產(chǎn)生輔助圖案的方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種產(chǎn)生輔助圖案的方法。提供多個主圖案。由主圖案中選擇第一主圖案，在其周圍配置多個規(guī)則導(dǎo)向圖案。在第一主圖案周圍產(chǎn)生模式導(dǎo)向圖案。從規(guī)則導(dǎo)向圖案中提取出與模式導(dǎo)向圖案重疊率達到一目標值的重疊布林圖案。以重疊布林圖案作為輔助圖案，輔助圖案與第一主圖案組成轉(zhuǎn)印圖案。此種方法大幅地降低直接以模式導(dǎo)向圖案形成輔助圖案的計算時間，或大幅地增加直接以規(guī)則導(dǎo)向圖案形成輔助圖案的正確性。
【專利說明】產(chǎn)生輔助圖案的方法【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是有關(guān)于一種圖案的產(chǎn)生方法，且特別是有關(guān)于一種產(chǎn)生輔助圖案的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在集成電路蓬勃發(fā)展的今日，元件縮小化與集成化是必然的趨勢，也是各界積極發(fā)展的重要課題。而集成電路的制造過程中，微影步驟則為決定元件性能的重要關(guān)鍵。隨著集成度(degree of integration)的逐漸提高,元件尺寸逐漸縮小，元件與元件之間的距離也必須縮小，因此造成在微影步驟中圖案轉(zhuǎn)印產(chǎn)生偏差(Deviation)。例如，當個罩幕的圖案利用微影步驟轉(zhuǎn)印到大晶片(wafer)上的膜層時，常會發(fā)生圖案中角度被鈍化、圖案的尾端收縮、以及線寬的減小或增大等。這也就是所謂的光學(xué)接近度效應(yīng)(OpticalProximity Effect,簡稱ΟΡΕ)。這些偏差在元件尺寸較大、或集成度較低的情形下,不致產(chǎn)生太大的負面效果，然而，在高集成度的集成電路中，便嚴重影響到元件的效能。例如，在高集成度的集成電路中，元件和元件的距離很小。因此，當轉(zhuǎn)印到大晶片上的圖案線寬脹膨時，極有可能產(chǎn)生局部的圖案重疊，從而造成短路現(xiàn)象。
[0003]因此，在高集成度的集成電路中，采用光學(xué)接近校正法(Optical ProximityCorrect,簡稱0PC)以解決光學(xué)接近度效應(yīng)的問題。光學(xué)接近校正法利用例如規(guī)則導(dǎo)向及模式導(dǎo)向的方式在光罩上產(chǎn)生輔助圖案。在微影制程中，輔助圖案可對微影制程所使用光產(chǎn)生破壞性干涉，從而在曝光后在基底上產(chǎn)生正確的圖案。然而，現(xiàn)今的模式導(dǎo)向所產(chǎn)生的輔助圖案，大部分為經(jīng)程序計算后所得的極度精密的圖案。因此，模式導(dǎo)向需花費很長時間才能計算出正確的輔助圖案。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此，本發(fā)明提供一種產(chǎn)生輔助圖案的方法，可大幅地降低直接以模式導(dǎo)向計算正確的輔助圖案的時間。
[0005]本發(fā)明提供一種產(chǎn)生輔助圖案的方法。提供多個主圖案。在主圖案中選擇第一主圖案。在第一主圖案周圍配置多個規(guī)則導(dǎo)向圖案。在第一主圖案周圍產(chǎn)生模式導(dǎo)向圖案。從上述規(guī)則導(dǎo)向圖案中提取出重疊布林圖案，重疊布林與模式導(dǎo)向圖案重疊率達到目標值。以重疊布林圖案作為輔助圖案，此輔助圖案與第一主圖案組成轉(zhuǎn)印圖案。
[0006]在本發(fā)明的一實施例中，上述規(guī)則導(dǎo)向圖案的圖形輪廓是由模擬軟件來決定。
[0007]在本發(fā)明的一實施例中，上述產(chǎn)生輔助圖案的方法，還包括在第一主圖案以外的其他的各主圖案周圍形成輔助圖案。
[0008]在本發(fā)明的一實施例中，上述規(guī)則導(dǎo)向圖案彼此緊鄰。
[0009]在本發(fā)明的一實施例中，上述轉(zhuǎn)印圖案寫在罩幕上。
