具有改善的可靠性的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種具有改善的可靠性的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)。本發(fā)明的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)表面上的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)包括：至少一個(gè)細(xì)光束光學(xué)單元，用于產(chǎn)生多個(gè)細(xì)光束；至少一個(gè)測(cè)量單元，用于測(cè)量每個(gè)細(xì)光束的性能；至少一個(gè)控制單元，用于產(chǎn)生圖案數(shù)據(jù)并將圖案數(shù)據(jù)遞送到所述細(xì)光束光學(xué)單元，所述控制單元操作性耦合至所述測(cè)量單元，用于確定具有在所述性能的預(yù)定數(shù)值范圍之外的測(cè)量性能值的無(wú)效細(xì)光束；至少一個(gè)致動(dòng)器，用于引起所述細(xì)光束光學(xué)單元和所述目標(biāo)彼此相對(duì)地移動(dòng)，其中所述致動(dòng)器與所述控制單元操作性耦合，所述控制單元確定所述移動(dòng)，將有效細(xì)光束定位在所述無(wú)效細(xì)光束的位置，因而用有效細(xì)光束代替所述無(wú)效細(xì)光束。
【專(zhuān)利說(shuō)明】具有改善的可靠性的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)
[0001]本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2006年7月25日，申請(qǐng)?zhí)枮?00680027074.8，發(fā)明名稱(chēng)為“具
有改善的可靠性的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)”的發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明涉及一種用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)表面上的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)(masklesslithography system),以及涉及一種利用無(wú)掩模光刻系統(tǒng)用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)表面上的方法。
【背景技術(shù)】
[0003]至今，大多數(shù)商業(yè)上可獲得的光刻系統(tǒng)使用掩?；蚬鈻?reticle)來(lái)將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)表面上。然而，對(duì)于每種新的設(shè)計(jì)，必須制造這樣的光柵。尤其是隨著日益增長(zhǎng)的分辨率要求，現(xiàn)在為IOOnm的量級(jí)，這已經(jīng)變成是越來(lái)越大的挑戰(zhàn)。此外，它降低了芯片生產(chǎn)過(guò)程的適應(yīng)性。因此，正在開(kāi)發(fā)無(wú)掩模光刻系統(tǒng)。
[0004]一些類(lèi)型的這些光刻系統(tǒng)是多細(xì)光束(mult1-beamlet)系統(tǒng)。在利用多個(gè)細(xì)光束來(lái)將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)表面上的這樣的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)中，細(xì)光束發(fā)生器產(chǎn)生多種細(xì)光束，如電子細(xì)光束、離子細(xì)光束、X射線(xiàn)細(xì)光束等。這些細(xì)光束通常聚焦于目標(biāo)表面上并且一起或單獨(dú)地掃描其表面。在這些系統(tǒng)中，每個(gè)細(xì)光束設(shè)計(jì)的光斑大小通常小于50nm，并且使用10,000量級(jí)的細(xì)光束。
[0005]然而，在一個(gè)或多個(gè)細(xì)光束將失效的情況下，如統(tǒng)計(jì)學(xué)上更可能是如此大量細(xì)光束變得失效的情況下，使得整個(gè)晶片不能立刻使用，其對(duì)晶片的成本和制造時(shí)間具有較大影響。這可以事實(shí)上取消(undo)所謂的大量的多細(xì)光束光刻系統(tǒng)在生產(chǎn)量方面的相當(dāng)大部分的優(yōu)勢(shì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的一個(gè)目的是改善上述的光刻系統(tǒng)，尤其是減輕上述缺點(diǎn)部分的至少一部分影響。
[0007]本發(fā)明的一個(gè)目的是進(jìn)一步降低這些系統(tǒng)中細(xì)光束失效的影響。
[0008]進(jìn)一步的目的是提供一種可靠的光刻系統(tǒng)，或改善上述光刻系統(tǒng)的可靠性。
[0009]本發(fā)明的進(jìn)一步的目的是提供一種通用的系統(tǒng)，該系統(tǒng)具有校正細(xì)光束失效的各種可能性。進(jìn)一步的目的是設(shè)計(jì)這樣的可以結(jié)合這些可能性的系統(tǒng)。
[0010]因此本發(fā)明提供了一種用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)表面上的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，包括:
[0011]-至少一個(gè)細(xì)光束光學(xué)單元(beamletoptical unit),用于產(chǎn)生多個(gè)細(xì)光束；
[0012]-至少一個(gè)測(cè)量單元，用于測(cè)量每個(gè)細(xì)光束的性能；
[0013]-至少一個(gè)控制單元，用于產(chǎn)生圖案數(shù)據(jù)并將圖案數(shù)據(jù)遞送到所述細(xì)光束光學(xué)單元，所述控制單元操作性耦合至所述測(cè)量單元，用于確定具有在所述性能的預(yù)定數(shù)值范圍之外的測(cè)量性能值的無(wú)效細(xì)光束；[0014]-至少一個(gè)致動(dòng)器，用于引起所述細(xì)光束光學(xué)單元和所述目標(biāo)彼此相對(duì)地移動(dòng)，其中所述致動(dòng)器與所述控制單元操作性耦合，所述控制單元確定所述移動(dòng)，將有效細(xì)光束定位在所述無(wú)效細(xì)光束的位置，因而用有效細(xì)光束代替所述無(wú)效細(xì)光束。
