其它實(shí)施方式或任意其它使用本公開方面的底板一起使用。例如，圖5的底板 18可以被提供而不具有在互連層16和箔層22之間的粘合劑或介電層24,而圖10的底板 34可以被提供有在互連層38和箔層42之間的粘合劑或介電層。
[0027] 要理解的是，上文所描述的實(shí)施方式是本主題的原理的一些應(yīng)用的示例。大量修 改可以被本領(lǐng)域技術(shù)人員作出而不背離所請求保護(hù)的主題的精神和范圍，包括在此單獨(dú)公 開或要求保護(hù)的特征的那些組合。由于這些原因，其范圍不限于上述說明內(nèi)容而是如以下 權(quán)利要求中所述的，并且可以理解，權(quán)利要求可以涉及其特征，包括在此被單獨(dú)公開或要求 保護(hù)的特征的結(jié)合。
【權(quán)利要求】
1. 用于電泳顯不器的底板，包含： 基膜層； 印刷互連層； 包括至少一個(gè)激光形成的缺口的箔層；以及 顯示膜層，其中所述至少一個(gè)激光形成的缺口在所述箔層被施加至一個(gè)其它層后被限 定在所述猜層中。
2. 權(quán)利要求1所述的底板，進(jìn)一步包含被設(shè)置與所述印刷互連層和所述箔層相鄰的粘 合劑層。
3. 權(quán)利要求2所述的底板，進(jìn)一步包含至少一個(gè)被限定在所述粘合劑層中的激光形成 的缺口。
4. 權(quán)利要求3所述的底板，其中所述箔層的所述激光形成的缺口的至少一個(gè)與所述粘 合劑層的所述激光形成的缺口的至少一個(gè)基本上對齊。
5. 權(quán)利要求1所述的底板，進(jìn)一步包含被設(shè)置在所述箔層的所述激光形成的缺口的至 少一個(gè)中的導(dǎo)電粘合劑。
6. 權(quán)利要求1所述的底板，進(jìn)一步包含被設(shè)置與所述印刷互連層和所述箔層相鄰的介 電層。
7. 權(quán)利要求6所述的底板，進(jìn)一步包含至少一個(gè)被限定在所述介電層中的激光形成的 缺口。
8. 用于電泳顯不器的底板，包含： 基膜層； 第一箔層； 第二箔層；以及 顯示膜層，其中所述第一箔層和第二箔層每個(gè)包括至少一個(gè)激光形成的缺口，所述第 一箔層的所述至少一個(gè)激光形成的缺口在將所述第二箔層施加至其它層以前被提供，并且 所述第二箔層的所述至少一個(gè)激光形成的缺口在將所述第二箔層施加至其它層以后被提 供。
9. 權(quán)利要求8所述的底板，其中所述第一箔層的所述激光形成的缺口的至少一個(gè)與所 述第二箔層的所述激光形成的缺口的至少一個(gè)基本上對齊。
10. 制造用于電泳顯示器的底板的方法，包括： 提供基膜層； 將互連層施加在所述基膜層之上； 將箔層施加在所述互連層之上； 將顯示膜層施加在所述箔層之上；以及 在所述將箔層施加在所述互連層之上以后，在所述箔層中限定至少一個(gè)激光形成的缺 □。
11. 權(quán)利要求10所述的方法，其中所述將互連層施加在所述基膜層之上包括施加印刷 互連層。
12. 權(quán)利要求10所述的方法，其中所述將互連層施加在所述基膜層之上包括施加箔互 連層。
13. 權(quán)利要求12所述的方法，進(jìn)一步包括在所述將箔層施加在所述互連層之上以前在 所述箔互連層中限定至少一個(gè)激光形成的缺口。
14. 權(quán)利要求10所述的方法，進(jìn)一步包括與所述互連層和所述箔層相鄰施加粘合劑 層。
15. 權(quán)利要求14所述的方法，進(jìn)一步包括在所述粘合劑層中限定至少一個(gè)激光形成的 缺口。
16. 權(quán)利要求14所述的方法，進(jìn)一步包括以與所述箔層的所述激光形成的缺口的至少 一個(gè)基本上對齊的方式在所述粘合劑層中限定至少一個(gè)激光形成的缺口。
17. 權(quán)利要求10所述的方法，進(jìn)一步包括在所述箔層的所述激光形成的缺口的至少一 個(gè)中施加導(dǎo)電粘合劑。
18. 權(quán)利要求10所述的方法，進(jìn)一步包括與所述互連層和所述箔層相鄰施加介電層。
19. 權(quán)利要求18所述的方法，進(jìn)一步包括在所述介電層中限定至少一個(gè)激光形成的缺 □。
20. 權(quán)利要求18所述的方法，進(jìn)一步包括以與所述箔層的所述激光形成的缺口的至少 一個(gè)基本上對齊的方式在所述介電層中限定至少一個(gè)激光形成的缺口。
【文檔編號】G02F1/167GK104094170SQ201280068469
【公開日】2014年10月8日 申請日期:2012年11月30日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月1日
【發(fā)明者】I·J·福斯特 申請人:艾利丹尼森公司