顯示屏及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種顯示屏及其制作方法。所述顯示屏包括第一基板、第二基板和設(shè)置于所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層；所述第一基板包括：基板、設(shè)置在該基板上的光學(xué)膜組和直接設(shè)置于該光學(xué)膜組上的多個像素單元；所述第二基板包括陣列基板。本發(fā)明通過在基板上制備光學(xué)膜組，形成第一基板，設(shè)置第二基板包括陣列基板然后將所述第一基板和所述第二基板對盒而制成顯示屏，最終實(shí)現(xiàn)背光源與顯示面板一體化，減少顯示模組的厚度。
【專利說明】顯示屏及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種顯示屏及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在薄膜場效應(yīng)管液晶顯不器(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-1XD)顯示中，背光源非常重要，背光源是位于液晶顯示器(IXD)背后的一種光源，因?yàn)長CD本身不發(fā)光，它顯示圖形或字符是它對光線調(diào)制的結(jié)果。
[0003]在現(xiàn)有技術(shù)中，背光源是設(shè)置于液晶顯示面板外部的，這樣不但增加了整體液晶顯示模組的厚度，會產(chǎn)生因?yàn)楣庹找鸬腡FT(Thin Film Transistor,薄膜場效應(yīng)晶體管)特性變化而導(dǎo)致的掃描紋。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的主要目的在于提供一種顯示屏及其制作方法，以實(shí)現(xiàn)背光源與顯示面板一體化，減少顯示模組的厚度。
[0005]為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供了一種顯示屏，包括第一基板、第二基板和設(shè)置于所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層；
[0006]所述第一基板包括:基板、設(shè)置在該基板上的光學(xué)膜組和直接設(shè)置于該光學(xué)膜組上的多個像素單元；
[0007]所述第二基板包括陣列基板。
[0008]實(shí)施時，所述第二基板還包括:覆蓋于所述陣列基板上的平坦層，以及設(shè)置于該平坦層上的彩膜層。
[0009]實(shí)施時，所述彩膜層上設(shè)置有第一偏光膜層；
[0010]所述第一基板還包括:
[0011]設(shè)置于所述光學(xué)膜組上的第二偏光膜層，該第二偏光膜層的偏光角度與所述第第一偏光膜層的偏光角度匹配；
[0012]以及，設(shè)置于所述第二偏光膜層上的配向膜層，該配向膜層按照預(yù)定液晶預(yù)傾角進(jìn)行配向。
[0013]實(shí)施時，所述光學(xué)膜組包括:
[0014]設(shè)置于所述基板上的導(dǎo)光板；
[0015]設(shè)置于該導(dǎo)光板上的棱鏡膜層，該棱鏡膜層上通過曝光顯影形成有棱紋；
[0016]以及，設(shè)置于該棱鏡膜層上的擴(kuò)散膜層。
[0017]實(shí)施時，所述導(dǎo)光板包括:
[0018]形成于所述基板上的反射層；
[0019]形成于該反射層上的氧化銦錫ITO層，該ITO層中的網(wǎng)點(diǎn)位置通過導(dǎo)光板網(wǎng)點(diǎn)掩膜形成有刻蝕孔；
[0020]以及，涂覆于該ITO層上的導(dǎo)光膜層，該導(dǎo)光膜層在該ITO層的刻蝕孔內(nèi)形成網(wǎng)點(diǎn)結(jié)構(gòu)，該導(dǎo)光膜層表面平坦。
