配向層組及其制造方法、基板和顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及液晶顯示【技術領域】，特別是一種配向層組及其制造方法、基板和顯示裝置；所述配向層組包括摩擦配向層和光配向層，所述摩擦配向層和光配向層沿遠離基板上表面的方向依次設置在該基板的上表面；所述摩擦配向層和所述光配向層的取向一致。本發(fā)明采用光配向層與摩擦配向層相結合的結構，通過光配向層掩蓋摩擦配向層中產生的不良，利用摩擦配向層的強錨定能補償光配向層錨定能弱的不足，實現同時提高液晶面板對比度和抑制殘像的產生，達到提高液晶面板顯示品質的目的。
【專利說明】配向層組及其制造方法、基板和顯示裝置【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術領域】，特別是一種配向層組及其制造方法、基板和顯示裝置?！颈尘凹夹g】
[0002]液晶顯示器已被廣泛應用于各種電子產品中，液晶面板主要構成元件包括兩個相對設置的基板，一夾在該兩個基板之間的液晶層；在液晶層的兩側設置有配向層，配向層分別設置在所述兩個基板相對的內表面上。配向膜的作用是使液晶分子產生取向，實現顯示功能。
[0003]現有的取向技術中，應用最廣泛的是摩擦取向技術。摩擦取向技術可以產生較好的取向效果，但也同樣存在無法避免的缺陷。以ADS模式(ADvanced Super DimensionSwitch,高級超維場轉換技術)液晶面板為例，基板表面有很多微結構，這些結構的邊緣在摩擦取向工藝中不能被摩擦布上的絨毛摩擦到，存在摩擦陰影區(qū)，造成這些區(qū)域的取向不良；摩擦取向工藝會在配向層表面的部分區(qū)域有過度摩擦，導致Rubbing mura (摩擦痕跡)的缺陷。Rubbing mura的技術缺陷在摩擦工藝中形成,在ADS模式液晶面板中,會導致順著摩擦方向的線狀視覺不良，會造成液晶面板中的液晶取向不良，導致漏光。另外，這些微結構也對摩擦布有一定的損壞，其碎屑掉落在基板表面，成為異物，嚴重影響顯示品質。
[0004]在新取向技術中，光配向技術最顯著，其能使液晶分子層產生均勻的取向。在工藝過程中，光源設備不與顯示器件基板接觸，能夠很好的避免劃傷、異物、取向陰影區(qū)等不良因素，顯著提高顯示品質。但是光配向技術也有缺點，其錨定能弱，容易產生殘像。殘像是指液晶顯示器長時間顯示一幅畫面后，再顯示其他畫面時，殘留下來的上一個顯示畫面輪廓。殘像也是決定顯示器件品質的一項重要因素。
[0005]為了解決以上問題，本發(fā)明做了有益改進。

【發(fā)明內容】

[0006](一)要解決的技術問題
[0007]本發(fā)明的目的是提供一種可消除因光配向技術中錨定能低造成的殘像，并可提高顯示性能的配向層組及其制造方法、基板和顯示裝置。
[0008](二)技術方案
[0009]本發(fā)明是通過以下技術方案實現的:一種配向層組，所述配向層組包括摩擦配向層和光配向層，所述摩擦配向層和光配向層沿遠離基板上表面的方向依次設置在該基板的上表面；所述摩擦配向層和所述光配向層的取向角度一致。
[0010]其中，所述摩擦配向層和所述光配向層的材料具有相同的極性。
[0011]進一步，所述摩擦配向層的材質為聚酰亞胺、聚苯乙烯和聚丙烯酸酯三種材料中的一種。
[0012]再進一步，所述光配向層的材料為光取向聚合物。
[0013]其中，所述光取向聚合物為肉桂?；牧稀⒉槎牧?、香豆素基材料或偶氮基材料。
[0014]進一步，所述光配向層的厚度小于所述摩擦配向層的厚度。
[0015]優(yōu)選地，所述光配向層厚度范圍為200-500 A,
[0016]優(yōu)選地，所述摩擦配向層的厚度范11.;丨為600-1000 A。
[0017]本發(fā)明還提供一種基板，所述基板的上表面設置有上述任一項所述的配向層組。