[0015]利用引起細(xì)光束和目標(biāo)彼此相對(duì)地移動(dòng)的這樣的致動(dòng)器，可以補(bǔ)償失效，S卩，無(wú)效的細(xì)光束。上述問(wèn)題的這種解決方法并不需要導(dǎo)致裝置復(fù)雜性的增加。此外，使用本發(fā)明的裝置，可以對(duì)無(wú)效細(xì)光束進(jìn)行校正并且還可以獲得商業(yè)上可接受的加工速率。這可以例如下列方式進(jìn)行。在一種特別的【具體實(shí)施方式】中，在移動(dòng)以后，本發(fā)明的光刻系統(tǒng)再次在表面上掃描細(xì)光束。例如，如果僅發(fā)射那些占有失效或無(wú)效細(xì)光束位置的細(xì)光束，那么可以寫(xiě)入由于僅僅某些細(xì)光束的失效而在其它情況下沒(méi)有寫(xiě)入的圖案的那些部分。因此本發(fā)明的光刻系統(tǒng)使在規(guī)格(技術(shù)要求，specification)之外的細(xì)光束的掃描線(xiàn)由與規(guī)格一致的細(xì)光束來(lái)寫(xiě)入。在一種【具體實(shí)施方式】中，在曝光掃描過(guò)程中，系統(tǒng)或、尤其是控制單元可以關(guān)掉包括無(wú)效細(xì)光束的某些選擇的細(xì)光束、或無(wú)效的細(xì)光束。
[0016]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述控制單兀適合于存儲(chǔ)確定無(wú)效細(xì)光束的信息，該無(wú)效細(xì)光束具有在預(yù)定的性能范圍之外的測(cè)量性能。
[0017]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述細(xì)光束光學(xué)單兀包括:
[0018]-細(xì)光束發(fā)生器，用于產(chǎn)生多個(gè)電子細(xì)光束，以及
[0019]-至少一個(gè)調(diào)制單元(調(diào)制器單元,modulatorunit),對(duì)準(zhǔn)(align with)所述細(xì)光束，用于調(diào)制每個(gè)所述細(xì)光束的強(qiáng)度，
[0020]并且其中所述控制單元操作性耦合至所述調(diào)制單元，用于產(chǎn)生圖案數(shù)據(jù)并將圖案數(shù)據(jù)遞送到所述調(diào)制單元。
[0021]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述細(xì)光束光學(xué)單兀包括:
[0022]-細(xì)光束發(fā)生器，用于產(chǎn)生多個(gè)電子細(xì)光束，以及
[0023]-至少一個(gè)掃描器，用于在所述表面上掃描所述細(xì)光束，
[0024]并且其中所述控制單元操作性耦合至所述掃描器，用于產(chǎn)生圖案數(shù)據(jù)并將圖案數(shù)據(jù)遞送到所述掃描器。在這樣的一種【具體實(shí)施方式】中，例如，可以在w第一寫(xiě)入掃描中將圖案寫(xiě)在基質(zhì)(substrate)的表面上，以接著進(jìn)行移動(dòng)，以及進(jìn)行另外的掃描以寫(xiě)入由于細(xì)光束的失效導(dǎo)致的還沒(méi)有寫(xiě)入的圖案部分。在這樣的系統(tǒng)和方法中，優(yōu)選完全關(guān)掉無(wú)效的細(xì)光束。
[0025]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述細(xì)光束光學(xué)單兀包括:
[0026]-細(xì)光束發(fā)生器，用于產(chǎn)生多個(gè)電子細(xì)光束；
[0027]-至少一個(gè)掃描器，用于在所述表面上掃描所述細(xì)光束，以及
[0028]-至少一個(gè)調(diào)制單元，對(duì)準(zhǔn)所述細(xì)光束，用于調(diào)制每個(gè)所述細(xì)光束的強(qiáng)度，
[0029]并且其中所述控制單元操作性耦合至所述調(diào)制單元，并且所述掃描器用于產(chǎn)生圖案數(shù)據(jù)并將圖案數(shù)據(jù)遞送到所述調(diào)制單元和所述掃描器。
[0030]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述控制單兀包括光發(fā)射器(optical transmitter),用于產(chǎn)生至少一個(gè)攜帶所述圖案信息的光束以及將所述至少一個(gè)光束投射到所述細(xì)光束光學(xué)單元中。
[0031]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述細(xì)光束光學(xué)單兀適合于產(chǎn)生有規(guī)則地隔開(kāi)的細(xì)光束，以及所述致動(dòng)器適合于引起兩個(gè)細(xì)光束相互距離的整數(shù)倍數(shù)的移動(dòng)。
[0032]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述控制單元包括計(jì)算器，用于根據(jù)確定無(wú)效細(xì)光束的所述信息來(lái)計(jì)算所述移動(dòng)，以及計(jì)算新的圖案數(shù)據(jù)，用于將無(wú)效細(xì)光束的圖案數(shù)據(jù)提供給代替無(wú)效細(xì)光束的有效細(xì)光束。
[0033]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述致動(dòng)器彼此相對(duì)地移動(dòng)所述細(xì)光束光學(xué)單元和所述目標(biāo)的位置。
[0034]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述致動(dòng)器相對(duì)于所述目標(biāo)表面移動(dòng)所述細(xì)光束光學(xué)單兀的位置。
[0035]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述控制單兀包括:至少一個(gè)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器，用于存儲(chǔ)圖案數(shù)據(jù)；至少一個(gè)讀出單元，用于從數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器讀出圖案數(shù)據(jù)；至少一個(gè)數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器，用于將從數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器讀出的圖案數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成至少一個(gè)調(diào)制光束；以及至少一個(gè)光發(fā)射器，用于將所述至少一個(gè)調(diào)制光束發(fā)射到所述細(xì)光束光學(xué)單元，其中光刻系統(tǒng)進(jìn)一步設(shè)置有第二致動(dòng)器，用于彼此相對(duì)地移動(dòng)所述發(fā)射器和所述電子光學(xué)單元的位置。
