移動(dòng)體裝置、曝光裝置、平面顯示器的制造方法、及元件制造方法
【專利摘要】本發(fā)明的基板載臺(tái)裝置（20A)，具備延伸于掃描方向（X軸方向）、能移動(dòng)于掃描交叉方向（Y軸方向）的位置的第1步進(jìn)導(dǎo)件（50)，被第1步進(jìn)導(dǎo)件（50)從下方支承、能沿第1步進(jìn)導(dǎo)件（50)上面移動(dòng)于沿掃描方向的位置且與第1步進(jìn)導(dǎo)件（50)一起移動(dòng)于沿掃描交叉方向的位置的微動(dòng)載臺(tái)(30)，以及以第2步進(jìn)導(dǎo)件（54)的上面為基準(zhǔn)面并使用設(shè)于微動(dòng)載臺(tái)（30)的Z感測(cè)器（38z)求出微動(dòng)載臺(tái)（30)的Z傾斜位置信息的位置測(cè)量系。
【專利說(shuō)明】移動(dòng)體裝置、曝光裝置、平面顯示器的制造方法、及元件制 造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是關(guān)于移動(dòng)體裝置、曝光裝置、平面顯示器的制造方法、及元件制造方法， 詳言之，是關(guān)于使移動(dòng)體沿既定二維平面移動(dòng)的移動(dòng)體裝置、具備前述移動(dòng)體裝置的曝光 裝置、及使用前述曝光裝置的平面顯示器的制造方法、以及使用前述曝光裝置的元件制造 方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 一直以來(lái)，于制造液晶顯示元件、半導(dǎo)體元件等電子元件的光刻工藝中，是使用將 形成于掩膜（或標(biāo)線片）的圖案以能量束轉(zhuǎn)印至玻璃基板（或晶圓）上的曝光裝置。
[0003] 作為此種曝光裝置，一種具有保持基板的微動(dòng)載臺(tái)被重量抵消裝置從下方支承、 且引導(dǎo)該重量抵消裝置往掃描交叉（cross scan)方向的移動(dòng)的導(dǎo)件，可與重量抵消裝置一 起移動(dòng)于掃描方向的基板載臺(tái)裝置者廣為人知（例如,參照專利文獻(xiàn)1)。
[0004] 隨著近年基板的大型化，基板載臺(tái)裝置亦有大型化而重量增加的傾向。
[0005] 先行技術(shù)文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn)
[0007] 專利文獻(xiàn)1 :美國(guó)專利申請(qǐng)公開第2〇10/0266961號(hào)說(shuō)明書
【發(fā)明內(nèi)容】
[0008] 用以解決課題的手段
[0009] 本發(fā)明有鑒于上述情事而為，第1觀點(diǎn)的一種移動(dòng)體裝置，具備：導(dǎo)件，延伸于既 定二維平面內(nèi)的第1方向，能在該二維平面內(nèi)移動(dòng)于沿與該第1方向正交的第2方向的位 置；移動(dòng)體，被該導(dǎo)件從下方支承，能沿以該導(dǎo)件規(guī)定的第1面移動(dòng)于沿該第1方向的位 置、且能與該導(dǎo)件一起移動(dòng)于沿該第2方向的位置；以及位置測(cè)量系，將以和該導(dǎo)件不同的 另一構(gòu)件所規(guī)定的第2面作為基準(zhǔn)面，求出該移動(dòng)體在與該二維平面交叉的方向的位置信 息。
[0010] 根據(jù)此發(fā)明，由于第2面是基準(zhǔn)面，因此導(dǎo)件的第1面無(wú)需要求精度。因此，能使 導(dǎo)件的構(gòu)成簡(jiǎn)單，而能使移動(dòng)體裝置小型化、輕量化。
[0011] 本發(fā)明第2觀點(diǎn)的移動(dòng)體裝置，具備：導(dǎo)件，延伸于既定二維平面內(nèi)的第1方向，能 在該二維平面內(nèi)移動(dòng)于沿與該第1方向正交的第2方向的位置；移動(dòng)體，被該導(dǎo)件從下方支 承，能沿以該導(dǎo)件規(guī)定的導(dǎo)引面移動(dòng)于沿該第1方向的位置、且能與該導(dǎo)件一起移動(dòng)于沿 該第2方向的位置；以及驅(qū)動(dòng)裝置，設(shè)于該導(dǎo)件，將該移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)于與該二維平面交叉的方 向。
[0012] 根據(jù)此發(fā)明，由于導(dǎo)件是將移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)于與二維平面交叉的方向，因此與另設(shè)置 驅(qū)動(dòng)裝置將移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)于與二維平面交叉的方向的情形相較，能使構(gòu)成簡(jiǎn)單，而能使移動(dòng) 體裝置小型化、輕量化。 0013一 i發(fā)明弟3觀點(diǎn)的移動(dòng)體裝置，具備：第1移動(dòng)構(gòu)件，延伸于既定二維平面內(nèi)的第 H向，i匕在該一維平面內(nèi)移動(dòng)于沿與該第1方向正交的第2方向的位置；第2移動(dòng)構(gòu)件， 該弟1移動(dòng)構(gòu)件，能沿該第！移動(dòng)構(gòu)件移動(dòng)于沿該S i方向的位置、且能與該第i移動(dòng) 構(gòu)件一起移動(dòng)于該第2方向；以及移動(dòng)體，被該第1移動(dòng)構(gòu)件從下方支承，被該第2移動(dòng)構(gòu) 件誘導(dǎo)而沿該二維平面移動(dòng)。 根據(jù)此發(fā)明，由于沿二維平面誘導(dǎo)移動(dòng)體的第2移動(dòng)構(gòu)件，可沿從下方支承移動(dòng) 體的第1移動(dòng)構(gòu)件移動(dòng)于第1方向、且能與第1移動(dòng)構(gòu)件一起沿第2方向移動(dòng)，因此裝置構(gòu) 成簡(jiǎn)單。
[0015]本發(fā)明第4觀點(diǎn)的曝光裝置，具備：于前述移動(dòng)體保持既定物體的本發(fā)明第1?第 3觀點(diǎn)中任一的移動(dòng)體裝置、以及于前述移動(dòng)體所保持的前述物體使用能量束形成既定圖 案的圖案形成裝置。
[0016]本發(fā)明第5觀點(diǎn)的平面顯示器的制造方法，包含：使用本發(fā)明第4觀點(diǎn)的曝光裝置 使i u述物體曝光的動(dòng)作，以及使曝光后的前述物體顯影的動(dòng)作。
[0017]本發(fā)明第6觀點(diǎn)的元件制造方法，包含：使用本發(fā)明第4觀點(diǎn)的曝光裝置使前述物 體曝光的動(dòng)作，以及使曝光后的前述物體顯影的動(dòng)作。
【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0018] 圖1為概略顯示第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的構(gòu)成的圖。
[0019] 圖2為圖1的液晶曝光裝置所具有的基板載臺(tái)裝置的側(cè)視圖。
[0020]圖3為圖1的液晶曝光裝置所具有的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。
[0021] 圖4中A部分為圖3的基板載臺(tái)裝置的B _ B線剖面圖、圖4中B部分為從圖4 中A部分的基板載臺(tái)裝置拿掉部分要素的圖。
[0022] 圖5為第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之1)的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。
[0023] 圖6中A部分為圖5的C _ C線剖面圖、圖6中B部分為從圖6中A部分的基板 載臺(tái)裝置拿掉部分要素的圖。
[0024] 圖7為顯示第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之2)的基板載臺(tái)裝置的圖。
[0025] 圖8為圖7的基板載臺(tái)裝置的D - D線剖面圖。
[0026] 圖9為顯示第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之3)的基板載臺(tái)裝置的圖。
[0027] 圖10用以說(shuō)明圖9的基板載臺(tái)裝置的動(dòng)作的圖。
[0028] 圖11為顯示第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之4)的基板載臺(tái)裝置的圖。
[0029] 圖12為顯示第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之5)的基板載臺(tái)裝置的圖。
[0030] 圖13為顯示第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置的圖。
[0031] 圖14為圖13的基板載臺(tái)裝置的E - E線剖面圖。
[0032] 圖15為圖13的基板載臺(tái)裝置的俯視圖。
[0033] 圖16為圖15的基板載臺(tái)裝置的F - F線剖面圖。
[0034] 圖17為顯示圖13的基板載臺(tái)裝置中的Z感測(cè)器的配置的圖。
[0035] 圖18為顯示第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之1)的基板載臺(tái)裝置的圖。
[0036] 圖19為圖18的G-G線剖面圖。
[0037] 圖20為顯示第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之2)的基板載臺(tái)裝置的圖。
[0038]圖21為顯示第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之3)的基板載臺(tái)裝置的圖。
[0039]圖22為圖21的Η - Η線剖面圖。
[0040]圖23為顯示第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之4)的基板載臺(tái)裝置的圖。
[0041]圖24為圖23的I - I線剖面圖。
【具體實(shí)施方式】 _2]《第1實(shí)施形態(tài)》
[0043] 以下，依據(jù)圖丨?圖4中Β部分說(shuō)明第1實(shí)施形態(tài)。
[0044]圖1中概略的了第1實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10的構(gòu)成。液晶曝光裝置10例如 以用于液晶顯示裝置（平面顯示器）等的矩形（方形）玻璃基板ρ (以下，簡(jiǎn)稱基板Ρ)為 曝光對(duì)象物的步進(jìn)掃描（Step&scan)方式的投影曝光裝置、所謂的掃描機(jī)。
[0045]液晶曝光裝置1〇,具有照明系12、保持形成有電路圖案（掩膜圖案）的掩膜μ的 掩膜載臺(tái)14、投影光學(xué)系16、裝置本體18、保持表面（圖1中朝向+Ζ側(cè)的面）涂有光阻劑 (感應(yīng)劑）的基板Ρ的基板載臺(tái) 2〇Α、以及此等的控制系等。以下，將曝光時(shí)掩膜μ與基板ρ 相對(duì)投影光學(xué)系I6分別被掃描的方向設(shè)為X軸方向、水平面內(nèi)與X軸正交的方向?yàn)棣幂S方 向、與X軸及Υ軸正交的方向?yàn)棣S方向，并以繞X軸、Υ軸及Ζ軸旋轉(zhuǎn)的方向分別為Θ X、 及θζ方向來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。
[0046]照明系I2,具有與例如美國(guó)專利第5, 729, 331號(hào)說(shuō)明書等所揭示的照明系相同的 構(gòu)成。照明系12將曝光用的照明光IL照射于掩膜Μ。作為照明光IL，是使用例如i線（波 長(zhǎng)365nm)、g線（波長(zhǎng)436nm)、h線（波長(zhǎng)4〇 5nm)等的光（或上述i線、g線、h線的合成 光）。