[0018]本發(fā)明還提供一種顯示裝置，包括如上任一項所述的配向層組。
[0019]本發(fā)明還提供一種配向層組的制造方法，包括以下步驟:
[0020]在基板上表面形成摩擦配向層，然后在所述摩擦配向層上形成與該摩擦配向層取向角度一致的光配向層。
[0021]其中，所述摩擦配向層的形成方法具體包括以下步驟:
[0022]在基板的上表面形成第一配向膜
[0023]采用摩擦取向工藝使所述第一配向膜形成取向角度；
[0024]清洗所述第一配向層，并進行干燥，得到摩擦配向層。
[0025]進一步，所述摩擦取向工藝具體包括以下步驟:
[0026]使所述基板與摩擦輥接觸；
[0027]所述摩擦輥旋轉，并沿設定角度在所述基板表面行進，在所述第一配向膜表面形成取向角度。
[0028]其中，所述光配向層的形成方法具體包括以下步驟:
[0029]在所述摩擦配向層表面形成第二配向膜；
[0030]通過光取向工藝使所述第二配向膜形成取向角度，得到光配向層。
[0031]進一步，所述光取向工藝具體方法為:采用偏振紫外光源照射所述第二配向膜，使該第二配向膜形成取向角度。
[0032]其中，所述偏振紫外光源的波長為200_400nm，能量為0.7-2J/cm2。
[0033](三)有益效果
[0034]與現有技術和產品相比，本發(fā)明有如下優(yōu)點:
[0035]1.本發(fā)明通過結合摩擦配向技術和光配向技術，通過摩擦配向層和所述光配向層取向一致的設置，使摩擦配向層與光配向層能夠相結合使用；將光配向層覆蓋在摩擦配向層上，通過光配向層掩蓋摩擦配向膜上在摩擦取向工藝中產生的劃傷、異物、取向陰影區(qū)等不良，利用摩擦配向層的強錨定能補償光配向層錨定能弱的不足，實現同時提高對比度和抑制殘像的廣生，達到提聞液晶面板顯不品質的目的；
[0036]2.本發(fā)明提供的配向層組的制造方法中，采用照射偏振紫外光處理光配向膜的工藝，所得光配向層能夠降低摩擦配向層導致的液晶漏光對液晶面板顯示效果的影響，提高液晶顯示面板對比度及顯示品質。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0037]圖1是本發(fā)明提供的液晶面板結構示意圖；
[0038]圖2是本發(fā)明提供的配向層組的制造方法示意框圖；
[0039]圖3是本發(fā)明的摩擦配向層制程中，條形電極與第一配向膜的取向角度的位置關系圖。[0040]附圖中，各標號所代表的組件列表如下:
[0041]10、陣列基板；20、彩膜基板；301、下摩擦配向層；302、下光配向層；311、上摩擦配向層；312、上光配向層；40、液晶層；50、第一配向膜；60、條形電極的投影。
【具體實施方式】
[0042]下面結合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】做一個詳細的說明。
[0043]本實施例提供一種配向層組，所述配向層組包括摩擦配向層和光配向層，所述摩擦配向層和光配向層沿遠離基板上表面的方向依次設置在該基板的上表面；所述摩擦配向層和所述光配向層的取向一致。
[0044]如圖1所示，一種液晶顯示面板應用了上述的配向層組，其彩膜基板和陣列基板上分別設置有上述的配向層組。具體地，所述顯示面板包括彩膜基板20、與彩膜基板20相對配置的陣列基板10和設置在彩膜基板20與陣列基板10之間的液晶層40，彩膜基板20內表面設有配向層組，該配向層組包括上摩擦配向層311和上光配向層312 ;具體地，彩膜基板20內表面沿遠離彩膜基板20的方向依次設置有上摩擦配向層311和上光配向層312 ；同樣地，陣列基板內表面設有配向層組，該配向層組包括下光配向層302和下摩擦配向層301 ;具體地，陣列基板10內表面沿遠離該陣列基板10的方向依次設置有下光配向層302和下摩擦配向層301 ;其中，上摩擦配向層311和上光配向層312的取向一致，且下光配向層302和下摩擦配向層301取向一致。