[0036]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述調(diào)制單元包括多個(gè)調(diào)制器，每個(gè)調(diào)制器設(shè)置用于調(diào)制細(xì)光束，以及所述發(fā)射器將所述至少一個(gè)調(diào)制光束耦合到每個(gè)調(diào)制器，其中所述致動(dòng)器彼此相對(duì)地移動(dòng)所述發(fā)射器和所述調(diào)制單元的位置，使得所述發(fā)射器與不同于所述移動(dòng)之前的調(diào)制單元的調(diào)制器有關(guān)的所述至少一個(gè)調(diào)制光束相耦合。
[0037]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述光刻系統(tǒng)進(jìn)一步包括第一存儲(chǔ)器，用于存儲(chǔ)信息，使得可以識(shí)別所述細(xì)光束電子光學(xué)單元的所述無(wú)效細(xì)光束。
[0038]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述控制單兀適合于改變其中從數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器讀出圖案數(shù)據(jù)的次序。
[0039]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述控制單元包括:第一數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器，用于存儲(chǔ)所述圖案數(shù)據(jù)；第二數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器，用于存儲(chǔ)所述第一數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器的所述圖案數(shù)據(jù)的副本；以及處理裝置，用于基于識(shí)別無(wú)效細(xì)光束的所述信息來(lái)改變所述第二數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器中的所述圖案數(shù)據(jù)。
[0040]在本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述控制單元適合于將控制信號(hào)提供給所述細(xì)光束光學(xué)單元，用于在寫(xiě)入圖案時(shí)關(guān)掉無(wú)效細(xì)光束。
[0041]在另一個(gè)方面，本發(fā)明涉及一種用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)表面上的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，包括:
[0042]-至少一個(gè)第一細(xì)光束發(fā)生器，用于產(chǎn)生多個(gè)細(xì)光束；
[0043]-至少一個(gè)第二細(xì)光束發(fā)生器，用于產(chǎn)生多個(gè)細(xì)光束；
[0044]-至少一個(gè)調(diào)制單元，包括多個(gè)調(diào)制器，所述調(diào)制單元對(duì)準(zhǔn)所述第一細(xì)光束發(fā)生器，用于調(diào)制所述第一細(xì)光束發(fā)生器的每個(gè)細(xì)光束；
[0045]-至少一個(gè)細(xì)光束控制器，用于控制所述第一細(xì)光束發(fā)生器的每個(gè)細(xì)光束的掃描;
[0046]-至少一個(gè)控制單元，用于產(chǎn)生圖案數(shù)據(jù)并將圖案數(shù)據(jù)遞送到所述調(diào)制單元以及用于控制所述細(xì)光束控制器；
[0047]其中所述第一和第二細(xì)光束發(fā)生器彼此相對(duì)地加以定位，以使所述第二細(xì)光束發(fā)生器的所述細(xì)光束投射到與所述第一細(xì)光束發(fā)生器的所述細(xì)光束相同的位置上。
[0048]在該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述調(diào)制單元進(jìn)一步包括調(diào)制器，對(duì)準(zhǔn)所述第二細(xì)光束發(fā)生器，還用于調(diào)制所述第二細(xì)光束發(fā)生器的每個(gè)細(xì)光束。
[0049]在另外的光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，細(xì)光束控制器進(jìn)一步適合于控制所述第二細(xì)光束發(fā)生器的每個(gè)細(xì)光束的掃描。
[0050]本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)表面上的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，包括:
[0051]-至少一個(gè)第一細(xì)光束發(fā)生器，用于產(chǎn)生多個(gè)細(xì)光束；
[0052]-至少一個(gè)第二細(xì)光束發(fā)生器，用于產(chǎn)生多個(gè)細(xì)光束；
[0053]-至少一個(gè)調(diào)制單元，包括多個(gè)調(diào)制器，所述調(diào)制單元對(duì)準(zhǔn)所述第一細(xì)光束發(fā)生器，用于調(diào)制所述第一細(xì)光束發(fā)生器的每個(gè)細(xì)光束；
[0054]-至少一個(gè)細(xì)光束控制器，用于控制所述第一細(xì)光束發(fā)生器的每個(gè)細(xì)光束的掃描;
[0055]-至少一個(gè)控制單元，用于產(chǎn)生圖案數(shù)據(jù)并將圖案數(shù)據(jù)遞送到所述調(diào)制單元以及用于控制所述細(xì)光束控制器；
[0056]其中所述光刻系統(tǒng)進(jìn)一步包括至少一個(gè)致動(dòng)器，用于彼此相對(duì)地移動(dòng)所述第一細(xì)光束發(fā)生器和所述第二細(xì)光束發(fā)生器，以使所述第二細(xì)光束發(fā)生器的所述細(xì)光束投射到所述表面上與所述第一細(xì)光束發(fā)生器的所述細(xì)光束相同的位置上。
[0057]在該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述調(diào)制單元進(jìn)一步包括調(diào)制器，對(duì)準(zhǔn)所述第二細(xì)光束發(fā)生器，還用于調(diào)制所述第二細(xì)光束發(fā)生器的每個(gè)細(xì)光束。
[0058]在該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的一種【具體實(shí)施方式】中，所述細(xì)光束控制器進(jìn)一步適合于控制所述第二細(xì)光束發(fā)生器的每個(gè)細(xì)光束的掃描。
[0059]本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種利用前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)來(lái)將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)表面上的方法，其中在所述目標(biāo)的所述表面的一定區(qū)域上掃描所述多個(gè)細(xì)光束，所述致動(dòng)器引起所述移動(dòng)，以及再次在所述區(qū)域上掃描所述多個(gè)細(xì)光束。
