專利名稱：光刻膠前烘裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及顯示裝置生產(chǎn)過程中的光刻膠前烘(Soft Bake)處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光刻膠前烘裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示器(Liquid Crystal Display, LCD)由于具有畫面穩(wěn)定、圖像逼真、消除輻射、節(jié)省空間以及節(jié)省能耗等優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)已占據(jù)了平面顯示領(lǐng)域的主導(dǎo)地位。TFT-1XD(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶體管液晶顯示器)是目前主流的液晶顯示器，而薄膜晶體管(Thin Film Transistor，TFT)陣列基板以及彩膜基板是其顯示面板的主要構(gòu)成部件。陣列基板以及彩膜基板的制備工藝過程往往關(guān)系著整個(gè)顯示裝置的良率。在陣列基板以及彩膜基板的生產(chǎn)工藝中，光刻工藝是非常重要的；其中必用到的光刻膠是指經(jīng)過紫外光、電子束、離子束、Y射線等照射或輻射后，其溶解度會發(fā)生變化的一種耐蝕薄膜材料,也稱為光致抗蝕劑,光刻膠由樹脂、光敏物質(zhì)和有機(jī)溶劑等成分組成。在光刻膠涂布工藝完成后，接下來要進(jìn)行真空減壓干燥處理以及光刻膠前烘處理。真空減壓干燥裝置以及光刻膠前烘裝置通常設(shè)置在光刻膠涂布機(jī)的下游，其主要作用是進(jìn)一步除去涂布光刻膠中的有機(jī)溶劑以及增強(qiáng)光刻膠與基板的粘著力，防止曝光區(qū)域在顯影時(shí)因粘著力不夠而發(fā)生膜脫落造成不良。在光刻膠前烘處理完成后，接著進(jìn)行曝光、后烘以及顯影處理等。在顯影裝置下游通常設(shè)置有AOI (Automatic Optic Inspection,自動(dòng)光學(xué)檢測)外觀檢查機(jī),其用以檢測mura (不均)、particle (微粒)以及異物等；鈉燈檢測裝置通常也設(shè)置在顯影裝置下游，其用于檢測顯影mura等。但是，對于光刻膠涂布工藝完成之后到光刻膠前烘處理完成之間的過程產(chǎn)生的mura以及其·他缺陷往往很難檢測到，并且無法補(bǔ)救，這樣就可能會造成產(chǎn)品良率的下降。

實(shí)用新型內(nèi)容(一)要解決的技術(shù)問題本實(shí)用新型的目的在于提供一種對于光刻膠涂布工藝完成之后到光刻膠前烘處理完成之間的過程產(chǎn)生的mura以及其他缺陷進(jìn)行檢測并且補(bǔ)救的光刻膠前烘裝置，用于提聞顯不裝置的廣品良率。(二)技術(shù)方案本實(shí)用新型技術(shù)方案如下:一種光刻膠前烘裝置，包括熱板以及控制機(jī)構(gòu)，還包括分別與所述控制機(jī)構(gòu)通信連接的檢測光刻膠涂層上缺陷的缺陷檢測機(jī)構(gòu)以及修復(fù)所述缺陷的缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)；所述控制機(jī)構(gòu)接收所述缺陷檢測機(jī)構(gòu)的檢測結(jié)果并根據(jù)所述檢測結(jié)果啟動(dòng)所述缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)進(jìn)行缺陷修復(fù)。優(yōu)選的，所述缺陷檢測機(jī)構(gòu)包括光學(xué)增強(qiáng)元件。[0012]優(yōu)選的，所述光學(xué)增強(qiáng)元件包括顯微鏡和/或監(jiān)測燈。優(yōu)選的，所述監(jiān)測燈為鈉燈。優(yōu)選的，所述缺陷檢測機(jī)構(gòu)連接驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述缺陷檢測機(jī)構(gòu)在所述光刻膠涂層上方運(yùn)動(dòng)。優(yōu)選的，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括CDA氣缸。優(yōu)選的，所述缺陷檢測機(jī)構(gòu)與邊緣光刻膠去除裝置連接并隨所述邊緣光刻膠去除裝置移動(dòng)。優(yōu)選的，所述缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)包括真空減壓機(jī)。(三)有益效果本實(shí)用新型的一種光刻膠前烘裝置通過設(shè)置分別與現(xiàn)有技術(shù)中光刻膠前烘裝置的控制機(jī)構(gòu)連接的缺陷檢測機(jī)構(gòu)以及缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)，這樣就能夠通過缺陷檢測機(jī)構(gòu)檢測光刻膠涂布工藝完成之后到光刻膠前烘處理完成之間的過程產(chǎn)生的mura以及其他缺陷，并且通過缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)根據(jù)檢測結(jié)果補(bǔ)救檢測到的缺陷；因此，本實(shí)用新型的一種光刻膠前烘裝置能夠在很大程度上提高顯示裝置的產(chǎn)品良率，具有良好的應(yīng)用前景。