[0010]在本發(fā)明的一實施例中，上述罩幕為光罩。 [0011]在本發(fā)明的一實施例中，上述光罩用于正光阻或負光阻的圖案化制程中。[0012]在本發(fā)明的一實施例中，上述的輔助圖案包括散射條。
[0013]在本發(fā)明的一實施例中，上述轉(zhuǎn)印圖案匯入于寫入設(shè)備中。
[0014]在本發(fā)明的一實施例中，上述寫入設(shè)備包括光罩寫入設(shè)備。
[0015]基于上述，本發(fā)明提供的產(chǎn)生輔助圖案的方法，可預(yù)先分布的多個規(guī)則導(dǎo)向圖案作為基礎(chǔ)。接著，再利用模式導(dǎo)向圖案通過比對的方式以從規(guī)則導(dǎo)向圖案提取出重疊布林圖案。此種方法大幅地降低了直接以模式導(dǎo)向計算出正確輔助圖案的時間，以更有效率地方式得到所需的輔助圖案。
[0016]為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉實施例，并配合附圖作詳細說明如下。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1A至圖1F為根據(jù)本發(fā)明一實施例所示出的輔助圖案的產(chǎn)生方法的示意圖；
[0018]圖2為一種圖案轉(zhuǎn)印的流程圖；
[0019]圖3為本發(fā)明一實施例的一種圖案化制程的示意圖。
[0020]附圖標記說明:
[0021]10、12、14:步驟;
[0022]100:主圖案；
[0023]100a:第一主圖案；
[0024]110:規(guī)則導(dǎo)向圖案；
[0025]IlOa:重疊布林圖案；
[0026]120:模式導(dǎo)向圖案；
[0027]130:輔助圖案；
[0028]140:轉(zhuǎn)印圖案；
[0029]200:光罩主圖案；
[0030]210:罩幕；
[0031]230:光罩輔助圖案；
[0032]240:光罩轉(zhuǎn)印圖案；
[0033]300:基底；
[0034]310:光阻；
[0035]320:圖案。
【具體實施方式】
[0036]圖1A至圖1F為根據(jù)本發(fā)明一實施例所示出的輔助圖案的產(chǎn)生方法的示意圖。
[0037]首先，請參照圖1A，提供多個主圖案100。各個主圖案100例如是存儲器陣列中的圖案，但本發(fā)明并不以此為限。多個主圖案100的排列方式并無特別限制。雖然在本實施例中，以主圖案100為矩形來說明，但本發(fā)明的主圖案100的形狀不以此為限。在其他實施例中，主圖案100可為圓形、三角形或其他適于轉(zhuǎn)印的任何圖案。換言之，本發(fā)明不限制主圖案的形狀及其排列方式。
[0038]請再參照圖1B，由上述的多個主圖案100中選擇第一主圖案100a，并在其周圍配置多個規(guī)則導(dǎo)向圖案110。規(guī)則導(dǎo)向圖案110的圖形輪廓可以由模擬軟件來決定。各個規(guī)則導(dǎo)向圖案110的輪廓可以相同或相異。各個規(guī)則導(dǎo)向圖案110的尺寸可以相同或相異。各個規(guī)則導(dǎo)向圖案110可以給定簡單規(guī)則，以自動化的方式布于第一主圖案IOOa周圍。各個規(guī)則導(dǎo)向圖案110可以自動化產(chǎn)生，從而減少人為判斷。上述簡單規(guī)則包括各個規(guī)則導(dǎo)向圖案110的長度、寬度、方向等。在一實施例中，各個規(guī)則導(dǎo)向圖案的寬度約為I納米。在另一實施例中，各個規(guī)則導(dǎo)向圖案的寬度約為0.5納米。然而，本發(fā)明并不以此為限。
[0039]此外，雖然在本實施例中，多個規(guī)則導(dǎo)向圖案110彼此緊鄰，但本發(fā)明不以此為限。在另一實施例中，多個規(guī)則導(dǎo)向圖案110可彼此分離以減少規(guī)則導(dǎo)向圖案110的數(shù)量。也就是說，規(guī)則導(dǎo)向圖案110的數(shù)量及排列方式可視需要而定，其可以任何數(shù)量存在并可以任何方式排列。