[0045]本實施例中，陣列基板或彩膜基板表面都包括上述的配向層組。配向層組結合了摩擦取向工藝和光取向工藝的技術特點，既能消除配向層因摩擦取向技術產生的劃傷、異物、陰影區(qū)、Rubbing mura等不良對液晶面板顯示效果的影響，還能消除因光配向技術中錨定能低而造成液晶面板產生殘像的問題。
[0046]優(yōu)選地，摩擦配向層和光配向層所選取的兩種取向材料具有相同的極性，使摩擦配向層和光配向層之間減少排斥，從而使二者粘接得更為牢固。
[0047]優(yōu)選地，所述摩擦配向層的材料采用聚酰亞胺、聚苯乙烯和聚丙烯酸酯三種材料中的一種；
[0048]優(yōu)選地，光配向層的材料為光取向聚合物；進一步，采用的光取向聚合物材料為肉桂酰基材料、查耳酮基材料、香豆素基材料或偶氮基材料中的一種。
[0049]優(yōu)選地，光配向層的厚度小于摩擦配向層的厚度，更優(yōu)選地，摩擦配向層的厚度范
圍為600-1000A,光配向層的厚度范圍為200-500人。需要說明的是，光配向層的厚度小于摩擦配向層的厚度，是因為光配向層覆蓋在摩擦配向層上，如果光配向層的厚度太大會阻礙摩擦配向層發(fā)揮作用，當光配向層的厚度為小于200 A時，光配向層不能有效掩蓋摩
擦配向層的不良，當光配向層的厚度為大于500 A時，會大大削弱摩擦配向層的錨定作用，
因此，優(yōu)選地，光配向層厚度范圍為200-500 A。
[0050]本實施例還提供了一種配向層組的制造方法，包括以下步驟:
[0051 ] 在基板上表面形成摩擦配向層，然后在所述摩擦配向層表面形成與所述摩擦配向層取向角度一致的光配向層。
[0052]具體地，如圖2所示，配向層組的制造方法具體包括以下步驟:[0053]SI在基板表面形成第一配向膜。
[0054]具體地，通過旋涂或者轉印工藝，在彩膜基板或陣列基板表面涂覆第一配向膜，形成的第一配向膜厚度為600-1000A。
[0055]S2通過摩擦取向工藝使所述第一配向膜產生取向角度。
[0056]具體方法為:使彩膜基板或陣列基板與摩擦輥接觸，摩擦輥高速旋轉，并沿某一設定角度在彩膜基板或陣列基板表面行進，在第一配向膜表面產生固定的取向角度。以單疇的ADS產品為例，優(yōu)選地，其取向角度為7° (如圖3所示，該第一配向膜50的取向角度與條形電極投影到該第一配向膜上的條形電極的投影60的長度方向成7°?11°角)。摩擦工藝中，不可避免會產生劃傷，異物，存在摩擦取向不能到達的區(qū)域，以及摩擦不均勻。
[0057]S3清洗第一配向膜。
[0058]通過水洗、超聲波清洗等方法清洗彩膜基板或陣列基板，除去摩擦工藝中產生的異物，并進行干燥，得到摩擦配向層。
[0059]S4在所述摩擦配向層表面形成第二配向膜。
[0060]具體方法為:通過旋涂或者轉印工藝，在摩擦配向層的表面再涂覆第二配向膜，形成的第二配向膜厚度為200-500A。
[0061]S5通過偏振紫外光源照射第二配向膜，使該第二配向膜形成取向角度。
[0062]優(yōu)選地，光源的波長為200_400nm，能量為0.7_2J/cm2，使第二配向膜產生取向，得到光配向層。其中，所述光配向層的取向角度與摩擦配向層摩擦產生的取向角度保持一致。光配向層能夠彌補因步驟S2中所述的摩擦配向層的不良對液晶面板顯示效果的影響，提聞液晶面板對比度及顯不品質。
[0063]本實施例提供的基板可以是彩膜基板或陣列基板，該基板上設有配向層組。
[0064]需要說明的是，彩膜基板和陣列基板上的配向層組的取向方向之間的角度關系需要根據實際需要制定，例如，針對IPS和FFS模式的液晶面板，通常將二者的取向方向設計為平行的；而針對TN模式的液晶面板，通常將二者的取向設計為相互垂直的。