[0021]實(shí)施時，所述光學(xué)膜組包括:
[0022]形成于所述基板上的反射層；
[0023]形成于該反射層上的下電極層；
[0024]形成在該下電極層上的面狀有機(jī)發(fā)光二極管OLED發(fā)光層；
[0025]形成備在該面狀OLED發(fā)光層上的上電極層；
[0026]形成在該上電極層上的棱鏡膜層，該棱鏡膜層通過曝光顯影制備有棱紋；
[0027]形成在該棱鏡膜層上的擴(kuò)散膜層；
[0028]以及，制備在該擴(kuò)散膜層上的增透膜層。
[0029]本發(fā)明還提供了一種顯示屏的制作方法，包括:
[0030]第一基板制作步驟:將光學(xué)膜組設(shè)置于基板上，在該光學(xué)膜組上直接設(shè)置多個像素單元，從而制作形成第一基板；
[0031]第二基板制作步驟:制作形成第二基板，所述第二基板包括陣列基板；
[0032]對盒步驟:在所述第一基板和所述第二基板之間設(shè)置液晶層，將所述第一基板與所述第二基板對盒，形成顯示屏。
[0033]實(shí)施時，所述第二基板制作步驟還包括:
[0034]在所述陣列基板上覆蓋平坦層；
[0035]在該平坦層上制作彩膜層。
[0036]實(shí)施時，所述第二基板制作步驟還包括:在所述彩膜層上設(shè)置偏光膜層；
[0037]所述第一基板制作步驟還包括:
[0038]在所述光學(xué)膜組上制備偏光膜層，該偏光膜層的偏光角度與所述彩色濾光陣列基板上的該偏光膜層的偏光角度匹配；
[0039]在所述偏光膜層上制備配向膜層，按照預(yù)定液晶預(yù)傾角對該配向膜層進(jìn)行配向。
[0040]實(shí)施時，在所述第一基板制作步驟中，所述將光學(xué)膜組設(shè)置于基板上步驟包括:
[0041]在基板上制備導(dǎo)光板；
[0042]在該導(dǎo)光板上制備棱鏡膜層，并對該棱鏡膜層曝光顯影制備出棱紋；
[0043]在該棱鏡膜層上制備擴(kuò)散膜層。
[0044]實(shí)施時，所述在基板上制備導(dǎo)光板步驟包括:
[0045]在基板上形成反射層；
[0046]在該反射層上形成沉積氧化銦錫ITO層，并通過導(dǎo)光板網(wǎng)點(diǎn)掩膜將該ITO層中網(wǎng)點(diǎn)位置刻蝕掉，形成刻蝕孔；
[0047]在該ITO層上涂覆導(dǎo)光膜層，使得該導(dǎo)光膜層在該ITO層的刻蝕孔內(nèi)形成網(wǎng)點(diǎn)結(jié)構(gòu)，在該導(dǎo)光膜層的入光側(cè)預(yù)留線光源貼附位置，用激光處理使得該導(dǎo)光膜層表面平坦。
[0048]實(shí)施時，在所述第一基板制作步驟中，所述將光學(xué)膜組設(shè)置于基板上步驟包括:
[0049]在基板上形成反射層；
[0050]在該反射層上制備下電極層，在該下電極層上制備面狀有機(jī)發(fā)光二極管OLED發(fā)光層，在該面狀OLED發(fā)光層上制備上電極層；
[0051]在該上電極層上形成棱鏡膜層，并對該棱鏡膜層曝光顯影制備出棱紋；
[0052]在該棱鏡膜層上形成擴(kuò)散膜層，在該擴(kuò)散膜層上制備增透膜層。[0053]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所述的顯示屏及其制作方法，通過在基板上制備光學(xué)膜組，形成第一基板，設(shè)置第二基板包括陣列基板然后將所述第一基板和所述第二基板對盒而制成顯示屏，最終實(shí)現(xiàn)背光源與顯示面板一體化，減少顯示模組的厚度。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0054]圖1是本發(fā)明一實(shí)施例所述的顯示屏包括的第一基板的剖面示意圖；
[0055]圖2是本發(fā)明該實(shí)施例所述的顯示屏的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0056]圖3是本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示屏的制作方法的流程圖；
