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      一種基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī)的制作方法

      文檔序號:2804249閱讀:315來源:國知局
      專利名稱:一種基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī)的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及微電子、光電子器件制備等微納加工領(lǐng)域的光刻機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī)。
      背景技術(shù)
      光刻技術(shù)是一種精密的微納加工技術(shù)?,F(xiàn)有的無掩模表面等離子體亞波長光刻技術(shù)主要存在刻寫的光柵深度淺,激發(fā)光偏振僅限于TM偏振等等不足。這種光刻手段在實(shí)際應(yīng)用中都有著局限性。其主要存在的問題為:1、光柵深度淺,由于表面等離子波的穿透深度很小,故很難刻寫出深度較深的亞波長光柵,這影響了光柵的應(yīng)用。2、激發(fā)光偏振模式單一,無掩模表面等離子體亞波長光刻技術(shù)中,僅TM偏振光才能激發(fā)表面等離子體波,而TE偏振光無法激發(fā)表面等離子體波。3、光刻工藝復(fù)雜:采用傳統(tǒng)光刻膠的無掩模表面等離子體光刻技術(shù),曝光后,需要在暗室進(jìn)行顯影、定影等化學(xué)處理工藝,工藝復(fù)雜、耗時,如果其中某一環(huán)節(jié)出錯,則需重頭再來。4、成本高,基于表面等離子體的光刻技術(shù),光源大多為紫外光,紫外光源的價格顯然高于可見光波段的光源。5、曝光時間 長,采用偶氮苯聚合物薄膜作為光刻介質(zhì)時,雖然可以簡化工藝,但由于光場主要分布在金屬和偶氮苯聚合物的界面,故所需曝光時間較長
      實(shí)用新型內(nèi)容
      本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有表面等離子體光刻技術(shù)的不足,提出一種基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī)。是一種基于百納米量級厚度的偶氮苯聚合物薄膜,利用導(dǎo)模干涉場誘導(dǎo)偶氮苯聚合物的質(zhì)量遷移,從而刻寫亞波長偶氮苯聚合物表面起伏光柵的光刻機(jī)。是一種具有激發(fā)光偏振模式多樣化,曝光時間短,光刻工藝簡單,成本低,周期可調(diào),刻寫結(jié)構(gòu)可重構(gòu)的大面積亞波長偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī)。實(shí)現(xiàn)上述目的的技術(shù)方案如下:—種基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),該光刻機(jī)包括:激光光源,光電快門,短焦距透鏡,長焦距透鏡,半波片,起偏器,分束器,平面反射鏡A,平面反射鏡B,棱鏡,匹配油,玻璃基底,金屬薄膜,偶氮苯聚合物薄膜,光波導(dǎo)參數(shù)測量儀;其中:所述的激光光源,為可見光波段或紫外波段的激光,用于激發(fā)金屬薄膜、偶氮苯聚合物薄膜、空氣多層結(jié)構(gòu)中的導(dǎo)波模式,簡稱導(dǎo)模;所述激光光源所發(fā)射的激光,經(jīng)過光電快門控制曝光時間,通過短焦距透鏡,長焦距透鏡擴(kuò)束后,經(jīng)過半波片,起偏器后成為具有特定偏振方向的低強(qiáng)度激光束,經(jīng)分束器分成強(qiáng)度相同的兩束光,其中一束光經(jīng)平面反射鏡A反射后輻照到放置在光波導(dǎo)參數(shù)測量儀中心的所述的棱