[0060]本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種利用無(wú)掩模多細(xì)光束光刻系統(tǒng)來(lái)將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)表面上的方法，包括以下步驟:
[0061]-產(chǎn)生多個(gè)細(xì)光束；
[0062]-測(cè)量每個(gè)細(xì)光束的性能；
[0063]-通過(guò)在所述表面上掃描具有在預(yù)定的性能范圍之內(nèi)的測(cè)量細(xì)光束性能的有效細(xì)光束來(lái)將所述圖案轉(zhuǎn)移到所述表面上，以及防止具有在預(yù)定的性能范圍之外的測(cè)量細(xì)光束性能的無(wú)效細(xì)光束到達(dá)所述表面，從而留下未寫(xiě)入的圖案元素；
[0064]-彼此相對(duì)地移動(dòng)所述表面和至少部分所述光刻系統(tǒng)，以用有效的替代細(xì)光束代替每個(gè)無(wú)效細(xì)光束；以及
[0065]-通過(guò)在所述表面上掃描有效替代細(xì)光束來(lái)將所述未寫(xiě)入的圖案轉(zhuǎn)移到所述表面上。
[0066]在一種【具體實(shí)施方式】中，該方法進(jìn)一步包括以下步驟:
[0067]-向控制器提供圖案數(shù)據(jù)；
[0068]-存儲(chǔ)用于確定所述無(wú)效細(xì)光束的信息；
[0069]-借助于由所述控制器控制的調(diào)制器取決于所述圖案數(shù)據(jù)來(lái)分別調(diào)制每個(gè)細(xì)光束；
[0070]-在不同于所述掃描方向的另一方向上，在與其垂直的情況下，相對(duì)地推進(jìn)所述目標(biāo)的同時(shí)在所述表面上借助于掃描器在掃描方向上掃描所述多個(gè)細(xì)光束；
[0071]-在進(jìn)行所述移動(dòng)之后，在所述表面上進(jìn)行另外的掃描。
[0072]優(yōu)選地僅在檢測(cè)到產(chǎn)生無(wú)效的圖案數(shù)據(jù)的情況下，S卩，在用于檢測(cè)包括在系統(tǒng)中的細(xì)光束的有效性的傳感器上產(chǎn)生無(wú)效的圖案數(shù)據(jù)的情況下，進(jìn)行這樣的移動(dòng)。接著在所述另外的掃描過(guò)程中，有效的細(xì)光束用于在其位置上掃描所述檢測(cè)無(wú)效的細(xì)光束的圖案數(shù)據(jù)。
[0073]在該方法的一種【具體實(shí)施方式】中，所述移動(dòng)的大小使得有效細(xì)光束占有每個(gè)無(wú)效細(xì)光束的位置。
[0074]在該方法的一種【具體實(shí)施方式】中，所述移動(dòng)是兩個(gè)細(xì)光束的相互距離的整數(shù)倍數(shù)。
[0075]在該方法的一種【具體實(shí)施方式】中，產(chǎn)生的用于轉(zhuǎn)移圖案的細(xì)光束的數(shù)目小于在光刻系統(tǒng)內(nèi)可以產(chǎn)生的細(xì)光束的數(shù)目。在如此布置的系統(tǒng)中細(xì)光束位置的另外數(shù)目小于1%。例如，在根據(jù)本發(fā)明的具有13000個(gè)細(xì)光束的操作基數(shù)(operational base)的系統(tǒng)中，可以產(chǎn)生200個(gè)另外的細(xì)光束。這些細(xì)光束相等地分布在包含所述操作基數(shù)數(shù)量的細(xì)光束的所謂的掃描縫隙(scanning slit)的側(cè)面。這樣的有限包含顯著地增強(qiáng)了成功地移向所述另外的掃描設(shè)置(scanning setting),即，有效細(xì)光束的可能性,所述有效細(xì)光束是在先前掃描之前或之后被確定為無(wú)效的所有細(xì)光束的范圍內(nèi)。
[0076]在具有上述以那種方式定位或允許定位的第二細(xì)光束發(fā)生器的一種【具體實(shí)施方式】中，可以寫(xiě)入在其它情況下沒(méi)有寫(xiě)入的圖案部分，導(dǎo)致由于維修引起的生產(chǎn)故障或生產(chǎn)延遲。本發(fā)明的這種【具體實(shí)施方式】的進(jìn)一步的優(yōu)點(diǎn)是，它可以擴(kuò)大維修之間的時(shí)間間隙。第二細(xì)光束發(fā)生器還允許進(jìn)行其它校正，并且允許校正其它誤差。
[0077]可以結(jié)合光刻系統(tǒng)和方法的上述特點(diǎn)，以便進(jìn)一步改善本發(fā)明的或上述的光刻系統(tǒng)。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0078]在根據(jù)本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的下列【具體實(shí)施方式】中將進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明，其中:
[0079]圖1示出了本發(fā)明的光刻系統(tǒng)的示意性側(cè)剖視圖；
[0080]圖2示出了電光縫隙部分的視圖；
[0081]圖3示出了在第一掃描過(guò)程中的晶片；
[0082]圖4示出了在第二、多余(重復(fù)，redundant)掃描過(guò)程中的晶片；
[0083]圖5示出了由細(xì)光束失效的結(jié)果分析產(chǎn)生的圖；
[0084]圖6示出了由細(xì)光束可靠性的影響分析產(chǎn)生的圖；
[0085]圖7A示出了在寫(xiě)入之前測(cè)量細(xì)光束性能的步驟；
[0086]圖7B示出了在晶片上寫(xiě)入圖案的過(guò)程；以及
[0087]圖8示出了圖解說(shuō)明失效細(xì)光束為相鄰細(xì)光束的概率的曲線(xiàn)圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0088]在圖1中，示出了可以用于本發(fā)明的光刻系統(tǒng)的總側(cè)視圖。
[0089]光刻系統(tǒng)I包括用虛線(xiàn)(帶狀線(xiàn)，stripped line)表示的電子光學(xué)單元18,該電子光學(xué)單元18包括:具有產(chǎn)生光束4的源3的細(xì)光束發(fā)生器2 ;用于準(zhǔn)直光束4的由透鏡5表不的準(zhǔn)直光學(xué)系統(tǒng)；以及用于將光束分成多個(gè)細(xì)光束7的分束器6。
[0090]獲得的多個(gè)基本上平行的細(xì)光束7被指引向調(diào)制單元8，該調(diào)制單元8包括偏轉(zhuǎn)板陣列9和用于阻止每個(gè)偏轉(zhuǎn)的細(xì)光束的細(xì)光束制動(dòng)器陣列10。
