專利名稱：Uv轉(zhuǎn)印微透鏡陣列的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于構(gòu)成微透鏡防偽標(biāo)識的UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列，具體地說，是涉及一種制作在UV固化材料表面上的浮雕形狀二元相位微透鏡陣列。
背景技術(shù)：
在專利“微透鏡防偽標(biāo)識”(專利號:201020143542.1)中提供了一種采用微透鏡陣列的防偽標(biāo)識，即由微透鏡陣列與微圖文陣列重疊組成的雙層圖形復(fù)合結(jié)構(gòu)防偽標(biāo)識。專利“微透鏡防偽標(biāo)識”中提供的微透鏡陣列制作工藝是，將設(shè)計(jì)的微透鏡陣列圖案制作成光刻膠母版，經(jīng)過電鑄金屬版，利用模壓、熱壓等已有技術(shù)將微透鏡陣列浮雕結(jié)構(gòu)制作在透明的薄膜或薄片表面上。這種由模壓、熱壓等工藝直接制作在薄膜或薄片表面上的浮雕型微透鏡陣列存在易磨損，易污染的缺點(diǎn)，并且還有生產(chǎn)效率低的問題。
發(fā)明內(nèi)容為了克服采用模壓、熱壓等工藝直接制作在薄膜或薄片表面上的微透鏡陣列的不足，本實(shí)用新型提供一種采用UV(紫外線)轉(zhuǎn)印工藝制作在UV固化材料表面上的微透鏡陣列。它具有UV固化材料的耐磨損，抗污染特性，并可采用生產(chǎn)能力高的UV轉(zhuǎn)印設(shè)備來提高生產(chǎn)效率。
·[0005]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:通過UV轉(zhuǎn)印工藝和設(shè)備，將制作在轉(zhuǎn)移膜上的微透鏡陣列浮雕圖案，轉(zhuǎn)印到UV固化材料的表面上，固化成型，制作成具有浮雕形狀的UV轉(zhuǎn)印二元相位微透鏡陣列。UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列的制作工藝流程:首先將設(shè)計(jì)的微透鏡陣列圖案用制版設(shè)備制作成光刻膠母版，再將光刻膠母版電鑄為金屬鎳版，再經(jīng)拼版、模壓等工藝，將微透鏡陣列圖案制作在轉(zhuǎn)移膜上。然后將轉(zhuǎn)移膜安裝在UV轉(zhuǎn)印設(shè)備上，通過UV轉(zhuǎn)印設(shè)備將轉(zhuǎn)移膜上的微透鏡陣列圖案，轉(zhuǎn)印到透明基材表面涂敷的UV固化材料層的表面上，經(jīng)固化成型，制作成具有浮雕形狀的UV轉(zhuǎn)印二元相位微透鏡陣列。UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列的基本結(jié)構(gòu)包括:透明基材(一般是透明塑料片或透明塑料薄膜)，透明基材表面涂敷的一層UV固化材料(俗稱UV光油)，uv固化材料層表面固化成型的微透鏡陣列浮雕圖案。UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列可用于分體式微透鏡防偽標(biāo)識。這種情況下的透明基材一般選用厚度為0.5毫米至I毫米的片材。UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列也可用于復(fù)合一體式微透鏡防偽標(biāo)識。這種情況下的透明基材一般選用厚度為數(shù)十微米至100微米的卷材。UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列中的微透鏡排列方式有兩種。一種是專利“微透鏡防偽標(biāo)識”(專利號:201020143542.1)中提供的按照正方形方式排列的微透鏡陣列。另一種是專利“一種用于構(gòu)成微透鏡防偽標(biāo)識的微透鏡陣列”(專利號:201220325232.0)中提供的按照正三角形方式排列的微透鏡陣列。具體排列方式在微透鏡陣列設(shè)計(jì)時確定。[0011]用UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列觀察相應(yīng)的微圖文陣列，具有微圖文放大效果和立體動態(tài)識別特征。本實(shí)用新型的有益效果是，在UV固化材料表面上制作的UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列具有耐磨損，抗污染特性。采用生產(chǎn)能力高的UV轉(zhuǎn)印設(shè)備能夠有效提高生產(chǎn)效率。特別適合于產(chǎn)品推廣，應(yīng)用前景良好。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。


