電子照相圖像形成方法及電子照相圖像形成裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種調(diào)色劑的轉(zhuǎn)印效率高、不產(chǎn)生有機(jī)感光體表面的傷引起的圖像污染、在高濕環(huán)境下也不產(chǎn)生圖像模糊的電子照相圖像形成方法及電子照相圖像形成裝置。一種電子照相圖像形成方法，其使用有機(jī)感光體，至少具有帶電工序、曝光工序、顯影工序、轉(zhuǎn)印工序及清潔工序，其特征在于，該有機(jī)感光體在導(dǎo)電性支撐體上具有感光層和保護(hù)層，該保護(hù)層含有將聚合性化合物聚合而得到的樹脂和金屬氧化物粒子及下述通式(1)表示的化合物，且該顯影工序?yàn)槭褂煤袛?shù)均一次粒徑在70～150nm的范圍內(nèi)的二氧化硅粒子的調(diào)色劑的顯影工序。[化學(xué)式1]通式(1)。
【專利說(shuō)明】電子照相圖像形成方法及電子照相圖像形成裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種電子照相圖像形成方法及電子照相圖像形成裝置。更詳細(xì)而言，涉及一種調(diào)色劑的轉(zhuǎn)印效率高、不會(huì)因?yàn)橛袡C(jī)感光體表面的損傷引起圖像污染、在高濕環(huán)境下也不產(chǎn)生圖像模糊的電子照相圖像形成方法及電子照相圖像形成裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái)，電子照相感光體廣泛使用含有有機(jī)光導(dǎo)電性物質(zhì)的有機(jī)感光體。相對(duì)于無(wú)機(jī)系的感光體，有機(jī)感光體具有如下優(yōu)點(diǎn):容易開發(fā)出適用于從可見光至紅外光的各種曝光光源的材料；可以選擇沒有環(huán)境污染的材料；制造成本低廉等。
[0003]另一方面，電子照相感光體(以下也稱為“感光體”)通過(guò)帶電、曝光、顯影、轉(zhuǎn)印及清潔等直接接受電氣或機(jī)械的外力，因此，要求即使重復(fù)進(jìn)行圖像形成，也能夠穩(wěn)定地維持帶電穩(wěn)定性、電位保持性等的耐久性。
[0004]為了提高感光體的耐久性，提出了在感光體表面設(shè)置保護(hù)層(以下也稱為“表面層”)而使機(jī)械強(qiáng)度提高的技術(shù)。
[0005]在日本特開平11-288121號(hào)公報(bào)中提出了如下技術(shù):在感光體保護(hù)層中通常使用被稱為固化性化合物的聚合性化合物并進(jìn)行涂敷之后，進(jìn)行聚合反應(yīng)，由此制作對(duì)于清潔刮板等摩擦引起的表面磨損及損傷的耐久性高的感光體。另外，在日本特開2002-333733號(hào)公報(bào)中提出了使二氧化硅等金屬氧化物微粒分散于保護(hù)層，使機(jī)械強(qiáng)度提高的技術(shù)。
[0006]但是，存在如下問(wèn)題:在感光層的上面設(shè)置保護(hù)層時(shí)，保護(hù)層的電荷傳輸性能差，因此，與沒有保護(hù)層的電子照相感光體相比，作為電子照相感光體的靈敏度特性降低。為了解決該問(wèn)題，公開了得到耐磨損性優(yōu)異、且具有電荷傳輸能力的保護(hù)層的技術(shù)。例如，在日本特開2010-164646號(hào)公報(bào)中公開了使具有電荷傳輸功能的自由基聚合性化合物、不具有電荷傳輸功能的自由基聚合性化合物和用具有聚合性官能團(tuán)(也稱為聚合性反應(yīng)基團(tuán))的表面處理劑進(jìn)行了處理的金屬氧化物粒子進(jìn)行固化反應(yīng)得到保護(hù)層的技術(shù)。但是，在組合有具有電荷傳輸功能的自由基聚合性化合物和金屬氧化物粒子的技術(shù)中，雖然某種程度上可以期待耐磨損性提高效果，但是，電荷傳輸性能不充分。還存在如下問(wèn)題:通過(guò)帶電、曝光等重復(fù)，由于蓄積于感光體表面的氮氧化物等放電生成物等，在高濕環(huán)境下產(chǎn)生圖像模糊。
[0007]另一方面，已知在用于電子照相圖像形成的調(diào)色劑中通常出于提高調(diào)色劑的流動(dòng)性及控制帶電性的目的而添加無(wú)機(jī)微粒及有機(jī)微粒等添加劑(也稱為外添劑)。在日本特開2012-88420號(hào)公報(bào)中公開的技術(shù)具有如下優(yōu)點(diǎn):將粒徑比較大的大粒徑二氧化硅用作外添劑時(shí)，可以降低調(diào)色劑和感光體的接觸面積，因此，可以大大提高調(diào)色劑的轉(zhuǎn)印性。
[0008]但是，存在如下問(wèn)題:由于與調(diào)色劑的固著強(qiáng)度也低，所以，在感光體表面容易轉(zhuǎn)移，因此，大粒徑二氧化硅會(huì)堆積在清潔刮板上并在感光體表面產(chǎn)生傷痕、或容易產(chǎn)生偏磨損。

【發(fā)明內(nèi)容】
[0009]本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題、狀況而完成的發(fā)明，其目的在于，提供一種調(diào)色劑的轉(zhuǎn)印效率高、不產(chǎn)生有機(jī)感光體表面的損傷引起的圖像污染、在高濕環(huán)境下也不產(chǎn)生圖像模糊的電子照相圖像形成方法及電子照相圖像形成裝置。