鏡上,并經(jīng)該棱鏡和所述的匹配油,所述的玻璃基底耦合后,輻照到所述的金屬薄膜上,通過光波導(dǎo)參數(shù)測量儀測量反射光光強(qiáng)曲線,并確定激發(fā)的導(dǎo)波模式及其對應(yīng)的激發(fā)角;選取所需的用于刻寫偶氮苯聚合物薄膜表面起伏光柵的導(dǎo)波模式,將棱鏡,匹配油,玻璃基底,金屬薄膜,偶氮苯聚合物薄膜通過光波導(dǎo)參數(shù)測量儀調(diào)至相應(yīng)的導(dǎo)波模式對應(yīng)的激發(fā)角后,將平面反射鏡B與平面反射鏡A關(guān)于棱鏡底面的法線對稱放置,以使經(jīng)平面反射鏡B反射的激光束與平面反射鏡A反射的激光束具有相同的入射角,且兩束光輻照在金屬薄膜上的光斑重合。暫時關(guān)閉光電快門,并通過旋轉(zhuǎn)半波片使得刻寫光光強(qiáng)能夠達(dá)到最大;設(shè)置好曝光時間后,開啟光電快門,兩束高強(qiáng)度激光將以相同的激發(fā)導(dǎo)模的入射角輻照到金屬薄膜上,從而激發(fā)金屬薄膜,偶氮苯聚合物薄膜和空氣多層結(jié)構(gòu)中的兩束導(dǎo)模,該兩束導(dǎo)模的相互干涉導(dǎo)致偶氮苯聚合物的質(zhì)量遷移,從而在金屬薄膜上的偶氮苯聚合物薄膜層刻寫出大面積亞波長氮苯聚合物表面起伏光柵,光柵的面積與擴(kuò)束后的激光束光斑面積相當(dāng),光柵的周期可以通過偶氮苯聚合物薄膜的厚度和/或激發(fā)的導(dǎo)模來調(diào)節(jié),所刻寫的光柵可通過加熱或圓偏振光輻照來擦除,進(jìn)而進(jìn)行重新刻寫。 進(jìn)一步的,所述的偶氮苯聚合物薄膜具有寬光譜響應(yīng)范圍,所述的激光光源可采用可見光波段或紫外波段的激光,如:532nm激光,442nm激光或355nm激光。進(jìn)一步的,金屬薄膜蒸鍍在玻璃基底上,偶氮苯聚合物薄膜旋涂在金屬薄膜上,玻璃基底通過匹配油與棱鏡粘結(jié),并與棱鏡一起放置在光波導(dǎo)參數(shù)測量儀的中心。進(jìn)一步的,通過起偏器的起偏方向確定激發(fā)導(dǎo)模的激光束的偏振方向,通過半波片的快軸方向與起偏器的起偏方向之間的夾角改變激光束的強(qiáng)度。進(jìn)一步的,所用偶氮苯聚合物薄膜的厚度在百納米量級,且其厚度可以通過偶氮苯聚合物的濃度以及涂膠速度進(jìn)行有效控制。進(jìn)一步的,在低強(qiáng)度激光條件下利用光波導(dǎo)參數(shù)測量儀測量反射光光強(qiáng)曲線,進(jìn)而確定激發(fā)的導(dǎo)波模式及其對應(yīng)的激發(fā)角;在高強(qiáng)度激光條件下刻寫偶氮苯聚合物表面起伏光柵。進(jìn)一步的,刻寫的偶氮苯聚合物表面起伏光柵為亞波長光柵,且其周期可以通過偶氮苯聚合物薄膜的厚度和/或激發(fā)的導(dǎo)模進(jìn)行有效調(diào)控。進(jìn)一步的,光刻介質(zhì)為偶氮苯聚合物薄膜,曝光后無需顯影、定影工藝,且刻寫的光柵可通過加熱或圓偏振光擦除,進(jìn)而進(jìn)行重新刻寫。進(jìn)一步的,利用導(dǎo)模干涉場刻寫偶氮苯聚合物表面起伏光柵,光場能量主要分布在偶氮苯聚合物薄膜層,從而使得光刻所需時間有效減少。本實(shí)用新型技術(shù)方案的原理為:所述激光光源,通過所設(shè)計(jì)的光路,可以激發(fā)金屬薄膜,偶氮苯聚合物薄膜,空氣多層結(jié)構(gòu)中兩束沿相反方向傳播的導(dǎo)模,其亞波長周期的干涉場誘導(dǎo)偶氮苯聚合物產(chǎn)生質(zhì)量遷移,從而直接刻寫出亞波長周期的偶氮苯聚合物表面起伏光柵。此過程無需掩模,且曝光后無需顯影、定影等后續(xù)工藝。由于激發(fā)導(dǎo)波模式時,光場主要分布在偶氮苯聚合物層,故可有效減少光刻的曝光時間??虒懙墓鈻趴赏ㄟ^加熱或圓偏振光輻照來擦除,進(jìn)而重構(gòu)。由于偶氮苯聚合物薄膜的光譜響應(yīng)范圍寬,故刻寫亞波長偶氮苯聚合物表面起伏光柵所用的激光光源選擇范圍較寬,即可以使用紫外激光,也可以使用可見光波段的激光。