[0057]圖4是通過本發(fā)明一實(shí)施例所述的顯示屏的制作方法制作的第一基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0058]圖5是圖4中的OLED發(fā)光層53在下電極層52和上電極層54通電時的通電狀態(tài)
示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0059]以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明，但是本發(fā)明可以由權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實(shí)施。
[0060]本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示屏，包括第一基板、第二基板和設(shè)置于所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層；
[0061]所述第一基板包括:基板、設(shè)置在該基板上的光學(xué)膜組和直接設(shè)置于該光學(xué)膜組上的多個像素單元；
[0062]所述第二基板包括陣列基板。
[0063]本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示屏，采用將BLU (Black Light Unit，背光源)以光學(xué)膜組的方式直接集成到顯示屏內(nèi)部的第一基板上，可減小顯示屏整體厚度重量。
[0064]在一實(shí)施例所述的顯示屏中，所述第二基板還包括:覆蓋于所述陣列基板上的平坦層，以及設(shè)置于該平坦層上的彩膜層，這樣設(shè)置于所述陣列基板上的TFT在上側(cè)以CF(Color Filter，彩膜)層覆蓋可有效避免光照對TFT特性的影響以及掃描紋的不良的產(chǎn)生。
[0065]本發(fā)明該實(shí)施例所述的顯示屏，通過將CF (Color Filter，彩膜)層直接制備在Array (陣列)基板上，形成第二基板(在本實(shí)施例中也可以稱為彩色濾光陣列基板)，同時在另一側(cè)?；迳现苽涔鈱W(xué)膜層，形成第一基板(也可以稱為背光基板)，然后將所述彩色濾光陣列基板和所述背光基板對盒而制成液晶顯示屏，最終實(shí)現(xiàn)背光源與液晶面板一體化，并且在該實(shí)施例所述的顯示屏中，陣列走線與彩膜層同側(cè)，陣列走線完全處于彩膜層的覆蓋之下，可以避免因?yàn)楣庹找鸬腡FT特性變化導(dǎo)致的掃描紋，同時一體化設(shè)計(jì)可以減少整體膜組的厚度。
[0066]優(yōu)選的，所述彩膜層上設(shè)置有第一偏光膜層；
[0067]所述第一基板還包括:
[0068]設(shè)置于所述光學(xué)膜組上的第二偏光膜層，所述第二偏光膜層的偏光角度與所述第一偏光膜層的偏光角度相匹配；
[0069]以及，設(shè)置于所述第二偏光膜層上的配向膜層，該配向膜層按照預(yù)定液晶預(yù)傾角進(jìn)行配向。[0070]在一具體實(shí)施例中，所述光學(xué)膜組包括:
[0071]設(shè)置于所述基板上的導(dǎo)光板；
[0072]設(shè)置于該導(dǎo)光板上的棱鏡膜層，該棱鏡膜層上通過曝光顯影形成有棱紋；
[0073]以及，設(shè)置于該棱鏡膜層上的擴(kuò)散膜層；
[0074]所述導(dǎo)光板包括:
[0075]形成于所述基板上的反射層；
[0076]形成于該反射層上的ITO (氧化銦錫)層，該ITO層中的網(wǎng)點(diǎn)位置通過LGP (導(dǎo)光板)網(wǎng)點(diǎn)掩膜形成有刻蝕孔；