[0040]請再參照圖1C，在所選擇的第一主圖案IOOa周圍產(chǎn)生模式導(dǎo)向圖案120。模式導(dǎo)向圖案120包括以任何適合的圖案計算程序所產(chǎn)生的圖形輪廓。模式導(dǎo)向圖案120的計算方式應(yīng)考慮圖案轉(zhuǎn)印時所導(dǎo)入的曝光光線的波長、曝光機的機型及所需轉(zhuǎn)印的圖案的節(jié)點等多項因素。相較于規(guī)則導(dǎo)向圖案110而言，模式導(dǎo)向圖案120更接近所需輔助圖案。然而這些所需考慮的多項因素，將使得程序?qū)虻膱D案的計算方程變得繁瑣復(fù)雜。在本發(fā)明中，并不限制任何模式導(dǎo)向圖案120的計算方法或計算方法使用的程序。
[0041]請再參照圖1D，判斷上述多個規(guī)則導(dǎo)向圖案110中是否具有與上述模式導(dǎo)向圖案120重疊率達到一目標值的重疊布林圖案(Overlap Boolean Pattern) 110a。當前述規(guī)則導(dǎo)向圖案110中無任何一圖案與模式導(dǎo)向圖案120的重疊率達到上述目標值時，則改變規(guī)則導(dǎo)向圖案110的物理量，例如是縮小規(guī)則導(dǎo)向圖案的寬度，或是改變規(guī)則導(dǎo)向圖案的長度或形狀，而重新在第一主圖案IOOa周圍重新配置尺寸不同的其他多個規(guī)則導(dǎo)向圖案110，直到可以得到與上述模式導(dǎo)向圖案120重疊率達到上述目標值的重疊布林圖案110a。前述的目標值可以依照實際的需要來設(shè)定。前述目標值例如是50%?100%。在一實施例中，前述目標值例如是70%以上。在另一實施例中，前述目標值例如是80%以上。在又一實施例中，前述目標值例如是90%以上。在本實施例的圖式中，重疊布林圖案IlOa為與模式導(dǎo)向圖案120完全重疊的規(guī)則導(dǎo)向圖案110，但本發(fā)明并不以此為限。
[0042]請再參照圖1E，從規(guī)則導(dǎo)向圖案110提取出重疊布林圖案110a，以作為輔助圖案130。輔助圖案130與第一主圖案IOOa構(gòu)成轉(zhuǎn)印圖案140。重疊布林圖案IlOa的提取方式包括利用程序選出與模式導(dǎo)向圖案120重疊率達到上述目標值的對應(yīng)的規(guī)則導(dǎo)向圖案110。此外，當本發(fā)明轉(zhuǎn)印圖案140應(yīng)用于光罩制作過程時，輔助圖案130包括散射條(Scattering Bar)。
[0043]請再參照圖1F，在其他主圖案100周圍形成輔助圖案130，以形成多個轉(zhuǎn)印圖案140。
[0044]通過上述方法，僅需在多個主圖案中選出一個主圖案來產(chǎn)生模式導(dǎo)向圖案，不需要在每一個主圖案周圍產(chǎn)生模式導(dǎo)向圖案，因此可以節(jié)省在每一個主圖案周圍產(chǎn)生模式導(dǎo)向圖案所需的運算時間，以較有效率的方式形成多個轉(zhuǎn)印圖案。而且，可以依據(jù)實際的需要來設(shè)定所欲提取的重疊布林圖案與上述模式導(dǎo)向圖案的重疊率目標值。當所設(shè)定的目標值較高時，可以得到幾乎媲美模式導(dǎo)向圖案作為輔助圖案的準確度，因此可以增加制程裕度(Process Window)。[0045]圖2為一種圖案轉(zhuǎn)印的流程圖。圖3為本發(fā)明一實施例的一種圖案化制程的示意圖。
[0046]請參照圖2與圖3，轉(zhuǎn)印圖案140完成后，將其匯入寫入設(shè)備中(步驟10)。寫入設(shè)備包括光罩寫入設(shè)備。接著，進行步驟12，利用電子束或雷射，將寫入設(shè)備中的轉(zhuǎn)印圖案140寫入罩幕210中，在罩幕210上形成多個光罩轉(zhuǎn)印圖案240。各光罩轉(zhuǎn)印圖案240具有光罩主圖案200及光罩輔助圖案230。上述罩幕210例如為光罩。接著，將罩幕210應(yīng)用于圖案化制程，例如是進行微影制程。將罩幕210上光罩轉(zhuǎn)印圖案240中的光罩主圖案200移轉(zhuǎn)于涂覆在基底300上的光阻310中，以在光阻310中形成圖案320 (步驟14)。光阻310包括正光阻或負光阻。通過罩幕210上的光罩輔助圖案230的輔助，罩幕210上的光罩主圖案200可以更準確地移轉(zhuǎn)在光阻310中，在光阻310中形成所需的圖案320。