[0047]掩膜載臺(tái)裝置14具有由中央部形成有開口部的板狀構(gòu)件構(gòu)成的掩膜載臺(tái)14a。掩 膜載臺(tái)14a將插入上述開口部?jī)?nèi)的掩膜Μ的外周緣部以支承手14b加以吸附保持。掩膜 載臺(tái)14a搭載在固定于作為裝置本體18 -部分的鏡筒平臺(tái)18a的一對(duì)載臺(tái)導(dǎo)件14c上， 被例如以包含線性馬達(dá)的掩膜載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系（未圖示）以既定長(zhǎng)行程驅(qū)動(dòng)于掃描方向 （χ軸 方向）、并被適當(dāng)?shù)匚Ⅱ?qū)動(dòng)于Y軸方向及θζ方向。掩膜載臺(tái)14a的XY平面內(nèi)的位置信息 (含θζ方向的旋轉(zhuǎn)量信息）是通過(guò)固定于鏡筒平臺(tái) 18a的掩膜干涉儀14d，使用固定于掩 膜載臺(tái)14a的棒狀反射鏡14e加以求出。于掩膜千涉儀 14d，分別包含多個(gè)X掩膜干涉儀與 Y掩膜千涉儀，于棒狀反射鏡14e分別包含與X掩膜干涉儀對(duì)應(yīng)的X棒狀反射鏡及與γ掩膜 干涉儀對(duì)應(yīng)的Y棒狀反射鏡，但圖1中僅代表性的顯示γ掩膜干涉儀及 Y棒狀反射鏡。 [0048]投影光學(xué)系16配置在掩膜載臺(tái)14a下方、被支承于鏡筒平臺(tái)18a。投影光學(xué)系16 與例如美國(guó)專利第6, 552, 775號(hào)說(shuō)明書所揭示的投影光學(xué)系同樣構(gòu)成。亦即，投影光學(xué)系 16包含掩膜Μ的圖案像的投影區(qū)域配置成齒狀的多個(gè)投影光學(xué)系（多透鏡投影光學(xué)系）， 與具有以Υ軸方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)方形狀單一像場(chǎng)的投影光學(xué)系具同等功能。本實(shí)施形態(tài) 中，作為多個(gè)投影光學(xué)系的各個(gè)，是使用例如兩側(cè)遠(yuǎn)心的等倍系且形成正立正像者。
[0049]因此，當(dāng)以來(lái)自照明系12的照明光IL照明掩膜Μ上的照明區(qū)域時(shí)，即通過(guò)通過(guò)掩 膜Μ的照明光，通過(guò)投影光學(xué)系16將該照明區(qū)域內(nèi)的掩膜Μ的電路圖案的投影像（部分正 立像），形成在被保持于基板載臺(tái) 2〇的基板Ρ上與照明區(qū)域共軛的照明光的照射區(qū)域（曝 光區(qū)域）。接著，通過(guò)掩膜載臺(tái)裝置14與基板載臺(tái)裝置20Α的同步驅(qū)動(dòng)，相對(duì)照明區(qū)域（照 明光IL)使掩膜Μ移動(dòng)于掃描方向，并通過(guò)使基板P相對(duì)曝光區(qū)域（照明光IL)移動(dòng)于掃 描方向，據(jù)以進(jìn)行基板P上的1個(gè)照射（shot)區(qū)域的掃描曝光，將形成于掩膜Μ的圖案轉(zhuǎn) 印至該照射區(qū)域。亦即，于液晶曝光裝置10,是通過(guò)照明系12及投影光學(xué)系16于基板Ρ上 生成掩膜Μ的圖案，以照明光IL使基板Ρ上的感應(yīng)層（抗蝕層）曝光據(jù)以在基板Ρ上形成 該圖案。
[0050] 裝置本體18具備鏡筒平臺(tái)18a、一對(duì)側(cè)柱18b、及基板載臺(tái)架臺(tái)1此。鏡筒平臺(tái)18a 由與XY平面平行的板狀構(gòu)件構(gòu)成，支承上述掩膜載臺(tái)裝置14及投影光學(xué)系16。一對(duì)側(cè)柱 18b，其中一方從下方支承鏡筒平臺(tái)18a的+Y側(cè)端部近旁，另一方則從下方支承鏡筒平臺(tái) 18a的一 Y側(cè)端部近旁。側(cè)柱18b由與XZ平面的平行板狀構(gòu)件構(gòu)成，通過(guò)防振裝置18d設(shè) 置在無(wú)塵室的地面11上。據(jù)此，裝置本體18(及掩膜載臺(tái)裝置14、投影光學(xué)系16)即相對(duì) 地面11在振動(dòng)上分離。
[0051] 基板載臺(tái)架臺(tái)18c由與XY平面平行的板狀構(gòu)件構(gòu)成，架設(shè)在一對(duì)側(cè)柱18b的下端 部近旁間。如圖2所示，基板載臺(tái)架臺(tái)18c于Y軸方向以既定間隔設(shè)有多個(gè)（本第1實(shí)施 形態(tài)中，例如2個(gè)）。于基板載臺(tái)架臺(tái)18c的上面，如圖3所示，延伸于Y軸方向的Y線性導(dǎo) 件19a于X軸方向以既定間隔固定有多支（例如2支）。
[0052] 基板載臺(tái)裝置20A，具有多個(gè)（例如3個(gè)）底座22、一對(duì)X樑24、粗動(dòng)載臺(tái)28、微 動(dòng)載臺(tái)30(圖3中未圖示。參照?qǐng)D1)、重量抵消裝置40、第1步進(jìn)導(dǎo)件50、一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo) 件54、及標(biāo)的物用載臺(tái)60。
[0053] 例如3個(gè)底座22,分別由延伸于Y軸方向的與YZ平面平行的板狀構(gòu)件構(gòu)成，于X 軸方向以既定間隔彼此平行的配置。又，圖1相當(dāng)于圖2的A_A線剖面圖，但為避免圖面 的錯(cuò)綜復(fù)雜，省略了底座22的圖示。例如3個(gè)底座22中，第1底座22于+)(側(cè)的基板載臺(tái) 架臺(tái)18c的+X側(cè)、第2底座22于一X側(cè)的基板載臺(tái)架臺(tái)18c的一X側(cè)、第3底座22則于 例如2個(gè)基板載臺(tái)架臺(tái)18c之間，分別相對(duì)基板載臺(tái)架臺(tái)18c在通過(guò)既定間隙的狀態(tài)下設(shè) 置于地面11 (參照?qǐng)D2)上。于多個(gè)底座22各個(gè)的上端面（+Z側(cè)端部）固定有延伸于Y軸 方向的Y線性導(dǎo)件23a。
[0054] 一對(duì)X梁24分別由延伸于X軸方向的YZ剖面矩形的構(gòu)件構(gòu)成，于Y軸方向以既定 間隔彼此平行配置。一對(duì)X梁24于長(zhǎng)邊方向的兩端部近旁及中央部，分別被底座22從下 方支承。一對(duì)X梁24,如圖2所示，于其下面的長(zhǎng)邊方向兩端部近旁分別通過(guò)延伸于Y軸方 向的板狀構(gòu)件構(gòu)成的連接構(gòu)件24a而彼此連接。此外，于X梁24下面的長(zhǎng)邊方向中央部， 安裝有間隔件24b。于連接構(gòu)件24a及間隔件24b的下面固定有與上述Y線性導(dǎo)件23a滑 動(dòng)自如地卡合的Y滑件23b。據(jù)此，一對(duì)X梁24即在多個(gè)底座22上被直進(jìn)引導(dǎo)于Y軸方 向。又，一對(duì)X梁24是以未圖示的Y致動(dòng)器（例如線性馬達(dá)、進(jìn)給螺桿裝置等）于多個(gè)底 座22上以既定行程驅(qū)動(dòng)于Y軸方向。此處，一對(duì)X梁24的下面的Z位置較固定在上述基 板載臺(tái)架臺(tái)18c上面的Y線性導(dǎo)件ig a的上端部的z位置更位于+Z側(cè)，一對(duì)X梁24相對(duì) 基板載臺(tái)架臺(tái)18c(亦即，裝置本體18)在振動(dòng)上分離。
[0055] 于一對(duì)X梁24各個(gè)的上面，如圖3所示，固定有延伸于X軸方向的X線性導(dǎo)件25。 又，于一對(duì)X梁24各個(gè)的兩側(cè)面，固定有包含于X軸方向以既定間隔排列的多個(gè)永久磁石 的X固定子26a。
[0056] 粗動(dòng)載臺(tái)28由俯視（從+Z方向觀察）矩形的板狀構(gòu)件構(gòu)成，搭載在上述一對(duì)X 梁24上。于粗動(dòng)載臺(tái)28的中央部形成有開口部28a。于粗動(dòng)載臺(tái)28的下面，如圖4中A 部分所示，固定有多個(gè)與上述X線性導(dǎo)件25a滑動(dòng)自如地卡合、與該X線性導(dǎo)件25a -起構(gòu) 成X線性導(dǎo)件裝置25的X滑件25b (針對(duì)一個(gè)X線性導(dǎo)件25a，例如有4個(gè)）。據(jù)此，粗動(dòng) 載臺(tái)28即在一對(duì)X梁24上被直進(jìn)引導(dǎo)于X軸方向。
[0057] 又，于粗動(dòng)載臺(tái)2S下面的上述開口部28a+Y側(cè)的區(qū)域、及一Y側(cè)區(qū)域的各個(gè)，通過(guò) 固定板27與上述X固定子26a對(duì)向安裝有一對(duì)X可動(dòng)子26b。X可動(dòng)子26b具有線圈單元， 與對(duì)應(yīng)的X固定子26a -起構(gòu)成用以將粗動(dòng)載臺(tái)28在一對(duì)X梁24上驅(qū)動(dòng)于X軸方向的X 線性馬達(dá)26。此外，粗動(dòng)載臺(tái)28通過(guò)上述X線性導(dǎo)件裝置25的作用，使其相對(duì)一對(duì)X梁 24往Y軸方向的移動(dòng)受到限制，而與一對(duì)X梁24 -體的往Y軸方向移動(dòng)。亦即，一對(duì)X梁 24與粗動(dòng)載臺(tái)28構(gòu)成所謂的龍門（gantry)式的雙軸載臺(tái)裝置。
[0058] 回到圖1，微動(dòng)載臺(tái)30由低高度的長(zhǎng)方體狀構(gòu)件構(gòu)成，配置在粗動(dòng)載臺(tái)28上方。 于微動(dòng)載臺(tái)30的上面，固定有基板保持具32?；灞３志?2將裝載于其上面的基板P，以 例如真空吸附方式加以吸附保持。又，圖3中，為避免圖面的錯(cuò)綜復(fù)雜，省略了微動(dòng)載臺(tái)30 及基板保持具32的圖示。于微動(dòng)載臺(tái)30的一 Y側(cè)側(cè)面，通過(guò)鏡座33固定有具有與Y軸正 交的反射面的Y棒狀反射鏡34y。此外，于微動(dòng)載臺(tái)30的一 X側(cè)側(cè)面，如圖2所示，通過(guò)鏡 座33固定有具有與X軸正交的反射面的X棒狀反射鏡34x。
[0059] 微動(dòng)載臺(tái)3〇被包含多個(gè)音圈馬達(dá)的微動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系于粗動(dòng)載臺(tái)28上微驅(qū)動(dòng)于3 自由度方向（X軸、Y軸、θζ方向），多個(gè)音圈馬達(dá)由固定于粗動(dòng)載臺(tái)28的固定子與固定于 微動(dòng)載臺(tái)30的可動(dòng)子構(gòu)成。于多個(gè)音圈馬達(dá)中，包含例如2個(gè)X音圈馬達(dá)36χ(圖1中未 圖示）、及例如2個(gè)Υ音圈馬達(dá)36y (圖2中未圖示。參照?qǐng)D1)。又，圖2中，例如2個(gè)X音 圈馬達(dá)36x是于紙面深度方向重疊。此外，圖1中，例如2個(gè)Y音圈馬達(dá)36y是于紙面深度 方向重疊。
[0060] 微動(dòng)載臺(tái)3〇通過(guò)上述多個(gè)音圈馬達(dá)產(chǎn)生的推力（電磁力），以非接觸方式被粗動(dòng) 載臺(tái)28誘導(dǎo)，據(jù)此，與該粗動(dòng)載臺(tái)28 -起以既定行程移動(dòng)于X軸方向、及/或γ軸方向。 又，微動(dòng)載臺(tái)30亦被多個(gè)音圈馬達(dá)相對(duì)粗動(dòng)載臺(tái)28適當(dāng)?shù)奈Ⅱ?qū)動(dòng)于上述3自由度方向。 [0061] 又，微動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系，如圖1所示，具有用以將微動(dòng)載臺(tái)30微驅(qū)動(dòng)于θχ、0y、及 Z軸方向的3自由度方向的多個(gè)Z音圈馬達(dá)36z。多個(gè)Z音圈馬達(dá)36z，是配置在例如對(duì)應(yīng) 微動(dòng)載臺(tái)30的四角部的位置（圖1中，僅顯示4個(gè)Z音圈馬達(dá)36z中的2個(gè)，另2個(gè)隱藏 在紙面內(nèi)側(cè)）。包含多個(gè)音圈馬達(dá)、微動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系的構(gòu)成，以揭露于例如美國(guó)專利公開第 2010/0018950 號(hào)說(shuō)明書。
[0062] 微動(dòng)載臺(tái)30的X位置信息，如圖2所示，是通過(guò)被稱為干涉儀柱I8e的構(gòu)件固定 于裝置本體1S的X激光干涉儀38x，使用X棒狀反射鏡34x加以求出。又，微動(dòng)載臺(tái)3〇的 Y位置信息，如圖1所示，則是通過(guò)固定于裝置本體18的Y激光干涉儀38y,使用Y棒狀反 射鏡34y加以求出。X激光千涉儀 38x及Y激光干涉儀38y分別設(shè)有多個(gè)（圖1及圖2中 分別于紙面深度方向重疊），而能求出微動(dòng)載臺(tái)30的θ z位置信息。
[0063] 微動(dòng)載臺(tái)3〇的z軸、θ X及Θ y方向的位置（以下，稱z傾斜位置）信息，如圖4 中A部分所示，是以安裝在微動(dòng)載臺(tái)3〇下面的多個(gè)（例如，4個(gè)）z感測(cè)器38z,使用后述標(biāo) 的物用載臺(tái) 6〇加以求出。例如4個(gè)Z感測(cè)器382繞2軸以既定間隔配置。于基板載臺(tái)裝 置20A,是根據(jù)上述多個(gè)Z感測(cè)器3?的輸出的平均值求出微動(dòng)載臺(tái) 30的z位置信息，根據(jù) 上述多個(gè)Z感測(cè)器38z的輸出差求出微動(dòng)載臺(tái)30的θχ及0y方向的旋轉(zhuǎn)量信息。z感測(cè) 器38z的種類并無(wú)特別限定，可使用例如激光變位計(jì)、激光干涉儀等。