[0077]以及，涂覆于該ITO層上的導(dǎo)光膜層，該導(dǎo)光膜層在該ITO層的刻蝕孔內(nèi)形成網(wǎng)點(diǎn)結(jié)構(gòu)，該導(dǎo)光膜層表面平坦。
[0078]在該實(shí)施例中，導(dǎo)光膜層面是需要有聚光的網(wǎng)點(diǎn)的，為了成型出網(wǎng)點(diǎn)構(gòu)造，采用ITO刻蝕出網(wǎng)孔，待下一步制作導(dǎo)光膜層時，導(dǎo)光膜層材質(zhì)直接填充進(jìn)入網(wǎng)孔內(nèi)部形成網(wǎng)點(diǎn)。導(dǎo)光膜層中網(wǎng)點(diǎn)是通過ITO層先刻蝕出網(wǎng)點(diǎn)孔洞結(jié)構(gòu)，然后沉積導(dǎo)光膜層時，導(dǎo)光膜材質(zhì)進(jìn)入網(wǎng)點(diǎn)孔洞而形成帶網(wǎng)點(diǎn)的導(dǎo)光膜層結(jié)構(gòu)。其中使用反射層可以調(diào)整光的出射方向，使光線正面出射；使用擴(kuò)散膜層可以提高出光的均一性。
[0079]在一實(shí)施例中，所述光學(xué)膜組包括:
[0080]形成于所述基板上的反射層；
[0081]形成于該反射層上的下電極層；
[0082]形成于該下電極層上的面狀有機(jī)發(fā)光二極管OLED發(fā)光層；
[0083]形成于該面狀OLED發(fā)光層上的上電極層；
[0084]形成在該上電極層上的棱鏡膜層，該棱鏡膜層通過曝光顯影制備有棱紋；
[0085]形成于該棱鏡膜層上的擴(kuò)散膜層；
[0086]以及，形成于該擴(kuò)散膜層上的增透膜層。
[0087]在一具體實(shí)施例中，所述第二基板包括陣列基板、覆蓋于所述陣列基板上的平坦層以及設(shè)置于該平坦層上的彩膜層；所述彩膜層上還設(shè)置有第一偏光膜層；
[0088]并如圖1所示，在該具體實(shí)施例中，所述第一基板包括基板40、設(shè)置在該基板40上的反射層41、形成于該反射層41上的ITO層42、涂覆于該ITO層上的導(dǎo)光膜層43、設(shè)置于該導(dǎo)光膜層43上的棱鏡膜層44、設(shè)置于該棱鏡膜層44上的擴(kuò)散膜層45、設(shè)置于該擴(kuò)散膜層45上的第二偏光膜層46,基于設(shè)置于該第二偏光膜層46上的配向膜層(圖1中未不)；
[0089]其中，所述ITO層42中的網(wǎng)點(diǎn)位置通過LGP網(wǎng)點(diǎn)掩膜形成有刻蝕孔(圖1中未示)，該導(dǎo)通膜層43在該ITO層42的刻蝕孔內(nèi)形成網(wǎng)點(diǎn)結(jié)構(gòu)，該導(dǎo)光膜層43表面平坦；
[0090]所述第二偏光膜層46的偏光角度與所述一偏光膜層的偏光角度匹配；
[0091]所述配向膜層被按照預(yù)定液晶預(yù)傾角配向；
[0092]所述基板40的預(yù)定位置上還設(shè)有燈條47。
[0093]在制作該實(shí)施例所述的顯示屏?xí)r，將所述第一基板和所述第二基板滴上液晶后成盒制備成液晶顯示面板，在第二基板上貼上IC (集成電路)及柔性線路板，給入信號，即可點(diǎn)燈確認(rèn)畫面。
[0094]在圖1中，標(biāo)號為48的為邊緣保護(hù)層，邊緣保護(hù)層48可以在膜層制作完成后，刻掉邊緣部分后涂布，固化成型成為該保護(hù)層，主要用于保護(hù)邊緣膜層，防止損傷而影響膜層光學(xué)效果。
[0095]圖2是本發(fā)明該實(shí)施例所述的顯示屏的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。在圖2中，標(biāo)號為60的是第二基板包括的基板60，標(biāo)號為61的是陣列走線，標(biāo)號為62的是平坦層，標(biāo)號為63的是彩膜層，標(biāo)號為641和642的是樹脂邊框,標(biāo)號為65的是第一偏光膜層,標(biāo)號為7的是液晶層；在該第一偏光膜層65表面制作有配向膜層(圖2中未示)，并按照預(yù)定液晶預(yù)傾角對該配向膜層進(jìn)行配向；該第一偏光膜層65與所述第二偏光膜層46相匹配。