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例中光刻膠前烘裝置的機(jī)構(gòu)連接示意圖；圖2是本實(shí)用新 型實(shí)施例中光刻膠前烘裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中，1:基板；2:邊緣光刻膠去除裝置；3:真空減壓機(jī)；4:監(jiān)測燈。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例，對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
做進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于說明本實(shí)用新型，但不用來限制本實(shí)用新型的范圍?，F(xiàn)有技術(shù)中的光刻膠前烘裝置包括熱板以及控制機(jī)構(gòu)等，本實(shí)用新型所提供的光刻膠前烘裝置如圖1中所示，其主要改進(jìn)之處在于還設(shè)置了分別與控制機(jī)構(gòu)通信連接的檢測光刻膠涂層上缺陷的缺陷檢測機(jī)構(gòu)以及修復(fù)所述缺陷的缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)；缺陷檢測機(jī)構(gòu)用來檢測光刻膠涂布工藝完成之后到光刻膠前烘處理完成之間的過程產(chǎn)生的mura以及其他缺陷，例如減壓干燥過程中因減壓氣流不均造成氣流在光刻膠涂層表面形成的鼓包缺陷等；檢測完畢后，缺陷檢測機(jī)構(gòu)記錄檢測結(jié)果并發(fā)送至控制機(jī)構(gòu)，控制機(jī)構(gòu)接收缺陷檢測機(jī)構(gòu)發(fā)送的檢測結(jié)果并根據(jù)檢測結(jié)果啟動(dòng)缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)，缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)用來修復(fù)檢測到的缺陷。為了保證缺陷檢測機(jī)構(gòu)檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性，本實(shí)施例中的缺陷檢測機(jī)構(gòu)包括光學(xué)增強(qiáng)元件。進(jìn)一步地，光學(xué)增強(qiáng)元件可以包括顯微鏡和/或監(jiān)測燈等，用以放大或者增強(qiáng)缺陷的顯示效果。為了便于安裝和節(jié)省設(shè)備空間，顯微鏡和/或監(jiān)測燈的尺寸應(yīng)盡可能小，例如采用微型顯微鏡和/或微型監(jiān)測燈等，在此不做限定。特別的，監(jiān)測燈可以為鈉燈。為進(jìn)一步便于安裝和節(jié)省設(shè)備空間，以便利于實(shí)時(shí)監(jiān)測，優(yōu)選監(jiān)測燈為微型鈉燈。通過鈉燈能夠更加清晰地看到色差比較小的物體，因此本實(shí)施例中的缺陷檢測機(jī)構(gòu)主要為鈉燈。[0028]為了方便缺陷檢測機(jī)構(gòu)全面的獲取光刻膠表面缺陷信息，本實(shí)用新型中的缺陷檢測機(jī)構(gòu)還連接驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，通過驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)缺陷檢測機(jī)構(gòu)在光刻膠涂層上方運(yùn)動(dòng)，從而精確的獲取光刻膠表面各處的缺陷信息。其中，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可以為電機(jī)驅(qū)動(dòng)也可以為氣動(dòng)驅(qū)動(dòng)；例如，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可以為壓縮干燥空氣(Compressed Dry Air, CDA)氣缸。在實(shí)際生產(chǎn)線中，在減壓干燥過程之后還需要進(jìn)行邊緣光刻膠去除的過程，用于去除光刻膠涂層邊緣的大塊顆粒，因此，現(xiàn)有的生產(chǎn)線中，在光刻膠前烘裝置的上游均設(shè)置有邊緣光刻膠去除裝置(EBR，Edge Bead Removal);本實(shí)用新型中的缺陷檢測機(jī)構(gòu)與邊緣光刻膠去除裝置連接并隨邊緣光刻膠去除裝置移動(dòng)；這樣缺陷檢測機(jī)構(gòu)可以隨著邊緣光刻膠去除裝置刮邊過程的進(jìn)行而全面且精確的獲取光刻膠表面各處的缺陷信息，同時(shí)無需設(shè)置新的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，節(jié)省了成本，簡化了光刻膠前烘裝置的結(jié)構(gòu)。如圖2中所示，在涂覆有光刻膠的基板I邊緣設(shè)置有邊緣光刻膠去除裝置2，在邊緣光刻膠去除裝置2上設(shè)置有監(jiān)測燈4，監(jiān)測燈4可以隨著邊緣光刻膠去除裝置2刮邊過程的進(jìn)行而全面且精確的獲取光刻膠表面各處的缺陷信息。其中，缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)包括如圖2中所示的真空減壓機(jī)3 ;真空減壓機(jī)可以使光刻膠涂層表面形成的鼓包缺陷由于負(fù)壓而得到修復(fù)；真空減壓機(jī)可以單獨(dú)設(shè)置，也可以利用現(xiàn)有真空熱板系統(tǒng)中的真空減壓機(jī)，利用現(xiàn)有真空熱板系統(tǒng)中的真空減壓機(jī)不但精簡了整個(gè)光刻膠前烘裝置的結(jié)構(gòu)，而且達(dá)到一機(jī)多用的效果，節(jié)省了成本。在缺陷修復(fù)之后，再通過熱板進(jìn)行正式的光刻膠前烘處理；這樣由于沒有缺陷或者僅有極少量的缺陷，產(chǎn)品的良率可以得到大大的提升。以上實(shí)施方式僅用于說明本實(shí)用新型，而并非對本實(shí)用新型的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所 有等同的技術(shù)方案也屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范疇。