[0064] 重量抵消裝置40,如圖4中A部分所示，是通過(guò)后述調(diào)平裝置46從下方支承微動(dòng) 載臺(tái)30。重量抵消裝置40插入粗動(dòng)載臺(tái)28的開口部28a內(nèi)，由后述第1步進(jìn)導(dǎo)件50從下 方支承。重量抵消裝置40,于其下端部具有空氣軸承42,通過(guò)從該空氣軸承42對(duì)第1步進(jìn) 導(dǎo)件50的上面噴出的加壓氣體（例如空氣）的靜壓，于第1步進(jìn)導(dǎo)件50上隔著既定間隙 懸浮。又，圖4中A部分雖相當(dāng)于圖3的B - B線剖面圖，但為避免圖面的錯(cuò)綜復(fù)雜，省略 了底座22的圖示。
[0065] 本實(shí)施形態(tài)的重量抵消裝置40,具有與例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開第2010/0018950 號(hào)說(shuō)明書所揭示的重量抵消裝置相同的構(gòu)成及功能。亦即，重量抵消裝置40,具有例如未 圖示的空氣彈簧，通過(guò)該空氣彈簧產(chǎn)生的重力方向朝上（+Z方向）的力，抵消包含微動(dòng)載臺(tái) 3〇、基板保持具32等系的重量（因重量加速度而產(chǎn)生的朝下（一 Z方向）的力），據(jù)此，在 進(jìn)行微動(dòng)載臺(tái)的Z傾斜位置控制時(shí)，降低上述多個(gè)Z音圈馬達(dá)36z的負(fù)荷。
[0066] 重量抵消裝置40,在與其重心的Z位置大致相同Z位置（重心高度），通過(guò)多個(gè)、例 如4個(gè)撓曲（flexure)裝置44機(jī)械性的連接于粗動(dòng)載臺(tái)28。本實(shí)施形態(tài)的撓曲裝置44， 具有與例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開第2010/0018950號(hào)說(shuō)明書所揭示的撓曲裝置相同的構(gòu)成及 功能。亦即，撓曲裝置44包含例如與XY平面平行配置的薄厚度的帶狀鋼板、與設(shè)在該鋼板 兩端部的鉸接裝置（例如球接頭），上述鋼板通過(guò)鉸接裝置架設(shè)在重量抵消裝置40與粗動(dòng) 載臺(tái)28之間。
[0067] 撓曲裝置44,如圖3所示，于重量抵消裝置40的+X側(cè)、一 X側(cè)、+Y側(cè)及_ Y側(cè)的 各處，將重量抵消裝置40與粗動(dòng)載臺(tái)28[加以連結(jié)。據(jù)此，當(dāng)粗動(dòng)載臺(tái)28往X軸方向及/ 或Y軸方向移動(dòng)時(shí)，重量抵消裝置40即通過(guò)多個(gè)撓曲裝置44的至少一個(gè)被粗動(dòng)載臺(tái)28牽 弓丨，據(jù)以和該粗動(dòng)載臺(tái)28 -體的移動(dòng)于X軸方向及/或Y軸方向。
[0068] 回到圖4中A部分，調(diào)平裝置46包含座體46a與球部46b的球面軸承裝置，從下 方將微動(dòng)載臺(tái)30支承為于ΘΧ及0y方向擺動(dòng)（傾斜動(dòng)作）自如，并與微動(dòng)載臺(tái)30-體 的沿XY平面移動(dòng)。調(diào)平裝置46,通過(guò)安裝于重量抵消裝置40的未圖示的空氣軸承被重量 抵消裝置40從下方以非接觸方式支承，而能容許相對(duì)重量抵消裝置40沿水平面方向的移 動(dòng)。又，若能從下方將微動(dòng)載臺(tái)30支承為傾斜動(dòng)作自如的話，作為調(diào)平裝置，亦可使用例如 美國(guó)專利申請(qǐng)公開第 2〇10/0018950號(hào)說(shuō)明書所揭示的仿球面軸承裝置。
[0069] 第1步進(jìn)導(dǎo)件50,如圖3所示，由延伸于X軸方向與XY平面平行的板狀構(gòu)件構(gòu)成， 例如配置在2個(gè)基板載臺(tái)架臺(tái)18c上。第1步進(jìn)導(dǎo)件50的長(zhǎng)邊方向尺寸，被設(shè)定為較微動(dòng) 載臺(tái)3〇于X軸方向的移動(dòng)行程略長(zhǎng)。又，第1步進(jìn)導(dǎo)件50的寬度方向（Y軸方向）尺寸被 設(shè)定為較重量抵消裝置40的設(shè)置面積略寬。第1步進(jìn)導(dǎo)件50的上面，其平面度被做成非 常高且與XY平面（水平面）平行，具有上述重量抵消裝置40 (及微動(dòng)載臺(tái)30)往X軸方向 移動(dòng)時(shí)的導(dǎo)引面的功能。第1步進(jìn)導(dǎo)件50的材料雖無(wú)特別限定，但以使用例如石材（例如 輝長(zhǎng)巖等致密的石材）、或陶瓷、鑄鐵等來(lái)形成較佳。
[0070] 于第1步進(jìn)導(dǎo)件5〇的下面，如圖4中B部分所示，固定有多個(gè)（針對(duì)一個(gè)Y線性 導(dǎo)件19a，例如2個(gè)）滑動(dòng)自如地卡合于上述γ線性導(dǎo)件 19a的Y滑件19b。據(jù)此，第1步 進(jìn)導(dǎo)件50即沿著多個(gè)Y線性導(dǎo)件19a被直進(jìn)引導(dǎo)于Y軸方向。
[0071] 于第1步進(jìn)導(dǎo)件50的+X側(cè)端部，如圖3所示，于Y軸方向以既定間隔固定有一對(duì) 連接構(gòu)件50a。第1步進(jìn)導(dǎo)件50,其+Υ側(cè)的連接構(gòu)件50a通過(guò)撓曲裝置52連接于+Υ側(cè)的 X梁24, 一 Y側(cè)的連接構(gòu)件50a則通過(guò)撓曲裝置52連接于一 Y側(cè)的X梁24。于第1步進(jìn)導(dǎo) 件50的一 X側(cè)端部亦同樣的固定有一對(duì)連接構(gòu)件52a，通過(guò)該一對(duì)連接構(gòu)件52a，第1步進(jìn) 導(dǎo)件50通過(guò)撓曲裝置52連接于一對(duì)X梁24的各個(gè)。撓曲裝置52,如圖4中A部分所示， 在與第1步進(jìn)導(dǎo)件50的重心的Z位置大致相同z位置（重心高度），將第1步進(jìn)導(dǎo)件50與 X梁24加以連接。
[0072] 撓曲裝置52的構(gòu)成，與將上述重量抵消裝置40與粗動(dòng)載臺(tái)28加以連接的撓曲裝 置44大致相同。亦即，撓曲裝置52,包含延伸于γ軸方向與XY平面平行的薄厚度鋼板、與 設(shè)在該鋼板兩端部的鉸接裝置（例如球接頭），上述鋼板通過(guò)鉸接裝置架設(shè)在第1步進(jìn)導(dǎo) 件50與X梁24之間。因此，第1步進(jìn)導(dǎo)件50與X梁24,于Y軸方向是連接成一體（高剛 性），相對(duì)于此，于其他5自由度方向（Χ、Ζ、θ χ、0y、ΘΖ)則在振動(dòng)上分離。
[0073] 于基板載臺(tái)裝置2〇Α，為了將基板Ρ往X軸方向以既定行程加以驅(qū)動(dòng)，當(dāng)粗動(dòng)載臺(tái) 2S被驅(qū)動(dòng)于X軸方向時(shí)，重量抵消裝置40即被粗動(dòng)載臺(tái)28牽引而于第1步進(jìn)導(dǎo)件50上 往X軸方向移動(dòng)。又，為了將基板Ρ往Υ軸方向以既定行程加以驅(qū)動(dòng)，當(dāng)一對(duì)X梁24被驅(qū) 動(dòng)于Υ軸方向時(shí)，重量抵消裝置40即被粗動(dòng)載臺(tái)28牽引而往Υ軸方向移動(dòng)。此時(shí)，由于一 對(duì)X梁 24與第1步進(jìn)導(dǎo)件50 -體的移動(dòng)于Υ軸方向（重量抵消裝置40與第1步進(jìn)導(dǎo)件 50不于Υ軸方向相對(duì)移動(dòng)），因此不會(huì)產(chǎn)生重量抵消裝置40從第1步進(jìn)導(dǎo)件50脫落的情 形。因此，第1步進(jìn)導(dǎo)件50的寬度方向（Υ軸方向）尺寸，只要是能引導(dǎo)重量抵消裝置40 往X軸方向的移動(dòng)程度的最低限尺寸即可，可形成為輕量。
[0074] 一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54分別由延伸于X軸方向的ΥΖ剖面矩形的板狀構(gòu)件構(gòu)成，例 如配置在2個(gè)基板載臺(tái)架臺(tái)18c之上。一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54,其中的一方于第1步進(jìn)導(dǎo)件 5〇的+Y側(cè)、另一方于第1步進(jìn)導(dǎo)件50的一 Y側(cè)，分別相對(duì)第1步進(jìn)導(dǎo)件50隔著既定間隙 彼此平行配置。
[0075] 第2步進(jìn)導(dǎo)件54的長(zhǎng)邊方向尺寸，如圖3所示，雖被設(shè)定為與第1步進(jìn)導(dǎo)件50大 致相同，但寬度方向（Y軸方向）尺寸則被設(shè)定為較第1步進(jìn)導(dǎo)件50窄。又，如圖4中B部 分所示，第2步進(jìn)導(dǎo)件54的厚度方向尺寸，被設(shè)定為與第1步進(jìn)導(dǎo)件50大致相同。于第2 步進(jìn)導(dǎo)件 54的下面固定有滑動(dòng)自如地卡合于上述Y線性導(dǎo)件19a的Y滑件19c。據(jù)此，第 2步進(jìn)導(dǎo)件54即沿著多個(gè)Y線性導(dǎo)件19a被直進(jìn)引導(dǎo)于Y軸方向。
[0076]第2步進(jìn)導(dǎo)件54的上面被加工成具有非常高的平面度而與XY平面（水平面）平 行，具有后述標(biāo)的物用載臺(tái)6〇往X軸方向移動(dòng)時(shí)的導(dǎo)引面的功能。第2步進(jìn)導(dǎo)件54的材 料雖無(wú)特別限定，但使用例如石材（例如輝長(zhǎng)巖等致密的石材）、或陶瓷、鑄鐵、鋁合金等來(lái) 形成較佳。
[0077] -對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54,如圖4中A部分所示，通過(guò)YZ剖面U字狀構(gòu)件構(gòu)成的連結(jié) 構(gòu)件56 -體連結(jié)。第1步進(jìn)導(dǎo)件50通過(guò)既定間隙插入連結(jié)構(gòu)件56的一對(duì)對(duì)向面間。連結(jié) 構(gòu)件56,如圖2所示，于X軸方向以既定間隔設(shè)有多個(gè)（本第〖實(shí)施形態(tài)中，例如為 4個(gè)）。 [0078]于第2步進(jìn)導(dǎo)件54的長(zhǎng)邊方向（+X側(cè)及一 X側(cè)）兩端部，如圖3所示，分別固定有 連接構(gòu)件54a。+Y側(cè)的第2步進(jìn)導(dǎo)件54,其上述連接構(gòu)件54a通過(guò)撓曲裝置58連接于+Y 側(cè)的X梁24, 一 Y側(cè)的第2步進(jìn)導(dǎo)件54,其上述連接構(gòu)件54a通過(guò)撓曲裝置58連接于一 Y 側(cè)的X梁24。撓曲裝置58的構(gòu)成，與連接上述第1步進(jìn)導(dǎo)件50與X梁24的撓曲裝置52 大致相同。據(jù)此，當(dāng)一對(duì)X梁24往Y軸方向移動(dòng)時(shí)，第1步進(jìn)導(dǎo)件50及一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件 54即與一對(duì)X梁24 -體的往Y軸方向移動(dòng)。
[0079] 標(biāo)的物用載臺(tái)60配置在一對(duì)X梁24之間，搭載在一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54上。標(biāo)的 物用載臺(tái)60,如圖4中B部分所示，具有上部環(huán)61、下部環(huán)62、連接構(gòu)件63、多個(gè)標(biāo)的物64 及多個(gè)空氣軸承65。
[0080] 上部環(huán)61，如圖3所示，由中央形成開口部的圓板狀構(gòu)件構(gòu)成。下部環(huán)62由與上 述上部環(huán)61大致相同外徑尺寸及內(nèi)徑尺寸形成（惟厚度較上部環(huán)61薄）圓板狀構(gòu)件構(gòu) 成，如圖4中B部分所示，配置在上部環(huán)61的下方（圖3中，是相對(duì)上部環(huán)61隱藏在紙面 內(nèi)側(cè)）。上述重量抵消裝置40插入上部環(huán)61及下部環(huán)62各個(gè)的開口部?jī)?nèi)。連接構(gòu)件63 插入上部環(huán)61的下面與下部環(huán)62的上面之間，將上部環(huán) 61與下部環(huán)62連接成一體。又， 下部環(huán)62,其直徑可較上部環(huán)61小，上部環(huán)61較粗動(dòng)載臺(tái)28位于+Z側(cè)，其直徑可較粗動(dòng) 載臺(tái)28的開口部大。