[0047]綜上所述，在本發(fā)明中，預(yù)先在主圖案周圍配置規(guī)則導(dǎo)向圖案，并利用較為精密的模式導(dǎo)向圖案以提取重疊布林圖案。接著，將重疊布林圖案作為輔助圖案并適當?shù)嘏渲糜谄渌鲌D案周圍。此種方法將大幅地降低直接以模式導(dǎo)向圖案形成輔助圖案的計算時間，或大幅地增加直接以規(guī)則導(dǎo)向圖案形成輔助圖案的正確性。
[0048]最后應(yīng)說明的是:以上各實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對其限制；盡管參照前述各實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當理解:其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術(shù)特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術(shù)方案的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種產(chǎn)生輔助圖案的方法，其特征在于，包括: 提供多個主圖案； 由上述主圖案中選擇第一主圖案； 在上述第一主圖案周圍配置多個規(guī)則導(dǎo)向圖案； 在上述第一主圖案周圍產(chǎn)生模式導(dǎo)向圖案；以及 從上述規(guī)則導(dǎo)向圖案中提取出一重疊布林圖案，上述重疊布林圖案與上述模式導(dǎo)向圖案重疊率達到目標值，以上述重疊布林圖案作為輔助圖案，上述輔助圖案與上述第一主圖案組成轉(zhuǎn)印圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生輔助圖案的方法，其特征在于，上述規(guī)則導(dǎo)向圖案的圖形輪廓是由模擬軟件來決定。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生輔助圖案的方法，其特征在于，還包括在其他的上述主圖案周圍形成上述輔助圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生輔助圖案的方法，其特征在于，上述規(guī)則導(dǎo)向圖案彼此緊鄰。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生輔助圖案的方法，其特征在于，上述轉(zhuǎn)印圖案寫在罩幕上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的產(chǎn)生輔助圖案的方法，其特征在于，上述罩幕為光罩。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的產(chǎn)生輔助圖案的方法，其特征在于，上述光罩用于正光阻或負光阻的圖案化制程中。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生輔助圖案的方法，其特征在于，上述輔助圖案包括散射條。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生輔助圖案的方法，其特征在于，上述轉(zhuǎn)印圖案匯入于寫入設(shè)備中。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的產(chǎn)生輔助圖案的方法，其特征在于，上述寫入設(shè)備包括光罩寫入設(shè)備。
【文檔編號】G03F1/38GK103676462SQ201310146995
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年4月25日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月14日
【發(fā)明者】陳述豪 申請人:南亞科技股份有限公司