圖1是UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是一種UV轉(zhuǎn)印的按照正方形方式排列的微透鏡陣列圖案。圖3是一種UV轉(zhuǎn)印的按照正三角形方式排列的微透鏡陣列圖案。
具體實(shí)施方式
UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列的結(jié)構(gòu)如
圖1所示。圖中，I為透明基材，2為透明基材表面上涂敷的UV固化材料層，3為經(jīng)過UV轉(zhuǎn)印在UV固化材料層表面固化成型的微透鏡陣列浮雕圖案。實(shí)施例1:用UV轉(zhuǎn)印工藝設(shè)備，將圖2所示的一種按照正方形方式排列的二元相位微透鏡陣列制作在UV固化材料層表面上，固化成型為微透鏡陣列浮雕圖案。實(shí)施例2:用UV轉(zhuǎn)印工藝設(shè)備，將圖3所示的一種按照正三角形方式排列的二元相位微透鏡陣列制作在UV固 化材料層表面上，固化成型為微透鏡陣列浮雕圖案。實(shí)施例1和實(shí)施例2中的微透鏡陣列的排列方式不同，這在微透鏡陣列圖案設(shè)計(jì)時已經(jīng)確定，后續(xù)的制作過程都是一樣的。首先按照微透鏡陣列的設(shè)計(jì)圖案利用制版設(shè)備制作微透鏡陣列的光刻膠母版，再將光刻膠母版電鑄為金屬鎳版，再經(jīng)拼版、模壓等工藝，將微透鏡陣列圖案制作在轉(zhuǎn)移膜上。然后將制作有微透鏡陣列圖案的轉(zhuǎn)移膜安裝在UV轉(zhuǎn)印設(shè)備上，通過UV轉(zhuǎn)印設(shè)備將轉(zhuǎn)移膜上的微透鏡陣列圖案，轉(zhuǎn)印到透明基材表面涂敷的UV固化材料層的表面上，固化成型，制作成具有浮雕形狀的UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列。透明基材表面涂敷UV固化材料層的工藝和UV固化成型、剝離等工藝，由UV轉(zhuǎn)印設(shè)備自動完成。采用生產(chǎn)能力高的的UV轉(zhuǎn)印設(shè)備能夠有效提高生產(chǎn)效率。
權(quán)利要求1.一種用于構(gòu)成微透鏡防偽標(biāo)識的UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列，其特征是:在UV固化材料表面上形成的浮雕形狀二元相位微透鏡陣列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于構(gòu)成微透鏡防偽標(biāo)識的UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列，其特征是:基本結(jié)構(gòu)包括:透明基材，透明基材表面涂敷的一層UV固化材料，UV固化材料層表面固化成型的微透鏡陣列浮雕圖案。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于構(gòu)成微透鏡防偽標(biāo)識的UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列，其特征是:陣列中的微透鏡的排列方式是按照正方形方式排列。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于構(gòu)成微透鏡防偽標(biāo)識的UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列，其特征是:陣列中的微透鏡 的排列方式是按照正三角形方式排列。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于構(gòu)成微透鏡防偽標(biāo)識的UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列。采用UV轉(zhuǎn)印工藝和設(shè)備，將微透鏡陣列浮雕圖案，制作到UV固化材料的表面上。UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列的基本結(jié)構(gòu)包括透明基材，透明基材表面涂敷的一層UV固化材料，UV固化材料層表面固化成型的微透鏡陣列浮雕圖案。UV轉(zhuǎn)印微透鏡陣列具有UV固化材料的耐磨損，抗污染特性，并能夠采用生產(chǎn)能力高的UV轉(zhuǎn)印設(shè)備來提高生產(chǎn)效率。
文檔編號G02B3/00GK203133302SQ20132007391
公開日2013年8月14日 申請日期2013年2月17日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月17日
發(fā)明者侯德勝, 趙容宇 申請人:侯德勝, 趙容宇