[0081] 本第1實(shí)施形態(tài)中，對(duì)應(yīng)上述多個(gè)Z感測(cè)器38z，例如4個(gè)標(biāo)的物64,如圖3所示， 于θζ方向（繞Z軸）以既定間隔、且位于對(duì)應(yīng)的Z感測(cè)器38z正下方的方式，固定在上部 環(huán)61的上面。標(biāo)的物64的種類，以根據(jù)Z感測(cè)器38z的種類選擇較佳。作為Z感測(cè)器38z， 例如在使用三角測(cè)量方式的反射型激光變位感測(cè)器的情形時(shí)，于標(biāo)的物64使用白色陶瓷 較佳，作為Z感測(cè)器38z，例如在使用垂直反射方式的反射型激光變位感測(cè)器的情形時(shí)，標(biāo) 的物64則使用反射鏡較佳（可對(duì)上部環(huán)ei的上面施以鏡面加工而省略標(biāo)的物 64)。標(biāo)的 物64,考慮微動(dòng)載臺(tái)30相對(duì)粗動(dòng)載臺(tái)28微驅(qū)動(dòng)時(shí)的移動(dòng)量（測(cè)量光束不會(huì)脫離標(biāo)的物） 來(lái)設(shè)定面積。
[0082]多個(gè)（本第1實(shí)施形態(tài)中,例如為4個(gè)）空氣軸承65,是于ΘΖ方向（繞Z軸）以 既定間隔固定在下部環(huán)62的下面。例如4個(gè)空氣軸承65中、2個(gè)空氣軸承65的氣體噴出 面（軸承面）對(duì)向于一方（+Υ側(cè)）的第2步進(jìn)導(dǎo)件54的上面，另外2個(gè)空氣軸承65的氣 體噴出面則對(duì)向于另一方（_ Υ側(cè)）的第2步進(jìn)導(dǎo)件54的上面。標(biāo)的物用載臺(tái)60,如圖4 中Β部分所示，是通過(guò)從上述多個(gè)空氣軸承65對(duì)對(duì)應(yīng)的第 2步進(jìn)導(dǎo)件54噴出的加壓氣體 (例如空氣）的靜壓，通過(guò)既定間隙懸浮在一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54上。
[0083] 標(biāo)的物用載臺(tái)60,如圖3所示，是通過(guò)多個(gè)撓曲裝置66連結(jié)于粗動(dòng)載臺(tái)28。撓曲 裝置66的構(gòu)成，與連接上述重量抵消裝置40與粗動(dòng)載臺(tái)28的撓曲裝置44大致相同（不 過(guò)，相對(duì)于多個(gè)撓曲裝置44與X軸或γ軸平行地（俯視呈+字狀）配置，多個(gè)撓曲裝置66 則延伸于與X軸或Υ軸、例如成45。角度的方向）。
[0084]基板載臺(tái)裝置2〇Α，為了將基板ρ以既定行程驅(qū)動(dòng)于X軸方向，當(dāng)粗動(dòng)載臺(tái)28被驅(qū) 動(dòng)于X軸方向時(shí)，標(biāo)的物用載臺(tái)60即被粗動(dòng)載臺(tái)28牽引而在一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54上移動(dòng) 于X軸方向。又，為了將基板Ρ既定行程驅(qū)動(dòng)于γ軸方向，當(dāng)一對(duì)X梁24被驅(qū)動(dòng)于Υ軸方 向時(shí)，標(biāo)的物用載臺(tái)60即被粗動(dòng)載臺(tái)28牽引而移動(dòng)于Υ軸方向。此時(shí)，由于一對(duì)X梁24 與一對(duì)第 2步進(jìn)導(dǎo)件54 -體的移動(dòng)于γ軸方向（標(biāo)的物用載臺(tái)60與一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54 不相對(duì)移動(dòng)于Υ軸方向），因此不會(huì)產(chǎn)生標(biāo)的物用載臺(tái) 60從一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54脫落的情 形。
[0085]又，由于微動(dòng)載臺(tái)30是被粗動(dòng)載臺(tái)28誘導(dǎo)而移動(dòng)于X軸、及/或Υ軸方向，因此標(biāo) 的物用載臺(tái)60與微動(dòng)載臺(tái)3〇為一體的移動(dòng)于X軸、及/或γ軸方向。因此，z感測(cè)器38z 可與微動(dòng)載臺(tái)30的XY平面內(nèi)位置無(wú)關(guān)的，使用對(duì)應(yīng)的標(biāo)的物64求出微動(dòng)載臺(tái)30的Z位 置信息。
[0086] 以上述方式構(gòu)成的液晶曝光裝置10 (參照?qǐng)D1)，在未圖不的主控制裝置的管理 下，以未圖示的掩膜裝載器進(jìn)行掩膜μ往掩膜載臺(tái)14上的裝載、并通過(guò)未圖示的基板裝載 器進(jìn)行基板Ρ往基板保持具32上的搬入（裝載）。之后，由主控制裝置使用未圖示的對(duì)準(zhǔn) 檢測(cè)系實(shí)施對(duì)準(zhǔn)測(cè)量，在該對(duì)準(zhǔn)測(cè)量結(jié)束后，對(duì)設(shè)定在基板Ρ上的多個(gè)照射區(qū)域逐次進(jìn)行 步進(jìn)掃描（step&scan)方式的曝光動(dòng)作。由于此曝光動(dòng)作與現(xiàn)有的步進(jìn)掃描方式的曝光動(dòng) 作相同，因此省略其詳細(xì)說(shuō)明。
[0087] 于上述曝光動(dòng)作時(shí)、對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作時(shí)，在基板載臺(tái)裝置20A，通過(guò)鏡筒平臺(tái)18a的下面、 固定在投影光學(xué)系16近旁的多個(gè)感測(cè)器15 (自動(dòng)聚焦感測(cè)器），求出基板P表面的Z位置 信息，根據(jù)該多個(gè)感測(cè)器15的輸出，使用多個(gè)Z音圈馬達(dá)36z進(jìn)行微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位 置控制，以使基板P上的曝光區(qū)域的Z位置位在投影光學(xué)系16的焦深內(nèi)。
[0088] 根據(jù)以上說(shuō)明的本實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20A，由于求出微動(dòng)載臺(tái)30的Z位置 信息時(shí)所使用的標(biāo)的物64,是安裝在與重量抵消裝置40為不同的另一構(gòu)件的標(biāo)的物用載 臺(tái)60,因此與將標(biāo)的物64安裝于重量抵消裝置40的情形相較，可使重量抵消裝置40小型 化、輕量化。此外，假設(shè)將標(biāo)的物64安裝于重量抵消裝置40時(shí)，第1步進(jìn)導(dǎo)件50上面的平 面度低的場(chǎng)合，微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位置信息的測(cè)量精度有可能將低，相對(duì)于此，于基板載 臺(tái)裝置20A，由于在求出微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位置信息時(shí)是使用搭載在一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件 54上的標(biāo)的物用載臺(tái)60,因此即使第1步進(jìn)導(dǎo)件50上面的平面度低，但由于第2步進(jìn)導(dǎo)件 54的上面具有測(cè)量基準(zhǔn)面的功能，因此微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位置信息的測(cè)量精度不會(huì)有任 何問題。
[0089] 又，由于微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位置可以多個(gè)Z音圈馬達(dá)36z高精度地加以控制， 因此即使第1步進(jìn)導(dǎo)件50上面的平面度降低，只要能確保微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位置信息 的測(cè)量精度的話，微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位置控制即能以高精度進(jìn)行。因此，無(wú)需為了確保 第1步進(jìn)導(dǎo)件50上面的平面度，而實(shí)施提高第1步進(jìn)導(dǎo)件50的剛性等的措施。因此，能使 第1步進(jìn)導(dǎo)件50小型化（薄型化）、輕量化。
[0090] 又，上述第1實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置2〇A的構(gòu)成可適當(dāng)?shù)丶右宰冃?。以下，說(shuō)明 上述第1實(shí)施形態(tài)的變形例。又，以下說(shuō)明的第1實(shí)施形態(tài)的變形例中，針對(duì)具有與上述第 1實(shí)施形態(tài)相同的構(gòu)成及功能的要件，賦予相同符號(hào)并適當(dāng)省略其詳細(xì)說(shuō)明。
[0091] 《第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之1)》
[0092] 圖5?圖6中B部分中，顯示了上述第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之1)的基板載臺(tái)裝 置20B(圖5中，未顯示微動(dòng)載臺(tái)30(參照?qǐng)D6中A部分））。
[0093] 上述第1實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20A(參照?qǐng)D4中B部分）中，微動(dòng)載臺(tái)30的Z 傾斜位置信息，是以多個(gè)Z感測(cè)器38z、使用安裝于標(biāo)的物用載臺(tái)60的標(biāo)的物Μ加以求出， 相對(duì)于此，圖6中B部分所示的基板載臺(tái)裝置20B的不同點(diǎn)在于，通過(guò)多個(gè)Z感測(cè)器38 Z，使 用一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54各個(gè)的上面求出。又，針對(duì)包含一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54的驅(qū)動(dòng)方式 的其他要件，如圖5及圖6中A部分所示，與上述第1實(shí)施形態(tài)相同。
[0094] 于Z感測(cè)器3如，例如使用三角測(cè)量方式的反射型激光變位感測(cè)器的情形時(shí)，將以 白色陶瓷形成的帶狀構(gòu)件作為標(biāo)的物（Z傾斜位置信息測(cè)量用的基準(zhǔn)面）安裝在第2步進(jìn) 導(dǎo)件54的上面較佳（亦可為了使第2步進(jìn)導(dǎo)件54本身具有標(biāo)的物的功能，而將第2步進(jìn) 導(dǎo)件54本身以陶瓷形成，亦可將陶瓷等熱噴涂于金屬表面來(lái)形成）。此外，于Z感測(cè)器 38z 使用例如垂直反射方式的反射型激光變位感測(cè)器的情形時(shí)，將可覆蓋第2步進(jìn)導(dǎo)件54上面 大致全體的帶狀鏡安裝于第2步進(jìn)導(dǎo)件54較佳（或?qū)Φ?步進(jìn)導(dǎo)件54上面的大致全體施 以鏡面加工）。
[0095]根據(jù)基板載臺(tái)裝置20B，與上述第1實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20A相較、由于不具 有標(biāo)的物用載臺(tái)60 (參照?qǐng)D3)，因此構(gòu)成簡(jiǎn)單。又，由于慣性質(zhì)量小，因此能提升粗動(dòng)載臺(tái) 28 (亦即基板P)的位置控制性。此外，亦能使用以驅(qū)動(dòng)粗動(dòng)載臺(tái)28的線性馬達(dá)小型化。再 者，由于不在第2步進(jìn)導(dǎo)件54上搭載標(biāo)的物用載臺(tái)60,因此無(wú)須施以提高第2步進(jìn)導(dǎo)件54 的剛性等的措置。是以，能使第2步進(jìn)導(dǎo)件54小型化（薄型化）、輕量化。
[0096]《第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之2)》