[0091]利用在調(diào)制單元8中的靜電偏轉(zhuǎn)板，細(xì)光束7被偏轉(zhuǎn)離開(kāi)系統(tǒng)的光軸O并且細(xì)光束7'未偏轉(zhuǎn)地通過(guò)調(diào)制器陣列。
[0092]通過(guò)制動(dòng)器陣列10的細(xì)光束T在偏轉(zhuǎn)板陣列11處在第一寫(xiě)入方向(掃描方向)上被偏轉(zhuǎn)，并且利用投影透鏡12，每個(gè)細(xì)光束的橫截面被減小。在寫(xiě)入過(guò)程中，目標(biāo)表面13相對(duì)于系統(tǒng)的其余部分在第二寫(xiě)入方向上移動(dòng)。
[0093]此外,光刻系統(tǒng)包括控制單元60,該控制單元60包括數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器61、讀出單元62以及數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器63?？刂茊卧?0可以被定位成遠(yuǎn)離系統(tǒng)的其余部分，例如清潔房間內(nèi)部之外。利用光導(dǎo)纖維64，保存圖案數(shù)據(jù)的調(diào)制光束被發(fā)射到投射器65，該投射器65將纖維的末端(示意性地描述在板15中)投射到電子光學(xué)單元18中，在這里投射到調(diào)制陣列9上。在該【具體實(shí)施方式】中，考慮到將要說(shuō)明的本發(fā)明，用于發(fā)送圖案數(shù)據(jù)到電子光學(xué)單元18的自由空間耦合提供了某些優(yōu)點(diǎn)。
[0094]來(lái)自每根光導(dǎo)纖維末端的調(diào)制光束8被投射到調(diào)制器陣列9上的調(diào)制器的光敏元件上。尤其是，纖維的末端被投射到調(diào)制器陣列9上。每個(gè)光束14保存一部分圖案數(shù)據(jù)用于控制一個(gè)或多個(gè)調(diào)制器。
[0095]圖1這樣的光刻系統(tǒng)的各種【具體實(shí)施方式】進(jìn)一步披露在W0-A2-2004/038509中，將其全部?jī)?nèi)容結(jié)合于此作為參考。在那個(gè)申請(qǐng)中，描述了利用一個(gè)或多個(gè)光束來(lái)將圖案信息遞送到電子光學(xué)單元18的各種方式。
[0096]光刻系統(tǒng)另外包括致動(dòng)器16,該致動(dòng)器16可以彼此相對(duì)地移動(dòng)目標(biāo)表面13和光刻系統(tǒng)的電子光學(xué)單元18。尤其是，當(dāng)細(xì)光束被有規(guī)則地隔開(kāi)時(shí)，該致動(dòng)器16適合于相互轉(zhuǎn)移或移動(dòng)兩個(gè)細(xì)光束相互距離的整數(shù)倍數(shù)。在一種【具體實(shí)施方式】中，致動(dòng)器是工作臺(tái)24，該工作臺(tái)24用于相對(duì)于光刻系統(tǒng)的電子光學(xué)單元18移動(dòng)目標(biāo)13。為此，工作臺(tái)24操作性奉禹合至控制單兀60。
[0097]如果照射(impinge)到目標(biāo)表面13上的細(xì)光束中的一個(gè)在規(guī)定的范圍之外，例如由于其強(qiáng)度、位置、大小或均勻性(在時(shí)間和/或空間上考慮的所有這些參數(shù))在規(guī)定的范圍之外，則部分圖案是不正確的。
[0098]為了補(bǔ)償細(xì)光束的失效或補(bǔ)償并沒(méi)有在規(guī)格(規(guī)范，spec)之內(nèi)操作的細(xì)光束，可以發(fā)現(xiàn)，存在兩種可以結(jié)合的主要方法以進(jìn)一步改善系統(tǒng)的適應(yīng)性。然而，兩種方法均導(dǎo)致系統(tǒng)復(fù)雜性的增加?？梢园l(fā)現(xiàn)，為增加可靠性所需要的另外的特點(diǎn)也可以用于改善其它加工方面。此外，結(jié)合方法可以在較小增加系統(tǒng)復(fù)雜性的情況下導(dǎo)致更好的可靠性。
[0099]第一方法是掃描基質(zhì)的相同表面兩次或多次。
[0100]另一種方法是通過(guò)將多余的細(xì)光束加入到光刻系統(tǒng)中來(lái)增加細(xì)光束的數(shù)目。
[0101]圖2示出了在晶片上處于它們的中性位置的細(xì)光束的相互位置，其表示細(xì)光束的分布。這里，開(kāi)圓(空心圓，open circle)表示在規(guī)格之內(nèi)的細(xì)光束，而閉圓(closedcircle)或?qū)嵭膱A表不在規(guī)格之外的細(xì)光束。連接細(xì)光束的線(xiàn)s相對(duì)于掃描方向SI成較小角度α，以便確保表面的整個(gè)區(qū)域可以被細(xì)光束覆蓋。掃描方向SI是電子光學(xué)系統(tǒng)相對(duì)于基質(zhì)表面的移動(dòng)。在圖2中進(jìn)一步指出的是每個(gè)單獨(dú)的細(xì)光束的掃描方向S2。在圖2中，存在三個(gè)在規(guī)格之外的細(xì)光束20。
[0102]圖3示出了在其上對(duì)場(chǎng)22寫(xiě)入圖案的晶片21。彼此相對(duì)地掃描電子光學(xué)單元和晶片表面，并且指出幾個(gè)位置10'、10"、10'"以便圖解說(shuō)明在晶片21上的掃描。實(shí)際上，將移動(dòng)晶片21，使得可以?huà)呙鑸?chǎng)22的下一行。晶片21相對(duì)于光刻系統(tǒng)的其余部分的移動(dòng)量將是場(chǎng)22的寬度。
[0103]在圖3中，說(shuō)明了利用具有三個(gè)如圖2所示的在規(guī)格之外的細(xì)光束20的光刻系統(tǒng)來(lái)對(duì)晶片寫(xiě)入的效果。碰巧在用附圖標(biāo)號(hào)23表示的圖案的這三條線(xiàn)(line)上的特點(diǎn)(feature)沒(méi)有被正確地寫(xiě)在所有的場(chǎng)22上。因此，在僅僅三個(gè)細(xì)光束在規(guī)格之外的情況下，整個(gè)晶片可能已經(jīng)是無(wú)用的。
[0104]解決該問(wèn)題的第一種方式是允許另外的掃描，或在光刻系統(tǒng)是單掃描系統(tǒng)的情況下，允許第二掃描，如圖4所示。在這種另外的掃描中，電子光學(xué)單元18和基質(zhì)表面的位置以這樣的方式彼此相對(duì)地移動(dòng)距離△，使得被圖3的第一掃描中的失效細(xì)光束覆蓋的區(qū)域現(xiàn)在可以由實(shí)際工作的或在規(guī)格之內(nèi)的細(xì)光束所覆蓋。該移動(dòng)用附圖標(biāo)號(hào)24表示并且在圖2中用S2表示的方向上。這種移動(dòng)可以是晶片21移動(dòng)的結(jié)果、或例如細(xì)光束制動(dòng)器陣列10移動(dòng)的結(jié)果、或整個(gè)電子光學(xué)單元18相對(duì)于晶片移動(dòng)的結(jié)果。在這種另外的掃描過(guò)程中，由于在規(guī)格之外的細(xì)光束20而導(dǎo)致的沒(méi)有寫(xiě)入的線(xiàn)23現(xiàn)在利用在規(guī)格之內(nèi)的其它細(xì)光束進(jìn)行寫(xiě)入。在這種情況下，必須以這樣的方式確定移動(dòng)24使得在規(guī)格之外的每個(gè)細(xì)光束20的位置現(xiàn)在被在規(guī)格之內(nèi)的細(xì)光束占有。