通過棱鏡、匹配油、玻璃基底、金屬薄膜、偶氮苯聚合物薄膜、空氣這種設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu),可以在厚偶氮苯聚合物薄膜條件下,有效激發(fā)導(dǎo)波模式,且激發(fā)導(dǎo)波模式的激光束既可以是TM偏振的,也可以是TE偏振的,從而可通過改變偶氮苯聚合物薄膜的厚度和/或激發(fā)的導(dǎo)模進(jìn)行有效調(diào)控偶氮苯聚合物表面起伏光柵的周期。短焦距透鏡,長焦距透鏡的擴(kuò)束作用保證了激發(fā)光的大面積,進(jìn)而使得刻寫的偶氮苯聚合物表面起伏光柵也是大面積的光柵,且其面積與激發(fā)光面積相當(dāng)。半波片和起偏器的使用,一方面保證了最終的激發(fā)導(dǎo)模的激光束的偏振方向,同時使得改變激光束的強(qiáng)度非常方便,這有利于在低強(qiáng)度激光條件下使用光波導(dǎo)參數(shù)測量儀確定曝光偶氮苯聚合物薄膜的導(dǎo)波模式及其相應(yīng)的激發(fā)角,同時保證了在高強(qiáng)度激光條件下刻寫偶氮苯聚合物表面起伏光柵。本實(shí)用新型和傳統(tǒng)技術(shù)相比的優(yōu)勢為:是一種具有激發(fā)光偏振模式多樣化,曝光時間短,光刻工藝簡單,成本低,周期可調(diào),刻寫結(jié)果可重構(gòu)的大面積亞波長偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī)。1、結(jié)構(gòu)簡單:通過導(dǎo)模干涉誘導(dǎo)偶氮苯聚合物薄膜發(fā)生質(zhì)量遷移,實(shí)現(xiàn)亞波長偶氮苯聚合物表面起伏光柵的刻寫。此種方法無需制作光刻掩模板,只需通過激發(fā)的導(dǎo)模干涉場實(shí)現(xiàn)亞波長周期的光場,進(jìn)而刻寫亞波長偶氮苯聚合物表面起伏光柵。2、工藝簡單:導(dǎo)波模式的干涉場誘導(dǎo)偶氮苯聚合物薄膜發(fā)生質(zhì)量遷移,一次性曝光刻寫亞波長偶氮苯聚合物表面起伏光柵,曝光后,無需在暗室進(jìn)行顯影、定影等化學(xué)處理工藝。3、曝光時間短:激發(fā)導(dǎo)波模式時,光場主要分布在偶氮苯聚合物層,故可有效減少光刻的曝光時間。4、激發(fā)光偏振模式多樣化:使用TM偏振光、TE偏振光均可以激發(fā)導(dǎo)波模式。5、刻寫結(jié)果 可重構(gòu):如果刻寫的光柵達(dá)不到要求,只需通過加熱或圓偏振光輻照對其擦除,進(jìn)行重構(gòu)。6、成本低:該光刻方案無需光刻掩模板,光路簡單,光源及各種光學(xué)兀件的成本均較低,從而實(shí)現(xiàn)了低成本的亞波長偶氮苯聚合物表面起伏光柵的刻寫。7、周期可調(diào):不同厚度的偶氮苯聚合物薄膜以及不同偏振的激光束激發(fā)的導(dǎo)波模式對應(yīng)不同的激發(fā)角,而偶氮苯聚合物表面起伏光柵的周期與激發(fā)角相關(guān),故可以通過改變偶氮苯聚合物薄膜的厚度和/或激發(fā)的導(dǎo)波模式對偶氮苯聚合物表面起伏光柵的周期進(jìn)行有效調(diào)控。8、大面積刻寫:由于采用棱鏡結(jié)構(gòu)激發(fā)導(dǎo)模干涉光刻,刻寫光柵的面積與激發(fā)導(dǎo)模的激光束光斑面積相當(dāng),故實(shí)現(xiàn)了大面積光刻。

      圖1為本實(shí)用新型一種基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為偶氮苯聚合物薄膜厚度為208nm時,利用光波導(dǎo)參數(shù)測量儀在低強(qiáng)度激光條件下測量的反射光光強(qiáng)曲線;圖3為偶氮苯厚度為208nm時,利用TMl波導(dǎo)模式刻寫的偶氮苯聚合物表面起伏光柵的原子力顯微鏡圖;圖4為偶氮苯聚合物薄膜厚度為IOOnm時,利用TEl波導(dǎo)模式刻寫的偶氮苯聚合物表面起伏光柵的原子力顯微鏡圖;[0036]其中,1、激光光源,2、光電快門,3、短焦距透鏡,4、長焦距透鏡,5、半波片,6、起偏器,7、分束器,8、平面反射鏡A,9、平面反射鏡B,10、棱鏡,11、匹配油,12、玻璃基底,13、金屬薄膜,14、偶氮苯聚合物薄膜,15、光波導(dǎo)參數(shù)測量儀。