[0097]圖7及圖8中顯示了上述第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之2)的基板載臺(tái)裝置20C。上 述第1實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20A，如圖4中A部分所示，是在第1步進(jìn)導(dǎo)件50上由重量 抵消裝置40通過(guò)調(diào)平裝置46從下方支承微動(dòng)載臺(tái)30的構(gòu)成，相對(duì)于此，如圖8所示，基板 載臺(tái)裝置20C的相異點(diǎn)在于是在第1步進(jìn)導(dǎo)件70A上直接搭載調(diào)平裝置78。此外，雖未圖 示，第1步進(jìn)導(dǎo)件70A是與上述第1實(shí)施形態(tài)同樣的，機(jī)械性的連結(jié)于一對(duì)X梁24 (圖7及 圖8中未圖不。參照?qǐng)D1等），與一對(duì)X梁24 -體的移動(dòng)于Y軸方向。又，粗動(dòng)載臺(tái)28搭 載于一對(duì)X梁24上，于該一對(duì)X梁24上被驅(qū)動(dòng)于X軸方向并與一對(duì)X梁24 -起移動(dòng)于Y 軸方向。
[0098] 第1步進(jìn)導(dǎo)件70A，如圖7所示，具有導(dǎo)件本體71、空氣彈簧72及一對(duì)Z音圈馬達(dá) 73,亦具有重量抵消裝置及Z致動(dòng)器的功能。導(dǎo)件本體71，如圖8所示，具有下板部71a、上 板部71b及一對(duì)導(dǎo)板71c。下板部71a及上板部71b分別由延伸于X軸方向、與XY平面平 行的矩形板狀構(gòu)件構(gòu)成，于Z軸方向以既定間隔彼此平行配置。上板部71b被固定于下板 部71a的一對(duì)導(dǎo)板71c (或未圖示的線性導(dǎo)件裝置）引導(dǎo)而能相對(duì)下板部71a移動(dòng)于Z軸 方向。
[0099] 空氣彈簧72插入在下板部71a與上板部71b之間，從下方支承上板部71b的中央 部。于空氣彈簧72供應(yīng)有來(lái)自外部的加壓氣體，以將能與包含微動(dòng)載臺(tái)30 (包含調(diào)平裝置 78)之系的重量相抗衡的重力方向向上的力作用于上板部71b。又，空氣彈簧72亦可于X 軸方向以既定間隔配置多個(gè)。
[0100] 一對(duì)Z音圈馬達(dá)73,其中一方配置在第1步進(jìn)導(dǎo)件70A的+X側(cè)端部近旁，另一方 則配置在第1步進(jìn)導(dǎo)件 7〇A的一 X側(cè)端部近旁。音圈馬達(dá)73包含固定在下板部71a的固 定子73a、與固定在上板部71b的可動(dòng)子73b，在進(jìn)行微動(dòng)載臺(tái)30的Z位置控制時(shí)，將上板 部71b驅(qū)動(dòng)于Z軸方向（微動(dòng)載臺(tái)30的θ χ、及0y方向的位置控制，是與上述實(shí)施形態(tài)同 樣的通過(guò)微動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系進(jìn)行）>
[0101] 調(diào)平裝置78包含座體78a與球部78b的球面軸承裝置，從下方將微動(dòng)載臺(tái)30支 承為于θ X及Θ y方向擺動(dòng)（傾斜（tilt)動(dòng)作）自如，并與微動(dòng)載臺(tái)30 -體的沿XY平面 移動(dòng)。座體78a具有插入粗動(dòng)載臺(tái)28的開口部28a內(nèi)、氣體噴出面（軸承面）朝向一 Z側(cè) (下側(cè)）的未圖示的空氣軸承。調(diào)平裝置78,通過(guò)從座體78a對(duì)上板部71b的上面噴出的 加壓氣體（例如空氣）的靜壓，通過(guò)既定間隙懸浮在第1步進(jìn)導(dǎo)件70A上。
[0102] 微動(dòng)載臺(tái)3〇的Z傾斜位置信息，如圖8所示，與上述基板載臺(tái)裝置20B(參照?qǐng)D 5?圖6中B部分）同樣的，是以多個(gè)Z感測(cè)器38z使用第2步進(jìn)導(dǎo)件54的上面加以求出 (亦可與上述第1實(shí)施形態(tài)同樣的使用標(biāo)的物用載臺(tái)60 (參照?qǐng)D3))。
[0103] 于基板載臺(tái)裝置20C，由于能縮短粗動(dòng)載臺(tái)28上面與微動(dòng)載臺(tái)30下面的間隔，因 此基板載臺(tái)裝置20C整體的高度方向尺寸變低。又，由于慣性質(zhì)量變小，因此能提升粗動(dòng)載 臺(tái)28 (亦即基板P)的位置控制性。此外，亦能使用以驅(qū)動(dòng)粗動(dòng)載臺(tái)28的線性馬達(dá)小型化。
[0104] 《第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之3)》
[0105] 圖9中顯示了上述第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之3)的基板載臺(tái)裝置20D?；遢d臺(tái) 裝置20D與上述基板載臺(tái)裝置20C(參照?qǐng)D7及圖8)相較，第1步進(jìn)導(dǎo)件70B的構(gòu)成不同。 以下，針對(duì)相異點(diǎn)加以說(shuō)明。
[0106] 第1步進(jìn)導(dǎo)件70B包含由延伸于X軸方向的中空的長(zhǎng)方體狀（箱形）構(gòu)件構(gòu)成的 導(dǎo)件本體74、與收容在導(dǎo)件本體74內(nèi)的多個(gè)Z致動(dòng)器75。導(dǎo)件本體74,例如通過(guò)將厚度作 薄，以將上面部的剛性設(shè)定的較下面部低。多個(gè)Z致動(dòng)器75于X軸方向以既定間隔排列， 將導(dǎo)件本體74的上面部推壓向+Z側(cè)。又，Z致動(dòng)器75的種類雖無(wú)特別限定，但由于上面 部的驅(qū)動(dòng)量微小，因此可使用例如氣缸、壓電元件等。
[0107] 于基板載臺(tái)裝置20D，如圖10的示意，是通過(guò)多個(gè)Z致動(dòng)器75 (圖10中未圖示。 參照?qǐng)D9)將微動(dòng)載臺(tái)30驅(qū)動(dòng)于Z軸方向。此處，導(dǎo)件本體74的上面部由于被多個(gè)Z致動(dòng) 器75推壓而變形，相對(duì)水平面傾斜，但由于微動(dòng)載臺(tái)30是通過(guò)調(diào)平裝置78被支承，因此對(duì) 微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜控制并無(wú)障礙。又，圖10中，為易于理解，將導(dǎo)件本體74的上面部的 變形（撓曲）顯示的較實(shí)際夸張。基板載臺(tái)裝置20D,亦能獲得與上述基板載臺(tái)裝置20C相 同的效果。
[0108]《第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之4)》
[0109] 圖11中顯示了上述第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之4)的基板載臺(tái)裝置20E?；遢d 臺(tái)裝置20E，與上述基板載臺(tái)裝置20D(參照?qǐng)D9)相較，其第1步進(jìn)導(dǎo)件70C的構(gòu)成不同。 以下，僅針對(duì)相異點(diǎn)加以說(shuō)明。
[0110] 相對(duì)于上述基板載臺(tái)裝置2〇D的第1步進(jìn)導(dǎo)件70B(參照?qǐng)D9)是使用排列于X軸 方向的多個(gè)Z致動(dòng)器75將微動(dòng)載臺(tái)30驅(qū)動(dòng)于Z軸方向，如圖11所示，第1步進(jìn)導(dǎo)件70C 的相異點(diǎn)在于，是由一對(duì)凸輪裝置76將微動(dòng)載臺(tái)30驅(qū)動(dòng)于Z軸方向。
[0111] -對(duì)凸輪裝置76的其中一方在第1步進(jìn)導(dǎo)件70C的+X側(cè)端部近旁、另一方則在 第1步進(jìn)導(dǎo)件70C的一 X側(cè)端部近旁，分別插入下板部71a與上板部71b之間。凸輪裝置 76,包含通過(guò)X線性導(dǎo)件裝置76b以能移動(dòng)于X軸方向的方式搭載在固定于下板部71a的 基座板76a上的下部楔形部76c、固定在上板部71b與下部楔形部76c對(duì)向配置的上部楔形 部 76d、以及將下部楔形部76c驅(qū)動(dòng)于X軸方向的致動(dòng)器76e?；遢d臺(tái)裝置20E，亦能獲得 與上述基板載臺(tái)裝置20D相同的效果。
[0112]《第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之5)》
[0113] 圖12中顯示了上述第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之5)的基板載臺(tái)裝置20F?；遢d 臺(tái)裝置20F，與上述基板載臺(tái)裝置20C (參照?qǐng)D7及圖8)相較，其相異點(diǎn)在于，不具有調(diào)平裝 置78 (參照?qǐng)D7及圖8)及多個(gè)Z音圈馬達(dá)36z (參照?qǐng)D7)、以及第1步進(jìn)導(dǎo)件70D的構(gòu)成 不同。以下，僅針對(duì)相異點(diǎn)加以說(shuō)明。
[0114] 第1步進(jìn)導(dǎo)件70D，與上述第1步進(jìn)導(dǎo)件70A(參照?qǐng)D7及圖8)同樣的，空氣彈簧 72插入在下板部71a與上板部71b之間，以多個(gè)Z音圈馬達(dá) 73驅(qū)動(dòng)上板部71b。又，第1 步進(jìn)導(dǎo)件70D不具有如上述第1步進(jìn)導(dǎo)件70A般的導(dǎo)板He (參照?qǐng)D8)。此外，多個(gè)Z音圈 馬達(dá)73,例如是于第1步進(jìn)導(dǎo)件70D的+X側(cè)（或一 X側(cè)）端部近旁于Y軸方向以既定間 隔、例如配置有2個(gè)（圖12中于紙面深度方向重疊）。亦即，多個(gè)Z音圈馬達(dá)73是配置在 不在同一直線上的3處。
[0115] 于微動(dòng)載臺(tái)30下面的中央部安裝有軸承面朝向一Z側(cè)的空氣軸承79。微動(dòng)載臺(tái) 30通過(guò)從空氣軸承79對(duì)第1步進(jìn)導(dǎo)件70D的上面噴出的加壓氣體（例如空氣）的靜壓，通 過(guò)既定間隙（以非接觸狀態(tài)）懸浮在第1步進(jìn)導(dǎo)件70D上。
[0116] 于基板載臺(tái)裝置20F，是通過(guò)多個(gè)Z音圈馬達(dá)73將上板部71b適當(dāng)驅(qū)動(dòng)于相對(duì)Z 軸方向、及/或水平面的傾動(dòng)方向（θχ及0y方向），據(jù)以進(jìn)行微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜控制。 根據(jù)基板載臺(tái)裝置20F，與上述基板載臺(tái)裝置20C(參照?qǐng)D7及圖8)相較，其構(gòu)成可更為簡(jiǎn) 化。又，與上述基板載臺(tái)裝置20D(參照?qǐng)D9)同樣的，亦可使用多個(gè)Z致動(dòng)器75 (不過(guò)，亦需 于Y軸方向以既定間隔配置多個(gè)）使上板部71b傾動(dòng)，或與上述基板載臺(tái)裝置20E (參照?qǐng)D 11)同樣的，使用多個(gè)凸輪裝置76 (不過(guò)，需配置在不在同一直線上的3處）使上板部71b 傾動(dòng)。
[0117] 《第2實(shí)施形態(tài)》
[0118] 其次，針對(duì)第2實(shí)施形態(tài)使用圖13?圖17加以說(shuō)明。第2實(shí)施形態(tài)的液晶曝光 裝置的構(gòu)成，除基板載臺(tái)裝置20G的構(gòu)成外，與上述第1實(shí)施形態(tài)相同，因此針對(duì)具有與上 述第1實(shí)施形態(tài)相同的構(gòu)成及功能的要件，賦予相同符號(hào)并適當(dāng)省略其詳細(xì)說(shuō)明。
[0119] 如圖4中B部分所示，相較于上述第1實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20A，其第1步進(jìn) 導(dǎo)件50是通過(guò)機(jī)械性的線性導(dǎo)件裝置（Y線性導(dǎo)件19a、Y滑件19b)搭載在基板載臺(tái)架臺(tái) 18c上，如圖13所示，本第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20G的不同點(diǎn)在于，第1步進(jìn)導(dǎo)件55 搭載在一對(duì)底座80上。又，上述第1實(shí)施形態(tài)，如圖2所示，基板載臺(tái)架臺(tái)ISc例如設(shè)有 2 個(gè)，相對(duì)于此，本第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)架臺(tái)18f，如圖13所示，由一個(gè)板狀構(gòu)件構(gòu)成。因 此，基板載臺(tái)裝置20G不具有支承X梁24的長(zhǎng)邊方向中央部的底座22 (參照?qǐng)D2)。