[0096]在該實(shí)施例中，該第一偏光膜層65也可以以偏光片替代，只是設(shè)置的位置改變，基板分為兩面，一面制作彩色濾光陣列膜層，另一面最后在成盒后貼附偏光片。
[0097]在該實(shí)施例中，所述第一基板為背光基板，所述第二基板為彩色濾光陣列基板。
[0098]在本發(fā)明該實(shí)施例所述的顯示屏中，采用在基板上制備線狀光源作為光源部分，形成背光基板，并將該背光基板與彩色濾光陣列基板成盒制作液晶面板，也可實(shí)現(xiàn)背光源與液晶面板一體化，并且陣列走線與彩膜層同側(cè)，陣列走線完全處于彩膜層的覆蓋之下，可以避免因?yàn)楣庹找鸬腡FT特性變化導(dǎo)致的掃描紋，同時一體化設(shè)計(jì)可以減少整體膜組的厚度。
[0099]如圖3所示，本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示屏的制作方法包括:
[0100]第一基板制作步驟31:將光學(xué)膜組設(shè)置于基板上，在該光學(xué)膜組上直接設(shè)置多個像素單元，從而制作形成第一基板；
[0101]第二基板制作步驟32:制作形成第二基板，所述第二基板包括陣列基板；
[0102]對盒步驟33:在所述第一基板和所述第二基板之間設(shè)置液晶層，將所述第一基板與所述第二基板對盒，形成顯示屏。
[0103]本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示屏的制作方法，通過在基板上制備光學(xué)模組，形成第一基板(也可以稱為背光基板)，制作形成包括陣列基板的第二基板，然后將所述第一基板和所述第二基板對盒而制成顯示屏，最終實(shí)現(xiàn)背光源與顯示面板一體化，同時一體化設(shè)計(jì)可以減少顯示模組的厚度。
[0104]具體的，所述第二基板制作步驟還包括:
[0105]在所述陣列基板上覆蓋平坦層(over coating)；
[0106]在該平坦層上制作彩膜層。
[0107]優(yōu)選的，所述第二基板制作步驟還包括:在所述彩膜層上設(shè)置偏光膜層；
[0108]所述第一基板制作步驟還包括:
[0109]在所述光學(xué)膜組上制備偏光膜層，該偏光膜層的偏光角度與所述彩色濾光陣列基板上的該偏光膜層的偏光角度匹配；
[0110]在所述偏光膜層上制備配向膜層，按照預(yù)定液晶預(yù)傾角對該配向膜層進(jìn)行配向。
[0111]優(yōu)選的，在所述第一基板制作步驟中，所述將光學(xué)膜組設(shè)置于基板上步驟包括:
[0112]在基板上制備導(dǎo)光板；
[0113]在該導(dǎo)光板上制備棱鏡膜層，并對該棱鏡膜層曝光顯影制備出棱紋；
[0114]在該棱鏡膜層上制備擴(kuò)散膜層。
[0115]優(yōu)選的，所述在基板上制備導(dǎo)光板步驟包括:
[0116]在基板上形成反射層；
[0117]在該反射層上形成沉積氧化銦錫ITO層，并通過導(dǎo)光板網(wǎng)點(diǎn)掩膜將該ITO層中網(wǎng)點(diǎn)位置刻蝕掉，形成刻蝕孔；
[0118]在該ITO層上涂覆導(dǎo)光膜層，使得該導(dǎo)光膜層在該ITO層的刻蝕孔內(nèi)形成網(wǎng)點(diǎn)結(jié)構(gòu)，在該導(dǎo)光膜層的入光側(cè)預(yù)留線光源貼附位置，用激光處理使得該導(dǎo)光膜層表面平坦。
[0119]優(yōu)選的，在所述第一基板制作步驟中，所述將光學(xué)膜組設(shè)置于基板上步驟包括:
[0120]在基板上形成反射層；
[0121]在該反射層上制備下電極層，在該下電極層上制備面狀有機(jī)發(fā)光二極管OLED發(fā)光層，在該面狀OLED發(fā)光層上制備上電極層；