[0105]進(jìn)行另外的掃描的一種方式是首先掃描場(chǎng)22的第一行，然后經(jīng)過(guò)第一行返回到起點(diǎn)。在反向掃描開(kāi)始之前，致動(dòng)器16按照細(xì)光束的相互距離的整數(shù)倍數(shù)彼此相對(duì)地移動(dòng)晶片和光刻系統(tǒng)的其余部分。 在行的反向掃描過(guò)程中，寫(xiě)入缺少的(missing)線(xiàn)或點(diǎn)。然后晶片分檔器或工作臺(tái)彼此相對(duì)地移動(dòng)晶片和光刻系統(tǒng)的電子光學(xué)單元，以便寫(xiě)入場(chǎng)22的下一行。重復(fù)這種步驟直到完成完整的晶片。在進(jìn)行行的第一掃描的時(shí)候可以準(zhǔn)備用于缺少的線(xiàn)和點(diǎn)的圖案數(shù)據(jù)?？商鎿Q地，根據(jù)本發(fā)明，在進(jìn)行另外的掃描之前，可以?huà)呙枵麄€(gè)晶片。
[0106]圖5示出了由分析另外的掃描有效性的蒙特卡羅模擬產(chǎn)生的圖。該圖的X軸表示用于寫(xiě)入圖案的光刻系統(tǒng)的細(xì)光束的總數(shù)，而Y軸表示當(dāng)另外的掃描不足以補(bǔ)償每個(gè)有缺陷的細(xì)光束或每個(gè)在規(guī)格之外的細(xì)光束(因此，被關(guān)掉)時(shí)，存在于光刻系統(tǒng)中的失效細(xì)光束的平均數(shù)。
[0107]因此，圖5表明，在另外的掃描不能補(bǔ)償缺少的細(xì)光束之前，存在于系統(tǒng)中的所有細(xì)光束中有多少細(xì)光束可以失效?？梢钥吹?，當(dāng)使用例如13，000個(gè)細(xì)光束時(shí)，當(dāng)根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面施加第二掃描或另外的掃描時(shí)，大約250個(gè)細(xì)光束的失效可導(dǎo)致至少一個(gè)非寫(xiě)入掃描線(xiàn)。
[0108]圖6示出了當(dāng)將50、100以及200個(gè)額外的細(xì)光束加入到細(xì)光束發(fā)生器的(例如)13，000個(gè)細(xì)光束中時(shí)關(guān)于雙掃描實(shí)施成功的概率分析。在這種分析中，X軸表示在325個(gè)小時(shí)之后單個(gè)細(xì)光束失效的概率(％)。不同的符號(hào)分別表示50、100以及200個(gè)另外的細(xì)光束。
[0109]圖7A和圖7B示出了本發(fā)明的進(jìn)一步方面。在圖7A中，利用檢測(cè)器測(cè)量電子細(xì)光束的性能。通過(guò)檢測(cè)器掃描電子細(xì)光束并且收集所有細(xì)光束的電子細(xì)光束數(shù)據(jù)。借助于計(jì)算器，這里包括在控制器中，從所述數(shù)據(jù)獲得每個(gè)細(xì)光束的各種性能如光斑大小和位置的值，從而完成了測(cè)量。接著，將測(cè)量的性能集合中的任何一項(xiàng)的值在所述性能的預(yù)定數(shù)值范圍之外的細(xì)光束確定為無(wú)效的。這些細(xì)光束的位置存儲(chǔ)在圖1的控制單元60中。在寫(xiě)入過(guò)程中，這些細(xì)光束被關(guān)掉或被永久地取消。
[0110]在將圖案寫(xiě)入到晶片上之后，利用一次或多次掃描，控制單元計(jì)算晶片相對(duì)于電子光學(xué)單元的移動(dòng)，其是需要的以確保用在規(guī)格之內(nèi)的細(xì)光束代替由于在規(guī)格之外而被關(guān)掉的每個(gè)細(xì)光束，或現(xiàn)在寫(xiě)入那些由于細(xì)光束被關(guān)掉而沒(méi)有寫(xiě)入的圖案部分。接著，進(jìn)行另外的掃描。
[0111]具有圖案數(shù)據(jù)發(fā)送的自由空間耦合或投射(projection)的圖1的光刻系統(tǒng)提供了另外的機(jī)會(huì)。如果僅僅圖1中用虛線(xiàn)表示的電子光學(xué)系統(tǒng)或部件18相對(duì)于晶片13移動(dòng)，則一個(gè)光束或多個(gè)光束14保持在相對(duì)于晶片13的相同位置,但也可以相對(duì)于電子光學(xué)單元18進(jìn)行移動(dòng)。在光刻系統(tǒng)的某些設(shè)計(jì)中，電子光學(xué)單元18具有用于每個(gè)細(xì)光束的一個(gè)或多個(gè)靜電偏轉(zhuǎn)板。每個(gè)偏轉(zhuǎn)板具有光敏元件并且光發(fā)射器發(fā)射專(zhuān)門(mén)用于每個(gè)光敏元件的光束。在這樣的光刻系統(tǒng)的其它設(shè)計(jì)中，一個(gè)光束包括用于所有的偏轉(zhuǎn)板的圖案數(shù)據(jù)。例如，這樣的光束可以保存多個(gè)頻率多路傳輸?shù)墓馐?br> [0112]在其中利用一個(gè)或多個(gè)光束將圖案數(shù)據(jù)投射到電子光學(xué)單元18中的光刻系統(tǒng)的這些實(shí)施例中，控制單元60僅再發(fā)射應(yīng)該由在規(guī)格之外的細(xì)光束寫(xiě)入的圖案部分:電子光學(xué)單元18的移動(dòng)可放置在規(guī)格之內(nèi)的細(xì)光束代替在規(guī)格之外的細(xì)光束。在這種情況下，控制單元60不需要重新載入圖案數(shù)據(jù)，這節(jié)省了時(shí)間。
[0113]在根據(jù)本發(fā)明的另一種【具體實(shí)施方式】中，工作臺(tái)24用于移動(dòng)晶片13。一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是，工作臺(tái)24已經(jīng)存在于系統(tǒng)中，因而該系統(tǒng)不需要另外的致動(dòng)器用于彼此相對(duì)地重新定位晶片13和電子光學(xué)單元18?，F(xiàn)在控制單元60計(jì)算晶片13所希望的位置并發(fā)送指令到晶片工作臺(tái)24。然而，在這種情況下，根據(jù)本發(fā)明，存在幾種選擇以確保適當(dāng)?shù)膱D案數(shù)據(jù)到達(dá)正確的細(xì)光束，或說(shuō)得更好地:在晶片13的正確部分上產(chǎn)生圖案的正確部分。
[0114]用于控制單元60的一種選擇是重新計(jì)算圖案數(shù)據(jù)的哪一部分需要被發(fā)送，以及發(fā)送到電子光學(xué)單元18的哪一部分?，F(xiàn)在控制單元60可以選擇正確的光束，并且利用選擇的光束發(fā)送新的數(shù)據(jù)。
[0115]用于控制單元60的另一種選擇是計(jì)算在何處細(xì)光束現(xiàn)在取代在規(guī)格之外的被關(guān)掉的細(xì)光束。接著，控制單元60計(jì)算，投射系統(tǒng)必須以何種方式移動(dòng)以確保這些細(xì)光束接收最初發(fā)射到規(guī)格之外的細(xì)光束的圖案數(shù)據(jù)?？刂茊卧?0現(xiàn)在能夠再發(fā)送僅僅那部分圖案數(shù)據(jù)。