[0120] 一對(duì)底座80中的一方在基板載臺(tái)架臺(tái)18f的+X側(cè)、基板載臺(tái)架臺(tái)ISf與底座22 之間，另一方則在基板載臺(tái)架臺(tái)18f的一 X側(cè)、基板載臺(tái)架臺(tái)18f與底座22之間，分別通過(guò) 既定間隙配置在基板載臺(tái)架臺(tái)18f及底座22。又，圖14及圖16,為避免圖面的錯(cuò)綜復(fù)雜， 省略了底座22的圖示（圖16中X梁24的圖示亦省略）。
[0121] 底座80由延伸于Y軸方向、與XZ平面平行的板狀構(gòu)件構(gòu)成（參照?qǐng)DI5)，通過(guò)支 承板81及防振裝置82設(shè)置在地面11上。第1步進(jìn)導(dǎo)件55,通過(guò)由固定在底座80的Y線 性導(dǎo)件84與固定在第1步進(jìn)導(dǎo)件55下面的Y滑件19b構(gòu)成的Y線性導(dǎo)件裝置搭載在一對(duì) 底座80上，能于Y軸方向以既定行程移動(dòng)。因此，第1步進(jìn)導(dǎo)件 55相對(duì)裝置本體18及一 對(duì)底座22是在振動(dòng)上分離。第1步進(jìn)導(dǎo)件55,如圖15所示，與上述第1實(shí)施形態(tài)同樣的， 通過(guò)多個(gè)撓曲裝置 52機(jī)械性的連結(jié)于一對(duì)X梁24,與一對(duì)X梁24 -體的移動(dòng)于Y軸方向。 又，第1步進(jìn)導(dǎo)件55,為抑制因自重造成的撓曲，與上述第1實(shí)施形態(tài)相較其厚度方向尺寸 被設(shè)定的略大。
[0122] 第2步進(jìn)導(dǎo)件54,如圖14所示，與上述第1實(shí)施形態(tài)同樣的，通過(guò)由固定在基板 載臺(tái)架臺(tái)18f的Y線性導(dǎo)件19a與固定在第2步進(jìn)導(dǎo)件54下面的Y滑件19c構(gòu)成的γ線 性導(dǎo)件裝置搭載在基板載臺(tái)架臺(tái)18f上，能于Y軸方向以既定行程移動(dòng)。又，一對(duì)第2步進(jìn) 導(dǎo)件 54,如圖I5所示，長(zhǎng)邊方向的兩端部被連結(jié)構(gòu)件54b連結(jié)成一體。一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件 54,與上述第1實(shí)施形態(tài)同樣得，通過(guò)多個(gè)燒曲裝置58(圖I 3及圖14中未圖示）機(jī)械性的 連結(jié)于一對(duì)X梁24,與一對(duì)X梁24 -體的移動(dòng)于Y軸方向。
[0123] 本第2實(shí)施形態(tài)，如圖16及圖17所示，亦與上述第1實(shí)施形態(tài)同樣的，是通過(guò)安 裝在微動(dòng)載臺(tái) 3〇的多個(gè)Z感測(cè)器38z，使用第2步進(jìn)導(dǎo)件54求出微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位 置信息。
[0124] 根據(jù)本第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置2〇G，由于支承重量抵消裝置40的第1步進(jìn) 導(dǎo)件55是由底座S0加以支承，因此與上述第1實(shí)施形態(tài)相較，無(wú)需要求基板載臺(tái)架臺(tái)i 8f 的重力方向的剛性。因此，可使基板載臺(tái)架臺(tái)18f薄型化、輕量化。
[0125] 又，雖然視微動(dòng)載臺(tái)30 (及重量抵消裝置40)的位置，而于基板載臺(tái)架臺(tái)18f作用 偏荷重，但本第2實(shí)施形態(tài)中，搭載在基板載臺(tái)架臺(tái)18f上的構(gòu)件僅有一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件 54,因此與上述第1實(shí)施形態(tài)相較，上述偏荷重的影響少。此外，微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位置 信息，可以不使用第2步進(jìn)導(dǎo)件54而與上述第1實(shí)施形態(tài)同樣的使用標(biāo)的物用載臺(tái)60 (參 照?qǐng)D4中A部分）加以求出。
[0126] 又，上述第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20G的構(gòu)成可適當(dāng)?shù)赜枰宰冃?。以下，說(shuō)明 上述第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20G的變形例。又，于以下說(shuō)明知第2實(shí)施形態(tài)的變形 例中，針對(duì)與上述第2實(shí)施形態(tài)具有相同構(gòu)成及功能的要件，賦予相同符號(hào)并適當(dāng)省略其 詳細(xì)說(shuō)明。
[0127] 《第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之1)》
[0128] 圖18及圖19中顯示了上述第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之1)的基板載臺(tái)裝置20H。 微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位置信息，于上述第2實(shí)施形態(tài)中，如圖17所示，通過(guò)多個(gè)Z感測(cè)器 38z，使用第2步進(jìn)導(dǎo)件54家以求出，相對(duì)于此，圖18及圖19中所示的基板載臺(tái)裝置20H 的不同點(diǎn)在于，是通過(guò)多個(gè)Z感測(cè)器38z，使用基板載臺(tái)架臺(tái)18g的上面加以求出。
[0129] 于基板載臺(tái)裝置20H，作為Z感測(cè)器38z是使用例如三角測(cè)量方式的反射型激光 變位感測(cè)器，于基板載臺(tái)架臺(tái)18g的上面安裝了具有能涵蓋微動(dòng)載臺(tái)30于XY平面內(nèi)的移 動(dòng)區(qū)域的程度的面積的例如由白色陶瓷形成的板狀構(gòu)件成的標(biāo)的物69。此外，作為Z感測(cè) 器38z使用例如垂直反射方式的反射型激光變位感測(cè)器的情形時(shí)，將基板載臺(tái)架臺(tái)18g的 上面予以鏡面加工（或于基板載臺(tái)架臺(tái)18g的上面安裝反射鏡）即可。
[0130] 根據(jù)基板載臺(tái)裝置20H，由于基板載臺(tái)架臺(tái)18g上未設(shè)置用以將第1步進(jìn)導(dǎo)件55 引導(dǎo)于Y軸方向的Y線性導(dǎo)件，因此可將基板載臺(tái)架臺(tái)18g的上面作為標(biāo)的物直接加以使 用。如前所述，于基板載臺(tái)裝置20H，與圖13等所示的上述第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置 20G相較，由于未設(shè)置第2步進(jìn)導(dǎo)件54,因此，與上述基板載臺(tái)裝置20G相較，能使基板載臺(tái) 架臺(tái)18g更為薄型化、輕量化。此外，由于不具有第2步進(jìn)導(dǎo)件54,因此亦不會(huì)有偏荷重作 用于基板載臺(tái)架臺(tái)18g的情形。
[0131] 《第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之2)》
[0132] 圖2〇中顯示了上述第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之2)的基板載臺(tái)裝置2〇1?；遢d 臺(tái)裝置201，具有將上述第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20G(參照?qǐng)D13?圖17)與上述第1 實(shí)施形態(tài)的變形例（之2)的基板載臺(tái)裝置20C(參照?qǐng)D7及圖8)加以組合的構(gòu)成。
[0133] 亦即，如圖20所示，基板載臺(tái)裝置201與上述基板載臺(tái)裝置20C同樣的，第1步進(jìn) 導(dǎo)件70A具有Z致動(dòng)器及重量抵消裝置的功能。又，第1步進(jìn)導(dǎo)件70A，與上述基板載臺(tái)裝 置20G同樣的，被搭載在一對(duì)底座80上，相對(duì)基板載臺(tái)架臺(tái)18f及X梁24,在振動(dòng)上分離。 根據(jù)基板載臺(tái)裝置201，除上述第2實(shí)施形態(tài)的效果外亦可獲得上述第1實(shí)施形態(tài)的變形例 (之2)的效果。亦即，基板載臺(tái)裝置201，可謀求基板載臺(tái)架臺(tái)18f的輕量化、并能提升粗 動(dòng)載臺(tái)28 (亦即基板P)的位置控制性。
[0134] 《第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之3)》
[0135] 圖21及圖22中顯示了上述第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之3)的基板載臺(tái)裝置20J。 相對(duì)于上述第1實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20A(參照?qǐng)D1等）、及上述第2實(shí)施形態(tài)的基板 載臺(tái)裝置20G(參照?qǐng)D13等）中，是由一對(duì)X梁24與粗動(dòng)載臺(tái)28構(gòu)成所謂的龍門式雙軸 載臺(tái)裝置，基板載臺(tái)裝置20J的不同點(diǎn)在于，是通過(guò)支承重量抵消裝置40的第1步進(jìn)導(dǎo)件 57與粗動(dòng)載臺(tái)28,構(gòu)成所謂的龍門式雙軸載臺(tái)裝置。
[0136] 第1步進(jìn)導(dǎo)件57由延伸于X軸方向的YZ剖面矩形的板狀構(gòu)件構(gòu)成，與上述第2實(shí) 施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20G(參照?qǐng)D13等）同樣的，長(zhǎng)邊方向的兩端部分別被設(shè)于地面11 上的底座80從下方支承，相對(duì)裝置本體18在振動(dòng)上分離。第1步進(jìn)導(dǎo)件57,于圖21及圖 22中雖未圖示，但是通過(guò)例如線性馬達(dá)（或進(jìn)給螺桿裝置）等的致動(dòng)器，于Y軸方向以既 定行程加以驅(qū)動(dòng)。第1步進(jìn)導(dǎo)件57,與上述第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置 2〇G(參照?qǐng)D14) 所具有的第1步進(jìn)導(dǎo)件50相較，形成為寬度較大（Y軸方向的尺寸被設(shè)定的較大），以能安 定的支承粗動(dòng)載臺(tái)28。
[0137] 于粗動(dòng)載臺(tái)28的下面，安裝有軸承面與第1步進(jìn)導(dǎo)件57的上面對(duì)向配置的多個(gè) (例如4個(gè)）空氣軸承53。又，于粗動(dòng)載臺(tái)28的下面，如圖22所示，安裝有一對(duì)安裝板29， 上述第1步進(jìn)導(dǎo)件57插入在一對(duì)安裝板29之間。于一對(duì)安裝板2 9與第1步進(jìn)導(dǎo)件57的 側(cè)面對(duì)向的面，分別安裝有多個(gè)（例如2個(gè)）空氣軸承53。據(jù)此，粗動(dòng)載臺(tái)28能沿第1步 進(jìn)導(dǎo)件57以低摩擦于X軸方向以既定行程移動(dòng)，且相對(duì)第1步進(jìn)導(dǎo)件 57的Y軸方向移動(dòng) 受到限制。粗動(dòng)載臺(tái)28,通過(guò)由固定于第1步進(jìn)導(dǎo)件57的X固定子（未圖示）與固定于粗 動(dòng)載臺(tái)28的X可動(dòng)子（未圖示）構(gòu)成的X線性馬達(dá)，于第1步進(jìn)導(dǎo)件57上以既定行程被 驅(qū)動(dòng)于X軸方向。