[0122]在該上電極層上形成棱鏡膜層，并對該棱鏡膜層曝光顯影制備出棱紋；
[0123]在該棱鏡膜層上形成擴(kuò)散膜層，在該擴(kuò)散膜層上制備增透膜層。
[0124]如圖4所示，根據(jù)一種【具體實(shí)施方式】，所述第一基板的制作步驟具體包括:
[0125]在基板50上形成反射層51 ；
[0126]在該反射層51上形成下電極層52，在該下電極層52上制備面狀OLED (OrganicLight-Emitting Diode，有機(jī)發(fā)光二極管)發(fā)光層53，在該面狀OLED發(fā)光層53上制備上電極層54 ；
[0127]在該上電極層54上制備棱鏡膜層55，并對該棱鏡膜層55曝光顯影制備出棱紋(圖5中未示)；
[0128]在該棱鏡膜層55上制備擴(kuò)散膜層56,在該擴(kuò)散膜層56上制備增透膜層57 ；
[0129]在圖3中，標(biāo)號為581、582、583和584的是樹脂邊框，標(biāo)號為520的是下電極線，標(biāo)號為540的是上電極線。
[0130]在本發(fā)明該實(shí)施例所述的顯示屏的制作方法中，采用在基板上制備面狀OLED發(fā)光層作為光源部分，形成第一基板(在本實(shí)施例中也可以稱為背光基板)，并將該背光基板與彩色濾光陣列基板成盒制作液晶面板，也可實(shí)現(xiàn)背光源與液晶面板一體化，并且在采用該實(shí)施例所述的制作方法制作的液晶顯示屏中，陣列走線與彩膜層同側(cè)，陣列走線完全處于彩膜層的覆蓋之下，可以避免因?yàn)楣庹找鸬腡FT特性變化導(dǎo)致的掃描紋，同時一體化設(shè)計(jì)可以減少整體膜組的厚度。
[0131]圖5是圖4中的OLED發(fā)光層53在下電極層52和上電極層54通電時的通電狀態(tài)示意圖，為了保證電場均勻性，采用四角同時供電。
[0132]以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下，還可以作出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種顯示屏，其特征在于，包括第一基板、第二基板和設(shè)置于所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層； 所述第一基板包括:基板、設(shè)置在該基板上的光學(xué)膜組和直接設(shè)置于該光學(xué)膜組上的多個像素單元； 所述第二基板包括陣列基板。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示屏，其特征在于，所述第二基板還包括:覆蓋于所述陣列基板上的平坦層，以及設(shè)置于該平坦層上的彩膜層。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示屏，其特征在于， 所述彩膜層上設(shè)置有第一偏光膜層； 所述第一基板還包括: 設(shè)置于所述光學(xué)膜組上的第二偏光膜層，該第二偏光膜層的偏光角度與所述第第一偏光膜層的偏光角度匹配； 以及，設(shè)置于所述第二偏光膜層上的配向膜層，該配向膜層按照預(yù)定液晶預(yù)傾角進(jìn)行配向。
4.如權(quán)利要求1至3中任一權(quán)利要求所述的顯示屏，其特征在于，所述光學(xué)膜組包括: 設(shè)置于所述基板上的導(dǎo)光板； 設(shè)置于該導(dǎo)光板上的棱鏡膜層，該棱鏡膜層上通過曝光顯影形成有棱紋； 以及，設(shè)置于該棱鏡膜層上的擴(kuò)散膜層。
5.如權(quán)利要求4所述的顯示屏，其特征在于，所述導(dǎo)光板包括: 形成于所述基板上的反射層； 形成于該反射層上的氧化銦錫ITO層，該ITO層中的網(wǎng)點(diǎn)位置通過導(dǎo)光板網(wǎng)點(diǎn)掩膜形成有刻蝕孔； 以及，涂覆于該ITO層上的導(dǎo)光膜層，該導(dǎo)光膜層在該ITO層的刻蝕孔內(nèi)形成網(wǎng)點(diǎn)結(jié)構(gòu)，該導(dǎo)光膜層表面平坦。