[0010]本發(fā)明人在為了實(shí)現(xiàn)上述目的對(duì)上述問(wèn)題的原因等進(jìn)行研究的過(guò)程中發(fā)現(xiàn):通過(guò)采用如下電子照相圖像形成方法，即，有機(jī)感光體具有保護(hù)層，且該方法具有使用含有數(shù)均一次粒徑在70~150nm范圍內(nèi)的二氧化硅粒子(以下,有時(shí)稱為“大粒徑二氧化硅粒子”)的調(diào)色劑的顯影工序，調(diào)色劑的轉(zhuǎn)印效率高，不會(huì)因?yàn)橛袡C(jī)感光體表面的損傷引起圖像污染，在高濕環(huán)境下也可以抑制圖像模糊的產(chǎn)生，直至完成了本發(fā)明。
[0011]即，為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的上述目的中的至少之一，反映了本發(fā)明的一方面的電子照相圖像形成方法為如下電子照相圖像形成方法:該方法使用有機(jī)感光體，至少具有帶電工序、曝光工序、顯影工序、轉(zhuǎn)印工序及清潔工序，其特征在于，
[0012]該有機(jī)感光體在導(dǎo)電性支撐體上至少具有感光層和保護(hù)層，該保護(hù)層含有將聚合性化合物進(jìn)行聚合而得到的樹脂、金屬氧化物粒子以及下述通式(I)表示的化合物，且該顯影工序是使用含有二氧化硅粒子的調(diào)色劑的顯影工序，所述二氧化硅粒子數(shù)的均一次粒徑在70~150nm的范圍內(nèi)。
[0013][化學(xué)式I]
[0014]通式(I)
【權(quán)利要求】
1.一種電子照相圖像形成方法，該方法使用有機(jī)感光體，并至少具有帶電工序、曝光工序、顯影工序、轉(zhuǎn)印工序及清潔工序,其中， 該有機(jī)感光體在導(dǎo)電性支撐體上至少具有感光層和保護(hù)層， 該保護(hù)層含有將聚合性化合物進(jìn)行聚合而得到的樹脂、金屬氧化物粒子以及下述通式(I)表示的化合物，并且，該顯影工序是使用含有二氧化硅粒子的調(diào)色劑的顯影工序，所述二氧化硅粒子的數(shù)均一次粒徑在70~150nm范圍內(nèi)， [化學(xué)式I] 通式(I)
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相圖像形成方法，其中，所述金屬氧化物粒子為氧化錫粒子。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的電子照相圖像形成方法，其中，所述金屬氧化物粒子的數(shù)均一次粒徑在3~IOOnm范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相圖像形成方法，其中，所述金屬氧化物粒子通過(guò)具有自由基聚合性官能團(tuán)的硅烷偶聯(lián)劑實(shí)施了表面處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相圖像形成方法，其中，所述通式(I)中的R1及R2相互不同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相圖像形成方法，其中，所述通式(I)表示的化合物的添加量相對(duì)于聚合性化合物100質(zhì)量份在5~50質(zhì)量份的范圍內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相圖像形成方法，其中，在將所述聚合性化合物進(jìn)行聚合時(shí)使用的聚合引發(fā)劑為烷基苯酮化合物或氧化膦化合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子照相圖像形成方法，其中，所述聚合引發(fā)劑為具有?；趸⒔Y(jié)構(gòu)的引發(fā)劑。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相圖像形成方法，其中，所述調(diào)色劑含有苯乙烯-丙烯酸類改性聚酯樹脂。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相圖像形成方法，其中，所述二氧化硅粒子的添加量相對(duì)于調(diào)色劑基體粒子100質(zhì)量份在0.7~3.0質(zhì)量份的范圍內(nèi)。
11.一種電子照相圖像形成裝置，其至少具有有機(jī)感光體、帶電裝置部、曝光裝置部、顯影裝置部、轉(zhuǎn)印裝置部及清潔裝置部，其中， 該有機(jī)感光體在導(dǎo)電性支撐體上具有感光層和保護(hù)層，該保護(hù)層含有將聚合性化合物聚合而得到的樹脂、金屬氧化物粒子以及下述通式(I)表示的化合物，且該顯影裝置部是使用含有二氧化硅粒子的調(diào)色劑的顯影裝置部，所述二氧化硅粒子的數(shù)均一次粒徑在70~150nm的范圍內(nèi)， [化學(xué)式2] 通式(I)
【文檔編號(hào)】G03G5/00GK103777479SQ201310480420
【公開日】2014年5月7日 申請(qǐng)日期:2013年10月15日 優(yōu)先權(quán)日:2012年10月18日
【發(fā)明者】藤田俊行, 小西麻理 申請(qǐng)人:柯尼卡美能達(dá)株式會(huì)社