[0138] 微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位置信息，與上述基板載臺(tái)裝置2〇B(參照?qǐng)D5?圖6中B 部分）同樣的，是通過(guò)多個(gè)Z感測(cè)器38z使用一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54的上面加以求出。一對(duì) 第2步進(jìn)導(dǎo)件54,通過(guò)未圖示的撓曲裝置連結(jié)于第1步進(jìn)導(dǎo)件57,通過(guò)被第1步進(jìn)導(dǎo)件57 牽引而與第1步進(jìn)導(dǎo)件57-體移動(dòng)于Y軸方向。又，由于第1步進(jìn)導(dǎo)件 57較上述第2實(shí) 施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置20G(參照?qǐng)D14)所具有的第1步進(jìn)導(dǎo)件50寬，因此一對(duì)第2步進(jìn) 導(dǎo)件54的間隔亦較基板載臺(tái)裝置20G寬。
[0139] 根據(jù)基板載臺(tái)裝置20J，與上述第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置2〇G(參照?qǐng)D13等） 相較，由于不具有一對(duì)X梁24 (參照?qǐng)D13?圖17)，因此其構(gòu)成簡(jiǎn)單。又，由于第1步進(jìn)導(dǎo) 件57相對(duì)裝置本體18在振動(dòng)上分離，因此驅(qū)動(dòng)粗動(dòng)載臺(tái)28時(shí)的反作用力不會(huì)作用于裝置 本體18。此外，求取微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位置信息時(shí)使用的標(biāo)的物，可安裝于重量抵消裝 置40。
[0140] 《第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之4)》
[0141] 圖23及圖24中顯示了上述第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之4)的基板載臺(tái)裝置2〇K。 基板載臺(tái)裝置20Κ，具有將上述第2實(shí)施形態(tài)的變形例（之3)的基板載臺(tái)裝置20J(參照?qǐng)D 21及圖22)與上述第1實(shí)施形態(tài)的變形例（之2)的基板載臺(tái)裝置20C(參照?qǐng)D7及圖8) 加以組合的構(gòu)成。
[0142] 亦即，如圖23所示,基板載臺(tái)裝置20K的第1步進(jìn)導(dǎo)件70E，是于構(gòu)成本體部77的 下板部77a與上板部77b之間，例如插入2個(gè)Z音圈馬達(dá)73及空氣彈簧72,與上述基板載 臺(tái)裝置20C的第1步進(jìn)導(dǎo)件70A(參照?qǐng)D7)同樣的具有Z致動(dòng)器及重量抵消裝置的功能。 如圖24所示，第1步進(jìn)導(dǎo)件70E的下板部77a及上板部77b，分別形成為較上述基板載臺(tái)裝 置20C的第1步進(jìn)導(dǎo)件70A(參照?qǐng)D8)略寬。
[0143] 又，于粗動(dòng)載臺(tái)28的下面，安裝有軸承面與上板部77b的上面對(duì)向配置的多個(gè) (例如4個(gè)）空氣軸承53。此外，于粗動(dòng)載臺(tái)28的下面，如圖24所示，安裝有一對(duì)安裝板 29,上述第1步進(jìn)導(dǎo)件70E插入在一對(duì)安裝板29之間。于一對(duì)安裝板29的與上板部77b 側(cè)面對(duì)向的面，分別安裝有多個(gè)（例如2個(gè)）空氣軸承53。據(jù)此，粗動(dòng)載臺(tái)28能沿第1步 進(jìn)導(dǎo)件70E以低摩擦于X軸方向以既定行程移動(dòng)，且相對(duì)第1步進(jìn)導(dǎo)件70E的Y軸方向的 移動(dòng)受到限制。粗動(dòng)載臺(tái)28,通過(guò)由固定在上板部77b上面的X固定子88a與固定在粗動(dòng) 載臺(tái) 28下面的X可動(dòng)子88b構(gòu)成的X線性馬達(dá)，沿第1步進(jìn)導(dǎo)件70E于X軸方向以既定行 程驅(qū)動(dòng)。又，圖 24中雖未圖示，上板部77b相對(duì)下板部77a,于X軸方向及Y軸方向的移動(dòng) 受到限制。此外，安裝在前述一對(duì)安裝板29的空氣軸承53可與下板部77a的側(cè)面對(duì)向。 [0 144] 又，于粗動(dòng)載臺(tái)28上面的中央部，安裝有軸承面朝向+Z側(cè)的空氣軸承48,將調(diào)平 裝置46從下方以非接觸方式加以支承。微動(dòng)載臺(tái)30的Z傾斜位置信息，與上述基板載臺(tái) 裝置20B(參照?qǐng)D5?圖6中B部分）同樣的，是通過(guò)多個(gè)Z感測(cè)器38z使用第2步進(jìn)導(dǎo)件 54的上面加以求出。于第1步進(jìn)導(dǎo)件70E，可通過(guò)空氣彈簧72抵消包含粗動(dòng)載臺(tái)28及微動(dòng) 載臺(tái)30之系的重量，降低對(duì)用以將粗動(dòng)載臺(tái)28及微動(dòng)載臺(tái)30驅(qū)動(dòng)于Z軸方向的Z音圈馬 達(dá)73的負(fù)荷。又，第1步進(jìn)導(dǎo)件70E，雖是以Z音圈馬達(dá)73將粗動(dòng)載臺(tái)28及微動(dòng)載臺(tái)30 驅(qū)動(dòng)于Z軸方向，但亦可取代此，如圖 9所示的第丨步進(jìn)導(dǎo)件70B般使用多個(gè)z致動(dòng)器75， 或如圖11所示的第1步進(jìn)導(dǎo)件70C般使用一對(duì)凸輪裝置76。
[0145]又，以上說(shuō)明的第！及第2實(shí)施形態(tài)（包含其變形例。以下同）的構(gòu)成可適當(dāng)?shù)?加以變更。例如上述第1及第2實(shí)施形態(tài)中，第1步進(jìn)導(dǎo)件50及一對(duì)第2步進(jìn)導(dǎo)件54雖 分別被一對(duì)X梁24牽引而移動(dòng)于γ軸方向的構(gòu)成，但亦可通過(guò)例如線性馬達(dá)等的致動(dòng)器， 而與一對(duì)X梁24獨(dú)立的控制X位置。
[0146]又，照明光可以是ArF準(zhǔn)分子激光（波長(zhǎng)193nm)、KrF準(zhǔn)分子激光（波長(zhǎng)248mi) 等的紫外光、或F2激光（波長(zhǎng)I57nm)等的真空紫外光。此外，作為照明光，亦可使用例如 將從DFB半導(dǎo)體激光或光纖激光發(fā)出的紅外線帶或可見光帶的單一波長(zhǎng)激光以例如摻雜 有鉺（或鉺及鐿兩者）的光纖放大器加以增幅，使用非線性光學(xué)結(jié)晶加以波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換為紫外 光的諧波。再者，亦可使用固體激光（波長(zhǎng) ：355nm、266nm)等。
[01、47] 一又，投影光學(xué)系16雖具備多只投影光學(xué)單元的多透鏡方式的投影光學(xué)系，但投影 光學(xué)單元的數(shù)量不限于此，只要是i只以上即可。此外，亦不限于多透鏡方式的投影光學(xué) 系，亦可以是使用例如歐夫那（Ofner)型大型反射鏡的投影光學(xué)系等。再著，上述實(shí)施形態(tài) 中雖是針對(duì)作為投影光學(xué)系16使用投影倍率為等倍者的情形作了說(shuō)明，但不限于此，投影 光學(xué)系可以是縮小系及擴(kuò)大系的任一種。
[0148] 又，雖是使用在光透射性掩膜基板上形成有既定遮光圖案（或相位圖案、減光圖 案）的光透射型掩膜，但亦可使用例如美國(guó)專利第6, 778, 257號(hào)公報(bào)所揭示的，根據(jù)待曝光 圖案的電子數(shù)據(jù)形成透射圖案或反射圖案、或形成發(fā)光圖案的電子掩膜（可變成形掩膜）， 例如可采用使用非發(fā)光型影像顯示元件（亦稱為空間光調(diào)變器）的一種的DMD(Digital Micro-mirror Device)的可變成形掩膜。
[0149] 又，使物體沿既定二維平面移動(dòng)的移動(dòng)體裝置（載臺(tái)裝置），并不限使用于曝光裝 置，亦可使用于例如用于物體的檢查的物體檢查裝置等、針對(duì)物體進(jìn)行既定處理的物體處 理裝置。此外，作為曝光裝置，亦可適用于步進(jìn)重復(fù)（step&repeat)方式的曝光裝置、步進(jìn) 接合（step&stitch)方式的曝光裝置。
[0150] 又，作為曝光裝置，尤其是適用于對(duì)尺寸（包含外徑、對(duì)角線長(zhǎng)度、一邊中的至少1 種）為500mm以上的基板、例如使液晶顯示元件等平面顯示器用的大型基板曝光的曝光裝 置時(shí)，特別有效。
[0151] 又，曝光裝置的用途，并不限于將液晶顯示元件圖案轉(zhuǎn)印至方形玻璃板的液晶用 曝光裝直，亦可廣泛適用于例如半導(dǎo)體制造用的曝光裝置、用以制造薄膜磁頭、微機(jī)器及 DNA晶片等的曝光裝置。此外，不僅是半導(dǎo)體元件等的微元件，本發(fā)明亦能適用于為制造用 于光曝光裝置、EUV曝光裝置、X線曝光裝置及電子線曝光裝置等的掩膜或標(biāo)線片，而將電 路圖案轉(zhuǎn)印至?；寤蚬杈A等的曝光裝置。又，具備保持物體的物體保持裝置的裝置，并 不限于曝光裝置，亦可以是其他的基板處理裝置、例如玻璃基板（或晶圓）檢查裝置等。又， 曝光對(duì)象的物體不限于玻璃板，亦可以是例如晶圓、陶瓷基板、薄膜構(gòu)件或掩膜基板（ mask blank)等其他物體。又，曝光對(duì)象物是平板顯示器用基板的情形時(shí)，該基板的厚度并無(wú)特別 限定，例如亦包含薄膜狀（具可撓性的片狀構(gòu)件）者。
[0152]液晶顯示元件（或半導(dǎo)體元件）等的電子元件，是經(jīng)由進(jìn)行元件的功能性能設(shè)計(jì) 的步驟、依據(jù)此設(shè)計(jì)步驟制作掩膜（或標(biāo)線片）的步驟、制作玻璃基板（或晶圓）的步驟、以 上述各實(shí)施形態(tài)的曝光裝置及其曝光方法將掩膜（標(biāo)線片）圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板的光刻步 驟、使經(jīng)曝光的玻璃基板顯影的顯影步驟、將殘存抗蝕劑的部分以外部分的露出構(gòu)件以蝕 刻加以去除的蝕刻步驟、去除完成蝕刻而無(wú)需的抗蝕劑的抗蝕劑去除步驟、元件組裝步驟、 檢査步驟等加以制造。此場(chǎng)合，由于在光刻步驟是使用上述實(shí)施形態(tài)的曝光裝置實(shí)施前述 曝光方法，于玻璃基板上形成元件圖案，因此能以良好生產(chǎn)性制造高集成度的元件。
[0153]此外，援用上述說(shuō)明所引用的關(guān)于曝光裝置的所有公報(bào)、國(guó)際公開公報(bào)、美國(guó)專利 申請(qǐng)公開說(shuō)明書及美國(guó)專利說(shuō)明書的揭示作為本說(shuō)明書記載的一部分。
[0154] 產(chǎn)業(yè)上可利用性
[0155]如以上的說(shuō)明，本發(fā)明的移動(dòng)體裝置適于使移動(dòng)體沿既定二維平面移動(dòng)。又，本發(fā) 明的曝光裝置適于在移動(dòng)體所保持的物體形成既定圖案。此外，本發(fā)明的平面顯示器的制 造方法適于平面顯示器的制造。再者，本發(fā)明的元件制造方法適于微元件的生產(chǎn)。
【權(quán)利要求】
1. 一種移動(dòng)體裝置，具備： 導(dǎo)件，延伸于既定二維平面內(nèi)的第1方向，能在所述二維平面內(nèi)移動(dòng)于沿與所述第1方 向正交的第2方向的位置； 移動(dòng)體，被所述導(dǎo)件從下方支承，能沿以所述導(dǎo)件規(guī)定的第1面移動(dòng)于沿所述第1方向 的位置、且能與所述導(dǎo)件一起移動(dòng)于沿所述第2方向的位置；以及 位置測(cè)量系，將以和所述導(dǎo)件不同的另一構(gòu)件所規(guī)定的第2面作為基準(zhǔn)面，求出所述 移動(dòng)體在與所述二維平面交叉的方向的位置信息。
2. 如權(quán)利要求1所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述另一構(gòu)件延伸于所述第1方向、能與所 述移動(dòng)體一起移動(dòng)于沿所述第2方向的位置的可動(dòng)構(gòu)件。
3. 如權(quán)利要求2所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述可動(dòng)構(gòu)件于所述第2方向、分別設(shè)在所 述導(dǎo)件的一側(cè)及另一側(cè)。
