金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及一種金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片。目前，普遍使用的光纖結(jié)構(gòu)衰減片包括中間的纖芯，以及外部依次包裹的包層、涂覆層和保護(hù)層，這種結(jié)構(gòu)增加了制作和使用成本，體積大。需要制作體積小、重量輕、精確度高、穩(wěn)定可靠、使用方便是人們對(duì)光衰減器的基本要求的光衰減片。一種金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片，其組成包括：二氧化硅基片（1），所述的二氧化硅基片表面蒸鍍金屬膜（2），所述的金屬膜為鋁膜、銅膜或鉻膜中的一種。本實(shí)用新型應(yīng)用于光衰減片。
【專(zhuān)利說(shuō)明】金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片
[0001]【技術(shù)領(lǐng)域】:
[0002]本實(shí)用新型涉及一種金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片。
[0003]【背景技術(shù)】:
[0004]光纖通信系統(tǒng)中，光衰減器(Optical Attenuator, 0A)是發(fā)展最早的無(wú)源器件之一。隨著寬帶光纖通信網(wǎng)絡(luò)，特別是全光網(wǎng)絡(luò)的快速發(fā)展，各國(guó)都投入大量的人力與物力研制性能更高的光衰減器。目前，普遍使用的光纖結(jié)構(gòu)包括中間的纖芯，以及外部依次包裹的包層、涂覆層和保護(hù)層，這種結(jié)構(gòu)增加了制作和使用成本，體積大。需要制作體積小、重量輕、精確度高、穩(wěn)定可靠、使用方便是人們對(duì)光衰減器的基本要求的光衰減片。
[0005]
【發(fā)明內(nèi)容】
:
[0006]本實(shí)用新型的目的是提供一種金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片。
[0007]上述的目的通過(guò)以下的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
[0008]—種金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片，其組成包括:二氧化硅基片，所述的二氧化硅基片表面蒸鍍金屬膜，所述的金屬膜為鋁膜、銅膜或鉻膜中的一種。
[0009]所述的金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片，所述的金屬膜為鋁膜時(shí)，其表面的粗糙度Ra值為4.076nm ;所述的金屬膜為銅膜時(shí)，其表面的粗糙度Ra值為3.950nm ;所述的金屬膜為鉻膜時(shí)，其表面的粗糙度Ra值為7.076nm。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果:
[0011]本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，在二氧化硅玻璃基片表面蒸鍍金屬薄膜，因?yàn)檎婵照翦兘饘黉X、銅、鉻得到薄膜為微米級(jí)，蒸鍍金屬薄膜堆積的顆粒為納米顆粒，所以其在二氧化硅表面的分布均勻、排列致密、連續(xù)性好，得到的蒸鍍金屬鍍膜的光衰減片的透光率在
0.06-0.01之間，具有良好的光衰減效果。
[0012]【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】:
[0013]附圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]【具體實(shí)施方式】:
[0015]實(shí)施例1:
[0016]一種金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片，其組成包括:二氧化硅基片1，所述的二氧化硅基片表面蒸鍍金屬膜2，所述的金屬膜為鋁膜、銅膜或鉻膜中的一種。
[0017]實(shí)施例2:
[0018]根據(jù)實(shí)施例1所述的金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片，所述的金屬膜為鋁膜時(shí)，其表面的粗糙度Ra值為4.076nm ;所述的金屬膜為銅膜時(shí)，其表面的粗糙度Ra值為
3.950nm ;所述的金屬膜為鉻膜時(shí)，其表面的粗糙度Ra值為7.076nm。
[0019]實(shí)施例3:
[0020]根據(jù)實(shí)施例1或2所述的金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片，采用真空蒸發(fā)鍍膜法制備金屬/鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片，首先，利用電阻式蒸發(fā)源DM-300B型真空鍍膜機(jī)，保持真空度在1.3X10-2Pa以上，轟擊電壓為150V-210V，旋轉(zhuǎn)電壓為30V-50V，烘烤電壓為100V-160V的條件下進(jìn)行真空蒸鍍。其次，完成真空度與源基距的確定:[0021]在室溫!* = 29&Τ ,氣體分子直徑<J=3jxlO_scm時(shí)，由氣體分子動(dòng)力學(xué)得氣體分子平均自由程I，可表示為:
【權(quán)利要求】
1.一種金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片，其組成包括:二氧化硅基片，其特征是:所述的二氧化硅基片表面蒸鍍金屬膜，所述的金屬膜為鋁膜、銅膜或鉻膜中的一種。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬鍍膜的二氧化硅玻璃光衰減片，其特征是:所述的金屬膜為鋁膜時(shí)，其表面的粗糙度Ra值為4.076nm ;所述的金屬膜為銅膜時(shí)，其表面的粗糙度Ra值為3.950nm ;所述的金屬膜為鉻膜時(shí)，其表面的粗糙度Ra值為7.076nm。
【文檔編號(hào)】G02B6/26GK203587834SQ201320776953
【公開(kāi)日】2014年5月7日 申請(qǐng)日期:2013年12月2日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月2日
【發(fā)明者】湯卉, 李磊, 張劍峰 申請(qǐng)人:哈爾濱理工大學(xué)