6.如權(quán)利要求1至3中任一權(quán)利要求所述的顯示屏，其特征在于，所述光學(xué)膜組包括: 形成于所述基板上的反射層； 形成于該反射層上的下電極層； 形成在該下電極層上的面狀有機(jī)發(fā)光二極管OLED發(fā)光層； 形成備在該面狀OLED發(fā)光層上的上電極層； 形成在該上電極層上的棱鏡膜層，該棱鏡膜層通過曝光顯影制備有棱紋； 形成在該棱鏡膜層上的擴(kuò)散膜層； 以及，制備在該擴(kuò)散膜層上的增透膜層。
7.—種顯示屏的制作方法，其特征在于，包括: 第一基板制作步驟:將光學(xué)膜組設(shè)置于基板上，在該光學(xué)膜組上直接設(shè)置多個像素單元，從而制作形成第一基板； 第二基板制作步驟:制作形成第二基板，所述第二基板包括陣列基板； 對盒步驟:在所述第一基板和所述第二基板之間設(shè)置液晶層，將所述第一基板與所述第二基板對盒，形成顯示屏。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示屏的制作方法，其特征在于，所述第二基板制作步驟還包括: 在所述陣列基板上覆蓋平坦層； 在該平坦層上制作彩膜層。
9.如權(quán)利要求8所述的顯示屏的制作方法，其特征在于，所述第二基板制作步驟還包括:在所述彩膜層上設(shè)置偏光膜層； 所述第一基板制作步驟還包括: 在所述光學(xué)膜組上制備偏光膜層，該偏光膜層的偏光角度與所述彩色濾光陣列基板上的該偏光膜層的偏光角度匹配； 在所述偏光膜層上制備配向膜層，按照預(yù)定液晶預(yù)傾角對該配向膜層進(jìn)行配向。
10.如權(quán)利要求7至9中任一權(quán)利要求所述的顯示屏的制作方法，其特征在于，在所述第一基板制作步驟中，所述將光學(xué)膜組設(shè)置于基板上步驟包括: 在基板上制備導(dǎo)光板； 在該導(dǎo)光板上制備棱鏡膜層，并對該棱鏡膜層曝光顯影制備出棱紋； 在該棱鏡膜層上制備擴(kuò)散膜層。
11.如權(quán)利要求10所 述的顯示屏的制作方法，其特征在于，所述在基板上制備導(dǎo)光板步驟包括: 在基板上形成反射層； 在該反射層上形成沉積氧化銦錫ITO層，并通過導(dǎo)光板網(wǎng)點(diǎn)掩膜將該ITO層中網(wǎng)點(diǎn)位置刻蝕掉，形成刻蝕孔； 在該ITO層上涂覆導(dǎo)光膜層，使得該導(dǎo)光膜層在該ITO層的刻蝕孔內(nèi)形成網(wǎng)點(diǎn)結(jié)構(gòu)，在該導(dǎo)光膜層的入光側(cè)預(yù)留線光源貼附位置，用激光處理使得該導(dǎo)光膜層表面平坦。
12.如權(quán)利要求7至9中任一權(quán)利要求所述的顯示屏的制作方法，其特征在于，在所述第一基板制作步驟中，所述將光學(xué)膜組設(shè)置于基板上步驟包括: 在基板上形成反射層； 在該反射層上制備下電極層，在該下電極層上制備面狀有機(jī)發(fā)光二極管OLED發(fā)光層，在該面狀OLED發(fā)光層上制備上電極層； 在該上電極層上形成棱鏡膜層，并對該棱鏡膜層曝光顯影制備出棱紋； 在該棱鏡膜層上形成擴(kuò)散膜層，在該擴(kuò)散膜層上制備增透膜層。
【文檔編號】G02F1/1333GK103676276SQ201310683028
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年12月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月12日
【發(fā)明者】張文浩, 楊鈺婷 申請人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司