4. 如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其進(jìn)一步具備被支承于所述可動(dòng)構(gòu) 件，能在以所述可動(dòng)構(gòu)件規(guī)定的所述第2面上與所述移動(dòng)體一起沿所述第1方向移動(dòng)、且與 所述可動(dòng)構(gòu)件一起沿所述第2方向移動(dòng)的測(cè)量用移動(dòng)構(gòu)件； 所述位置測(cè)量系是使用所述測(cè)量用移動(dòng)構(gòu)件求出所述位置信息。
5. 如權(quán)利要求4所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述測(cè)量用移動(dòng)構(gòu)件以非接觸方式被支承 于所述可動(dòng)構(gòu)件。
6. 如權(quán)利要求4或5所述的移動(dòng)體裝置，其進(jìn)一步具備沿所述二維平面誘導(dǎo)所述移動(dòng) 體的誘導(dǎo)裝置； 所述導(dǎo)件、所述可動(dòng)構(gòu)件及所述測(cè)量用移動(dòng)構(gòu)件通過(guò)被所述誘導(dǎo)裝置誘導(dǎo)而一體的移 動(dòng)于沿所述第2方向的位置。
7. 如權(quán)利要求6所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述測(cè)量用移動(dòng)構(gòu)件以所述誘導(dǎo)裝置沿所 述第1方向驅(qū)動(dòng)。
8. 如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述位置測(cè)量系使用所述可動(dòng) 構(gòu)件的上面求出所述位置信息。
9. 如權(quán)利要求8所述的移動(dòng)體裝置，其進(jìn)一步具備沿所述二維平面誘導(dǎo)所述移動(dòng)體的 誘導(dǎo)裝置； 所述導(dǎo)件及所述可動(dòng)構(gòu)件通過(guò)被所述誘導(dǎo)裝置誘導(dǎo)而一體的移動(dòng)于沿所述第2方向 的位置。
10. 如權(quán)利要求6、7及9中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述誘導(dǎo)裝置設(shè)于第1基 座構(gòu)件上； 所述導(dǎo)件設(shè)在與所述第1基座構(gòu)件不同的第2基座構(gòu)件上。
11. 如權(quán)利要求10所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述可動(dòng)構(gòu)件設(shè)在與所述第2基座構(gòu)件不 同的第3基座構(gòu)件上。
12. 如權(quán)利要求1所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述另一構(gòu)件設(shè)在所述導(dǎo)件下方、以涵蓋 所述移動(dòng)體于所述二維平面內(nèi)可移動(dòng)范圍的大小形成。
13. 如權(quán)利要求12所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述導(dǎo)件設(shè)在與所述另一構(gòu)件不同的基 座構(gòu)件上。
14. 如權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述導(dǎo)件在支承所述移動(dòng)體 的自重的狀態(tài)下于所述第1面上與所述移動(dòng)體一起沿所述第1方向移動(dòng)，且通過(guò)與所述導(dǎo) 件一起沿所述第2方向移動(dòng)的支承裝置從下方支承所述移動(dòng)體。
15. 如權(quán)利要求14所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述支承裝置以非接觸方式被支承于所 述導(dǎo)件。
16. 如權(quán)利要求14或15所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述支承裝置通過(guò)將所述移動(dòng)體支 承為可相對(duì)所述二維平面傾動(dòng)的傾動(dòng)支承裝置支承所述移動(dòng)體。
17. 如權(quán)利要求1至16中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述導(dǎo)件包含將所述移動(dòng)體 驅(qū)動(dòng)于與所述二維平面交叉的方向的驅(qū)動(dòng)裝置。
18. 如權(quán)利要求17所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述導(dǎo)件包含支承所述移動(dòng)體的自重的 自重支承裝置。
19. 如權(quán)利要求17或18所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述導(dǎo)件通過(guò)將所述移動(dòng)體支承為 可相對(duì)所述二維平面傾動(dòng)的傾動(dòng)支承裝置支承所述移動(dòng)體。
20. 如權(quán)利要求19所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述傾動(dòng)支承裝置以非接觸方式被支承 于所述導(dǎo)件。
21. 如權(quán)利要求17或18所述的移動(dòng)體裝置，所述導(dǎo)件具有使所述第1面相對(duì)所述二維 平面傾動(dòng)的傾動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置。
22. 如權(quán)利要求21所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述移動(dòng)體以非接觸方式被支承于所述 導(dǎo)件。
23. 如權(quán)利要求1至22中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述位置測(cè)量系使用設(shè)于所 述移動(dòng)體的測(cè)量構(gòu)件，求出所述移動(dòng)體在與所述二維平面交叉的方向的位置信息。
24. -種移動(dòng)體裝置，具備： 導(dǎo)件，延伸于既定二維平面內(nèi)的第1方向，能在所述二維平面內(nèi)移動(dòng)于沿與所述第1方 向正交的第2方向的位置； 移動(dòng)體，被所述導(dǎo)件從下方支承，能沿以所述導(dǎo)件規(guī)定的導(dǎo)引面移動(dòng)于沿所述第1方 向的位置、且能與所述導(dǎo)件一起移動(dòng)于沿所述第2方向的位置；以及 驅(qū)動(dòng)裝置，設(shè)于所述導(dǎo)件，將所述移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)于與所述二維平面交叉的方向。
25. 如權(quán)利要求24所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述導(dǎo)件包含支承所述移動(dòng)體的自重的 自重支承裝置。
26. 如權(quán)利要求24或25所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述導(dǎo)件通過(guò)將所述移動(dòng)體支承為 可相對(duì)所述二維平面傾動(dòng)的傾動(dòng)支承裝置支承所述移動(dòng)體。
27. 如權(quán)利要求26所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述傾動(dòng)支承裝置以非接觸方式被支承 于所述導(dǎo)件。 2S.如權(quán)利要求Μ或25所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述導(dǎo)件具有可使所述導(dǎo)引面相對(duì) 所述二維平面傾動(dòng)的傾動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置。
29·如權(quán)利要求28所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述移動(dòng)體以非接觸方式被支承于所述 導(dǎo)件。
30. -種移動(dòng)體裝置，具備： 第1移動(dòng)構(gòu)件，延伸于既定二維平面內(nèi)的第1方向，能在所述二維平面內(nèi)移動(dòng)于沿與所 述第1方向正交的第2方向的位置； 第2移動(dòng)構(gòu)件，設(shè)于所述第1移動(dòng)構(gòu)件，能沿所述第1移動(dòng)構(gòu)件移動(dòng)于沿所述第1方向 的位置、且能與所述第1移動(dòng)構(gòu)件一起移動(dòng)于所述第2方向；以及 移動(dòng)體，被所述第1移動(dòng)構(gòu)件從下方支承，被所述第2移動(dòng)構(gòu)件誘導(dǎo)而沿所述二維平面 移動(dòng)。
31. 如權(quán)利要求30所述的移動(dòng)體裝置，其中，用以沿所述第1移動(dòng)構(gòu)件驅(qū)動(dòng)所述第2移 動(dòng)構(gòu)件的致動(dòng)器的要素，設(shè)在所述第1及第2移動(dòng)構(gòu)件中的至少一方。
32. 如權(quán)利要求30或31所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述第1移動(dòng)構(gòu)件通過(guò)自重支承裝 置從下方支承所述移動(dòng)體。
33·如權(quán)利要求3〇或31所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述第1移動(dòng)構(gòu)件包含將所述第2 移動(dòng)構(gòu)件及所述移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)于與所述二維平面交叉的方向的驅(qū)動(dòng)裝置。
34. 如權(quán)利要求33所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述第1移動(dòng)構(gòu)件包含支承所述第2移動(dòng) 構(gòu)件及所述移動(dòng)體的自重的自重支承裝置。
35. 如權(quán)利要求30至34中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其進(jìn)一步具備使用以和所述第！ 移動(dòng)構(gòu)件不同的另一構(gòu)件所規(guī)定的基準(zhǔn)面，求出所述移動(dòng)體在與所述二維平面交叉的方向 的位置信息的位置測(cè)量系。
36. 如權(quán)利要求35所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述另一構(gòu)件延伸于所述第1方向、能與 所述移動(dòng)體一起移動(dòng)于沿所述第2方向的位置的可動(dòng)構(gòu)件。
37. 如權(quán)利要求36所述的移動(dòng)體裝置，其中，所述可動(dòng)構(gòu)件于所述第2方向、分別設(shè)在 所述第1移動(dòng)構(gòu)件的一側(cè)及另一側(cè)。
38. -種曝光裝置，具備： 于移動(dòng)體保持既定物體的權(quán)利要求1至37中任一項(xiàng)的移動(dòng)體裝置；以及 于所述移動(dòng)體所保持的所述物體使用能量束形成既定圖案的圖案形成裝置。 39_如權(quán)利要求38所述的曝光裝置，其中，所述物體用于平面顯示器裝置的基板。
40. 如權(quán)利要求39所述的曝光裝置，其中，所述基板至少一邊的長(zhǎng)度或?qū)情L(zhǎng)為5〇〇mm 以上。
41. 一種平面顯示器的制造方法，包含： 使用權(quán)利要求39或40的曝光裝置使所述物體曝光的動(dòng)作；以及 使曝光后的所述物體顯影的動(dòng)作。
42. -種元件制造方法，包含： 使用權(quán)利要求38的曝光裝置使所述物體曝光的動(dòng)作；以及 使曝光后的所述物體顯影的動(dòng)作。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK104221128SQ201380018913
【公開日】2014年12月17日 申請(qǐng)日期:2013年4月3日 優(yōu)先權(quán)日:2012年4月4日
【發(fā)明者】青木保夫 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康