      具體實(shí)施方式
      以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
      對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描敘,附圖中相同的標(biāo)號始終表不相同的部件。實(shí)施例1:參照圖1所示的一種基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),包括:激光光源1,光電快門2,短焦距透鏡3,長焦距透鏡4,半波片5,起偏器6,分束器7,平面反射鏡A8,平面反射鏡B9,棱鏡10,匹配油11,玻璃基底12,金屬薄膜13,偶氮苯聚合物薄膜14,光波導(dǎo)參數(shù)測量儀15 ;其中,在玻璃基底12上蒸鍍一層金屬薄膜13 (25nm的銀膜),進(jìn)而旋涂偶氮苯聚合物環(huán)戊酮溶液,得到208nm厚的偶氮苯聚合物薄膜14,利用匹配油11將玻璃基底12與棱鏡10粘結(jié)后,放置在光波導(dǎo)參數(shù)測量儀15的中心。將起偏器6的起偏方向調(diào)至水平方向以產(chǎn)生TM偏振光,旋轉(zhuǎn)半波片5以產(chǎn)生低強(qiáng)度的激光束。激光光源I選用可見光波段的442nm激光器,打開控制曝光時間的光電開門2后,激光光源I所發(fā)射激光,經(jīng)光電快門2后,通過短焦距透鏡3,長焦距透鏡4擴(kuò)束后,經(jīng)半波片5,起偏器6后成為低強(qiáng)度的TM偏振光,再經(jīng)分束器7分成強(qiáng)度相同的兩束,其中一束光經(jīng)平面反射鏡AS反射后,輻照到放置在光波導(dǎo) 參數(shù)測量儀15中心的棱鏡10上,并經(jīng)棱鏡10和匹配油11,玻璃基底12耦合后,輻照到金屬薄膜13上,通過光波導(dǎo)參數(shù)測量儀15測量反射光光強(qiáng)曲線,結(jié)果如圖2所示,通過該曲線和理論分析,可以確定這種條件下激發(fā)的導(dǎo)波模式為TMl模式,其對應(yīng)的激發(fā)角為53.5°。選取TMl導(dǎo)模為刻寫偶氮苯聚合物表面起伏光柵的導(dǎo)波模式,將棱鏡10,匹配油11,玻璃基底12,金屬薄膜13,偶氮苯聚合物薄膜14通過光波導(dǎo)參數(shù)測量儀調(diào)至激發(fā)TMl模式的激發(fā)角后。將平面反射鏡B9與平面反射鏡AS關(guān)于棱鏡底面的法線對稱放置,以使經(jīng)平面反射鏡B9反射的激光束與平面反射鏡AS反射的激光束具有相同的入射角,且兩束光輻照在金屬薄膜13上的光斑重合。暫時關(guān)閉光電快門2,并通過旋轉(zhuǎn)半波片5使得刻寫光光強(qiáng)能夠達(dá)到最大。設(shè)置好曝光時間后,開啟光電快門2,兩束高強(qiáng)度激光將以相同的激發(fā)TMl導(dǎo)模的入射角輻照到金屬薄膜13上,從而激發(fā)金屬薄膜13,偶氮苯聚合物薄膜14和空氣多層結(jié)構(gòu)中的兩束導(dǎo)模,該兩束導(dǎo)模的相互干涉導(dǎo)致偶氮苯聚合物的質(zhì)量遷移,從而在金屬薄膜13上的偶氮苯聚合物薄膜14層刻寫出大面積的亞波長偶氮苯聚合物表面起伏光柵。上述方法刻寫的亞波長光柵的周期為187nm,其原子力顯微鏡照片見圖3。實(shí)施例2:通過改變偶氮苯聚合物薄膜的厚度和激發(fā)的導(dǎo)波模式,可實(shí)現(xiàn)不同周期的亞波長光柵的刻寫。偶氮苯聚合物薄膜厚度為IOOnm時,起偏器6的起偏方向在豎直方向,在低強(qiáng)度激光條件下測量得到激發(fā)TEl模式的激發(fā)角為52.8°,利用TEl導(dǎo)模在高強(qiáng)度激光條件下刻寫的亞波長偶氮苯聚合物表面起伏光柵光柵的周期為189nm,其原子力顯微鏡照片見圖4。其它結(jié)構(gòu)同實(shí)施例1。[0043]本實(shí)用新 型未詳細(xì)闡述的部分屬于本領(lǐng)域公知技術(shù)。