[0065]本實施例還提供一種顯示裝置，包括上述任意一種配向層組，所述顯示裝置包括液晶面板、手機、液晶顯示器、平板電腦等具有任何顯示功能的產品或部件。
[0066]本發(fā)明通過結合摩擦取向工藝和光配向工藝制造液晶面板的配向層部分，將光配向層覆蓋在摩擦配向層上形成配向層組對液晶進行取向。本發(fā)明通過光配向層掩蓋摩擦配向膜上在摩擦取向工藝中產生的劃傷、異物、取向陰影區(qū)等不良，利用摩擦配向層的強錨定能補償光配向層錨定能弱的不足，實現同時提高液晶面板的對比度和抑制殘像的產生，達到提高顯示裝置顯示品質的目的。
[0067]以上實施方式僅用于說明本發(fā)明，而并非對本發(fā)明的限制，有關【技術領域】的普通技術人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護范圍應由權利要求限定。
【權利要求】
1.一種配向層組，其特征在于，所述配向層組包括摩擦配向層和光配向層，所述摩擦配向層和光配向層沿遠離基板上表面的方向依次設置在所述基板的上表面；所述摩擦配向層和所述光配向層的取向角度一致。
2.根據權利要求1所述的配向層組，其特征在于，所述摩擦配向層和所述光配向層的材料具有相同的極性。
3.根據權利要求1或2所述的配向層組，其特征在于，所述摩擦配向層的材質為聚酰亞胺、聚苯乙烯和聚丙烯酸酯三種材料中的一種。
4.根據權利要求1或2所述的配向層組，其特征在于，所述光配向層的材料為光取向聚合物。
5.根據權利要求4所述的配向層組，其特征在于，所述光取向聚合物為肉桂?；牧稀⒉槎惢牧?、香?素基材料或偶氣基材料。
6.根據權利要求1或2所述的配向層組，其特征在于，所述光配向層的厚度小于所述摩擦配向層的厚度。
7.根據權利要求6所述的配向層組，其特征在于，所述光配向層的厚度范圍為200-500 Α。
8.根據權利要求6所述的配向層組，其特征在于，所述摩擦配向層的厚度范圍為600-1000 A。
9.一種基板，其特征 在于，所述基板的上表面設置有如權利要求1-8任一項所述的配向層組。
10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1-8任一項所述的配向層組。
11.一種配向層組的制造方法，其特征在于，包括以下步驟: 在基板上表面形成摩擦配向層，然后在所述摩擦配向層上形成與所述摩擦配向層取向角度一致的光配向層。
12.根據權利要求11所述的配向層組的制造方法，其特征在于， 所述摩擦配向層的形成方法具體包括以下步驟: 在基板的上表面形成第一配向膜 采用摩擦取向工藝使所述第一配向膜形成取向角度； 清洗所述第一配向層，并進行干燥，得到摩擦配向層。
13.根據權利要求12所述的配向層組的制造方法，其特征在于，所述摩擦取向工藝具體包括以下步驟: 使所述基板與摩擦輥接觸； 所述摩擦輥旋轉，并沿設定角度在所述基板表面行進，在所述第一配向膜表面形成取向角度。
14.根據權利要求11所述的配向層組的制造方法，其特征在于，所述光配向層的形成方法具體包括以下步驟: 在所述摩擦配向層表面形成第二配向膜； 通過光取向工藝使所述第二配向膜形成取向角度，得到光配向層。
15.根據權利要求14所述的配向層組的制造方法，其特征在于，所述光取向工藝具體方法為:采用偏振紫外光源照射所述第二配向膜， 使該第二配向膜形成取向角度。
16.根據權利要求15所述的配向層組的制造方法，其特征在于，所述偏振紫外光源的波長為 200-400nm，能量為 0.7_2J/cm2。
【文檔編號】G02F1/1337GK103576389SQ201310577083
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年11月18日 優(yōu)先權日:2013年11月18日
【發(fā)明者】周曉東 申請人:京東方科技集團股份有限公司