權(quán)利要求1.一種光刻膠前烘裝置，包括熱板以及控制機(jī)構(gòu)，其特征在于，還包括分別與所述控制機(jī)構(gòu)通信連接的檢測光刻膠涂層上缺陷的缺陷檢測機(jī)構(gòu)以及修復(fù)所述缺陷的缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)；所述控制機(jī)構(gòu)接收所述缺陷檢測機(jī)構(gòu)的檢測結(jié)果并根據(jù)所述檢測結(jié)果啟動(dòng)所述缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)進(jìn)行缺陷修復(fù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠前烘裝置，其特征在于，所述缺陷檢測機(jī)構(gòu)包括光學(xué)增強(qiáng)元件。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光刻膠前烘裝置，其特征在于，所述光學(xué)增強(qiáng)元件包括顯微鏡和/或監(jiān)測燈。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻膠前烘裝置，其特征在于，所述監(jiān)測燈為鈉燈。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任意一項(xiàng)所述的光刻膠前烘裝置，其特征在于，所述缺陷檢測機(jī)構(gòu)連接驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所 述缺陷檢測機(jī)構(gòu)在所述光刻膠涂層上方運(yùn)動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻膠前烘裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括CDA氣缸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-4任意一項(xiàng)所述的光刻膠前烘裝置，其特征在于，所述缺陷檢測機(jī)構(gòu)與邊緣光刻膠去除裝置連接并隨所述邊緣光刻膠去除裝置移動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-4或6任意一項(xiàng)所述的光刻膠前烘裝置，其特征在于，所述缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)包括真空減壓機(jī)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光刻膠前烘裝置，其特征在于，所述缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)包括真空減壓機(jī)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及顯示裝置生產(chǎn)過程中的光刻膠前烘(Soft Bake)處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光刻膠前烘裝置。該前烘裝置包括熱板、控制機(jī)構(gòu)、分別與所述控制機(jī)構(gòu)通信連接的檢測光刻膠涂層上缺陷的缺陷檢測機(jī)構(gòu)以及修復(fù)所述缺陷的缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)；所述控制機(jī)構(gòu)接收所述缺陷檢測機(jī)構(gòu)的檢測結(jié)果并根據(jù)所述檢測結(jié)果啟動(dòng)所述缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)進(jìn)行缺陷修復(fù)。本實(shí)用新型的一種光刻膠前烘裝置能夠通過缺陷檢測機(jī)構(gòu)檢測光刻膠涂布工藝完成之后到光刻膠前烘處理完成之間的過程產(chǎn)生的mura以及其他缺陷，并且通過缺陷修復(fù)機(jī)構(gòu)根據(jù)檢測結(jié)果補(bǔ)救檢測到的缺陷；因此，本實(shí)用新型的一種光刻膠前烘裝置能夠提高顯示裝置的產(chǎn)品良率，具有良好的應(yīng)用前景。
文檔編號G03F7/38GK203117642SQ20132012634
公開日2013年8月7日 申請日期2013年3月19日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月19日
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