      權(quán)利要求1.一種基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),其特征在于:該光刻機(jī)包括:激光光源(1),光電快門(2),短焦距透鏡(3),長焦距透鏡(4),半波片(5),起偏器(6),分束器(7),平面反射鏡A (8),平面反射鏡B (9),棱鏡(10),匹配油(11),玻璃基底(12),金屬薄膜(13),偶氮苯聚合物薄膜(14),光波導(dǎo)參數(shù)測量儀(15);其中: 所述的激光光源(I ),為可見光波段或紫外波段的激光,用于激發(fā)金屬薄膜(13)、偶氮苯聚合物薄膜(14)、空氣多層結(jié)構(gòu)中的導(dǎo)波模式,簡稱導(dǎo)模;所述激光光源(I)所發(fā)射的激光,經(jīng)過光電快門(2)控制曝光時間,通過短焦距透鏡(3),長焦距透鏡(4)擴(kuò)束后,經(jīng)過半波片(5),起偏器(6)后成為具有特定偏振方向的低強(qiáng)度激光束,經(jīng)分束器(7)分成強(qiáng)度相同的兩束光,其中一束光經(jīng)平面反射鏡A(S)反射后輻照到放置在光波導(dǎo)參數(shù)測量儀中心的所述的棱鏡(10)上,并經(jīng)該棱鏡(10)和所述的匹配油(11),所述的玻璃基底(12)耦合后,輻照到所述的金屬薄膜(13)上,通過光波導(dǎo)參數(shù)測量儀測量反射光光強(qiáng)曲線,并確定激發(fā)的導(dǎo)波模式及其對應(yīng)的激發(fā)角;選取所需的用于刻寫偶氮苯聚合物薄膜(14)表面起伏光柵的導(dǎo)波模式,將棱鏡(10),匹配油(11),玻璃基底(12),金屬薄膜(13),偶氮苯聚合物薄膜(14)通過光波導(dǎo)參數(shù)測量儀調(diào)至相應(yīng)的導(dǎo)波模式對應(yīng)的激發(fā)角后,將平面反射鏡B (9)與平面反射鏡A (8)關(guān)于棱鏡底面的法線對稱放置,以使經(jīng)平面反射鏡B (9)反射的激光束與平面反射鏡A (8)反射的激光束具有相同的入射角,且兩束光輻照在金屬薄膜(13)上的光斑重合;暫時關(guān)閉光電快門(2),并通過旋轉(zhuǎn)半波片(5)使得刻寫光光強(qiáng)能夠達(dá)到最大;設(shè)置好曝光時間后,開啟光電快門(2),兩束高強(qiáng)度激光將以相同的激發(fā)導(dǎo)模的入射角輻照到金屬薄膜(13)上,從而激發(fā)金屬薄膜(13),偶氮苯聚合物薄膜(14)和空氣多層結(jié)構(gòu)中的兩束導(dǎo)模,該兩束導(dǎo)模的相互干涉導(dǎo)致偶氮苯聚合物的質(zhì)量遷移,從而在金屬薄膜(13)上的偶氮苯聚合物薄膜(14)層刻寫出大面積亞波長氮苯聚合物表面起伏光柵,光柵的面積與擴(kuò)束后的激光束光斑面積相當(dāng),光柵的周期可以通過偶氮苯聚合物薄膜的厚度和/或激發(fā)的導(dǎo)模來調(diào)節(jié),所刻寫的光柵 可通過加熱或圓偏振光輻照來擦除,進(jìn)而進(jìn)行重新刻寫。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),其特征在于,所述的偶氮苯聚合物薄膜具有寬光譜響應(yīng)范圍,所述的激光光源(I)可采用可見光波段或紫外波段的激光,如:532nm激光,442nm激光或355nm激光。