[0116]圖8示出了表示在具有例如13000個(gè)細(xì)光束的光刻系統(tǒng)中失效細(xì)光束為相鄰細(xì)光束的概率的曲線(xiàn)圖。應(yīng)當(dāng)記住，當(dāng)將根據(jù)本發(fā)明的另外的掃描用于補(bǔ)償失效的細(xì)光束時(shí)，或當(dāng)將一組另外的細(xì)光束加入到系統(tǒng)中時(shí)，這將不會(huì)完全補(bǔ)償在實(shí)施以下距離范圍內(nèi)的移動(dòng)時(shí)所發(fā)生的相鄰細(xì)光束失效的情況，所述距離僅為相鄰細(xì)光束的相互距離。因此系統(tǒng)應(yīng)當(dāng)具有移動(dòng)相鄰細(xì)光束相互距離的整數(shù)倍數(shù)的適應(yīng)性。為此，光刻系統(tǒng)優(yōu)選具有計(jì)算裝置(computing means),用于發(fā)現(xiàn)相鄰的失效細(xì)光束,確定鄰近的失效細(xì)光束的最大數(shù)目以及計(jì)算用于確定整數(shù)的平均值。如果，例如，三個(gè)鄰近的相鄰細(xì)光束失效，則移動(dòng)應(yīng)該是相鄰細(xì)光束相互距離的至少四倍。
[0117]應(yīng)當(dāng)理解，所包括的上述描述目的在于說(shuō)明優(yōu)選的【具體實(shí)施方式】的操作而不是用于限制本發(fā)明的范圍?；谏鲜稣撌?，對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)顯而易見(jiàn)的多種變化仍將由本發(fā)明的精神和范圍所涵蓋。
【權(quán)利要求】
1.一種利用無(wú)掩模多細(xì)光束光刻系統(tǒng)來(lái)將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的方法，包括以下步驟: -產(chǎn)生多個(gè)細(xì)光束； -測(cè)量每個(gè)細(xì)光束的性能； -將所述多個(gè)細(xì)光束中的具有在所述性能的預(yù)定數(shù)值范圍之外的性能值的細(xì)光束確定為無(wú)效細(xì)光束，并且將所述多個(gè)細(xì)光束中的具有在所述性能的預(yù)定數(shù)值范圍之內(nèi)的性能值的細(xì)光束確定為有效細(xì)光束； -關(guān)掉或永久地取消所述無(wú)效細(xì)光束，由此防止無(wú)效細(xì)光束到達(dá)所述表面； -在第一行的第一掃描期間，相對(duì)于系統(tǒng)的其余部分沿著第一行在掃描方向(SI)上移動(dòng)所述目標(biāo)，并且在所述移動(dòng)期間，通過(guò)使用所述多個(gè)細(xì)光束中的所述有效細(xì)光束將所述圖案寫(xiě)入到所述表面上，其中在所述無(wú)效細(xì)光束的位置上的所述圖案的部分沒(méi)有被正確地寫(xiě)入； -隨后彼此相對(duì)地移動(dòng)所述表面和至少部分所述光刻系統(tǒng)，其中所述移動(dòng)的大小使得用替代細(xì)光束代替每個(gè)無(wú)效細(xì)光束，其中所述替代細(xì)光束是所述多個(gè)細(xì)光束的所述有效細(xì)光束之一，其中所述移動(dòng)在基本上垂直于所述掃描方向(SI)的移動(dòng)方向(S2)上執(zhí)行一距離，使得被無(wú)效細(xì)光束覆蓋的位置在被替代細(xì)光束覆蓋的第二掃描中； -在所述第一行的第二掃描期間，相對(duì)于系統(tǒng)的其余部分沿著所述第一掃描的所述第一行移動(dòng)所述目標(biāo)，并 且在所述移動(dòng)期間，用于所述第一掃描的所述無(wú)效細(xì)光束的圖案數(shù)據(jù)被用于在所述第二掃描期間控制所述替代細(xì)光束；以及 -在所述第二掃描之后，移動(dòng)所述目標(biāo)以允許掃描下一行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的方法，進(jìn)一步包括以下步驟: -向控制器提供圖案數(shù)據(jù)； -存儲(chǔ)用于確定所述無(wú)效細(xì)光束的信息； -借助于由所述控制器控制的調(diào)制器取決于所述圖案數(shù)據(jù)來(lái)分別調(diào)制每個(gè)細(xì)光束。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的方法，其中，對(duì)于所述第二掃描，所述控制器將用于所述第一掃描的所述無(wú)效細(xì)光束的圖案數(shù)據(jù)再發(fā)送至所述調(diào)制器以控制所述替代細(xì)光束。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的方法，其中，所述細(xì)光束光學(xué)單兀和所述目標(biāo)相對(duì)于彼此在垂直于所述掃描方向(SI)的移動(dòng)方向(S2)上的移動(dòng)由致動(dòng)器引起，其中所述致動(dòng)器與所述控制單元操作性耦合并且適于引起所述移動(dòng)，從而將有效細(xì)光束定位在所述無(wú)效細(xì)光束的位置上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的方法，其中，所述致動(dòng)器是用于相對(duì)于所述光刻系統(tǒng)的電子光學(xué)單元移動(dòng)所述目標(biāo)的工作臺(tái)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的方法，其中所述細(xì)光束是有規(guī)則地隔開(kāi)的并且其中所述致動(dòng)器適合于轉(zhuǎn)移或移動(dòng)兩個(gè)相鄰細(xì)光束相互距離的整數(shù)倍數(shù)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的方法，其中，所述光刻系統(tǒng)具有計(jì)算裝置，用于發(fā)現(xiàn)相鄰的無(wú)效細(xì)光束，確定鄰近的無(wú)效細(xì)光束的最大數(shù)目以及計(jì)算用于移動(dòng)兩個(gè)相鄰細(xì)光束相互距離的整數(shù)倍數(shù)的整數(shù)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的方法，其中，至少部分所述細(xì)光束是有規(guī)則地隔開(kāi)的并且沿著相對(duì)于掃描方向(SI)成較小角度α的線(xiàn)(s)布置，并且其中所述致動(dòng)器適合于在所述移動(dòng)方向(S2)上引起所述移動(dòng)，所述移動(dòng)具有為d*sin(a)的整數(shù)倍的距離，其中d是在兩個(gè)相鄰的細(xì)光束之間的相互距離。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的方法，其中，所述光刻系統(tǒng)具有計(jì)算裝置，用于發(fā)現(xiàn)相鄰的無(wú)效細(xì)光束，確定鄰近的無(wú)效細(xì)光束的最大數(shù)目以及計(jì)算用于移動(dòng)d*sin(a )的整數(shù)倍的整數(shù)，其中d是在兩個(gè)相鄰的細(xì)光束之間的相互距離。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的方法，其中，產(chǎn)生的用于轉(zhuǎn)移圖案的細(xì)光束的數(shù)目小于在所述光刻系統(tǒng)內(nèi)可以產(chǎn)生的細(xì)光束的數(shù)目。