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),其特征在于,金屬薄膜(13)蒸鍍在玻璃基底(12)上,偶氮苯聚合物薄膜(14)旋涂在金屬薄膜(13)上,玻璃基底(12)通過匹配油(11)與棱鏡(10)粘結(jié),并與棱鏡(10) 一起放置在光波導(dǎo)參數(shù)測量儀(15)的中心。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),其特征在于,通過起偏器(6)的起偏方向確定激發(fā)導(dǎo)模的激光束的偏振方向,通過半波片(5)的快軸方向與起偏器(6 )的起偏方向之間的夾角改變激光束的強(qiáng)度。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),其特征在于,所用偶氮苯聚合物薄膜(14)的厚度在百納米量級,且其厚度可以通過偶氮苯聚合物的濃度以及涂膠速度進(jìn)行有效控制。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),其特征在于,在低強(qiáng)度激光條件下利用光波導(dǎo)參數(shù)測量儀(15)測量反射光光強(qiáng)曲線,進(jìn)而確定激發(fā)的導(dǎo)波模式及其對應(yīng)的激發(fā)角;在高強(qiáng)度激光條件下刻寫偶氮苯聚合物表面起伏光柵。
      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),其特征在于,刻寫的偶氮苯聚合物表面起伏光柵為亞波長光柵,且其周期可以通過偶氮苯聚合物薄膜(14)的厚度和/或激發(fā)的導(dǎo)模進(jìn)行有效調(diào)控。
      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),其特征在于,光刻介質(zhì)為偶氮苯聚合物薄膜(14),曝光后無需顯影、定影工藝,且刻寫的光柵可通過加熱或圓偏振光擦除,進(jìn)而進(jìn)行重新刻寫。
      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),其特征在于,利用導(dǎo)模干涉場刻寫偶氮苯聚合物表面起伏光柵,光場能量主要分布在偶氮苯聚合物薄膜(14)層,從而使 得光刻所需時間有效減少。
      專利摘要本實(shí)用新型公開了一種基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機(jī),包括激光光源,光電快門,透鏡,半波片,起偏器,分束器,平面反射鏡,棱鏡,匹配油,玻璃基底,金屬薄膜,偶氮苯聚合物薄膜,光波導(dǎo)參數(shù)測量儀。激光光源發(fā)出的光擴(kuò)束后,經(jīng)半波片,起偏器后,成為所需的偏振光,經(jīng)分束鏡后成為強(qiáng)度相等的兩束,被平面反射鏡反射后,以相同的導(dǎo)模激發(fā)角輻照到金屬薄膜上,并激發(fā)多層結(jié)構(gòu)中的導(dǎo)模,兩束導(dǎo)模的干涉導(dǎo)致偶氮苯聚合物的質(zhì)量遷移,從而刻寫出亞波長表面起伏光柵。本實(shí)用新型基于導(dǎo)模干涉場,偶氮苯聚合物薄膜,實(shí)現(xiàn)了大面積亞波長表面起伏光柵的刻寫,光刻時間短,工藝簡單,無需顯影、定影,且刻寫的光柵可擦除和重構(gòu)。
      文檔編號G03F7/20GK203149265SQ20132001801
      公開日2013年8月21日 申請日期2013年1月14日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月14日
      發(fā)明者王向賢, 張斗國, 朱良富, 陳漪愷, 胡繼剛, 王沛, 明海 申請人:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)
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