11.一種用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的無(wú)掩模多細(xì)光束光刻系統(tǒng)，包括: -至少一個(gè)細(xì)光束光學(xué)單元，用于產(chǎn)生多個(gè)細(xì)光束； -至少一個(gè)測(cè)量單元，用于測(cè)量每個(gè)細(xì)光束的性能； -操作性耦合至所述測(cè)量單元的至少一個(gè)控制單元，用于將所述多個(gè)細(xì)光束中的具有在所述性能的預(yù)定數(shù)值范圍之外的性能值的細(xì)光束確定為無(wú)效細(xì)光束，并且將所述多個(gè)細(xì)光束中的具有在所述性能的預(yù)定數(shù)值范圍之內(nèi)的性能值的細(xì)光束確定為有效細(xì)光束，其中所述控制單元被布置成 關(guān)掉或永久地取消所述無(wú)效細(xì)光束，由此防止無(wú)效細(xì)光束到達(dá)所述表面； -至少工作臺(tái)，用于在第一行的第一掃描和第二掃描期間，相對(duì)于系統(tǒng)的其余部分沿著第一行在掃描方向(Si)上移動(dòng)所述目標(biāo)；以及 -至少一個(gè)致動(dòng)器，用于引起所述表面和至少部分所述光刻系統(tǒng)彼此相對(duì)地移動(dòng)，其中所述移動(dòng)在基本上垂直于所述掃描方向(SI)的移動(dòng)方向(S2)上執(zhí)行一距離，使得被無(wú)效細(xì)光束覆蓋的位置在被替代細(xì)光束覆蓋的第二掃描中； 其中所述控制單元被布置成: -在第一行的第一掃描期間，相對(duì)于系統(tǒng)的其余部分沿著第一行在掃描方向(SI)上移動(dòng)所述目標(biāo)，并且在所述移動(dòng)期間，通過(guò)使用所述多個(gè)細(xì)光束中的所述有效細(xì)光束將所述圖案寫(xiě)入到所述表面上，其中在所述無(wú)效細(xì)光束的位置上的所述圖案的部分沒(méi)有被正確地寫(xiě)入； -隨后彼此相對(duì)地移動(dòng)所述表面和至少部分所述光刻系統(tǒng)，其中所述移動(dòng)的大小使得用替代細(xì)光束代替每個(gè)無(wú)效細(xì)光束，其中所述替代細(xì)光束是所述多個(gè)細(xì)光束的所述有效細(xì)光束之一，其中所述移動(dòng)在基本上垂直于所述掃描方向(SI)的移動(dòng)方向(S2)上執(zhí)行一距離，使得被無(wú)效細(xì)光束覆蓋的位置在被替代細(xì)光束覆蓋的第二掃描中； -在所述第一行的第二掃描期間，相對(duì)于系統(tǒng)的其余部分沿著所述第一掃描的所述第一行移動(dòng)所述目標(biāo)，并且在所述移動(dòng)期間，用于所述第一掃描的所述無(wú)效細(xì)光束的圖案數(shù)據(jù)被用于在所述第二掃描期間控制所述替代細(xì)光束。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的無(wú)掩模多細(xì)光束光刻系統(tǒng)，其中，對(duì)于所述第二掃描，所述控制器將用于所述第一掃描的所述無(wú)效細(xì)光束的圖案數(shù)據(jù)再發(fā)送至調(diào)制器以控制所述替代細(xì)光束。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的無(wú)掩模多細(xì)光束光刻系統(tǒng)，其中，用于相對(duì)于所述光刻系統(tǒng)的光學(xué)電子單兀移動(dòng)所述目標(biāo)的工作臺(tái)包括所述致動(dòng)器。
14.根據(jù)權(quán)利要求11、12或13所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的無(wú)掩模多細(xì)光束光刻系統(tǒng)，其中所述細(xì)光束是有規(guī)則地隔開(kāi)的并且其中所述致動(dòng)器適合于相互轉(zhuǎn)移或移動(dòng)兩個(gè)相鄰細(xì)光束相互距離的整數(shù)倍數(shù)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的無(wú)掩模多細(xì)光束光刻系統(tǒng)，其中所述光刻系統(tǒng)具有計(jì)算裝置，用于發(fā)現(xiàn)相鄰的無(wú)效細(xì)光束，確定鄰近的無(wú)效細(xì)光束的最大數(shù)目以及計(jì)算用于移動(dòng)兩個(gè)相鄰細(xì)光束相互距離的整數(shù)倍數(shù)的整數(shù)。
16.根據(jù)權(quán)利要求11、12或13所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的無(wú)掩模多細(xì)光束光刻系統(tǒng)，其中至少部分所述細(xì)光束是有規(guī)則地隔開(kāi)的并且沿著相對(duì)于掃描方向(SI)成較小角度α的線(xiàn)(s)布置，并且其中所述致動(dòng)器適合于在所述移動(dòng)方向(S2)上引起所述移動(dòng)，所述移動(dòng)具有為d*sin ( α )的整數(shù)倍的距離，其中d是在兩個(gè)相鄰的細(xì)光束之間的相互距離。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的無(wú)掩模多細(xì)光束光刻系統(tǒng)，其中，所述光刻系統(tǒng)具有計(jì)算裝置，用于發(fā)現(xiàn)相鄰的無(wú)效細(xì)光束，確定鄰近的無(wú)效細(xì)光束的最大數(shù)目以及計(jì)算用于移動(dòng)d*sin(a)的整數(shù)倍的整數(shù)，其中d是在兩個(gè)相鄰的細(xì)光束之間的相互距離。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用于將圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)的表面上的無(wú)掩模多細(xì)光束光刻系統(tǒng)，其中，產(chǎn)生的用于 轉(zhuǎn)移圖案的細(xì)光束的數(shù)目小于在所述光刻系統(tǒng)內(nèi)可以產(chǎn)生的細(xì)光束的數(shù)目。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK103645615SQ201310693649
【公開(kāi)日】2014年3月19日 申請(qǐng)日期:2006年7月25日 優(yōu)先權(quán)日:2005年7月25日
【發(fā)明者】斯泰恩·威廉·赫爾曼·卡雷爾·斯騰布林克, 彼得·克勒伊特, 馬爾科·揚(yáng)-哈科·威蘭 申請(qǐng)人:邁普爾平版印刷Ip有限公司