液浸構(gòu)件及曝光裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明的液浸構(gòu)件(5)用于液浸曝光裝置(EX)，在能于光學(xué)構(gòu)件(13)的下方移動(dòng)的物體(P)上形成液浸空間(LS)。液浸構(gòu)件具備配置在光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分的第1構(gòu)件(21)、與配置在曝光用光(EL)的光路(K)周圍的至少一部分而能相對(duì)第1構(gòu)件移動(dòng)的第2構(gòu)件(22)。第2構(gòu)件具有通過(guò)間隙與第1構(gòu)件的第1下面(23)相對(duì)的第2上面(25)、與物體可相對(duì)的第2下面(26)、以及配置在第2下面周圍的至少一部分的流體回收部(27)。
【專利說(shuō)明】液浸構(gòu)件及曝光裝置

【背景技術(shù)】
[0001]本發(fā)明是關(guān)于液浸構(gòu)件、曝光裝置、曝光方法、元件制造方法、程序及記錄媒體。
[0002]本申請(qǐng)案主張2012年7月20日申請(qǐng)的美國(guó)專利暫時(shí)申請(qǐng)61/674，078及2013年3月15日申請(qǐng)的美國(guó)專利暫時(shí)申請(qǐng)61/790，328的優(yōu)先權(quán)，并將其內(nèi)容援用于此。
[0003]微影制程所使用的曝光裝置中，已知例如美國(guó)專利第7864292號(hào)所揭示的通過(guò)液體以曝光用光使基板曝光的液浸曝光裝置。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]液浸曝光裝置中，例如當(dāng)液體從既定空間流出、或殘留在基板等物體上時(shí)，即有可能發(fā)生曝光不良。其結(jié)果，有可能產(chǎn)生不良元件。
[0005]本發(fā)明態(tài)樣的目的，在提供一種能抑制曝光不良的發(fā)生的液浸構(gòu)件、曝光裝置、及曝光方法。又，本發(fā)明態(tài)樣的另一目的，在提供一種能抑制不良元件的產(chǎn)生的元件制造方法、程序、及記錄媒體。
[0006]本發(fā)明第1態(tài)樣提供一種液浸構(gòu)件，是用于通過(guò)在光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板之間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置，在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動(dòng)的物體上形成液浸空間，具備:第1構(gòu)件，配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分，具有第1下面:以及第2構(gòu)件，于該第1構(gòu)件的下方，配置在該曝光用光的光路周圍的至少一部分，能相對(duì)該第1構(gòu)件移動(dòng)；該第2構(gòu)件，具有與該第1構(gòu)件的該第1下面通過(guò)間隙相對(duì)的第2上面、該物體可相對(duì)的第2下面、以及配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部。
[0007]本發(fā)明第2態(tài)樣提供一種液浸構(gòu)件，是用于通過(guò)光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置，在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動(dòng)的物體上形成液浸空間，具備:第1構(gòu)件，配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分，具有第1下面；液體回收部；以及第2構(gòu)件，配置在該曝光用光的光路周圍的至少一部分，能相對(duì)該第1構(gòu)件移動(dòng)；該第2構(gòu)件具有通過(guò)間隙與該第1構(gòu)件的該第1下面相對(duì)的第2上面、該物體相對(duì)的第2下面、以及配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部；該液體回收部能回收來(lái)自該第1下面與該第2上面間的第1空間的液體；該流體回收部能回收來(lái)自該第2下面與該物體間的第2空間的流體。
[0008]本發(fā)明第3態(tài)樣的曝光裝置，是通過(guò)液體以曝光用光使基板曝光，具備第1態(tài)樣的液浸構(gòu)件、或第2態(tài)樣的液浸構(gòu)件。
[0009]本發(fā)明第4態(tài)樣提供一種元件制造方法，其包含:使用第3態(tài)樣的曝光裝置使基板曝光的動(dòng)作、以及使曝光后的基板顯影的動(dòng)作。
[0010]本發(fā)明第5態(tài)樣提供一種曝光方法，是通過(guò)光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板間的液體以曝光用光使該基板曝光，包含:使用液浸構(gòu)件在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動(dòng)的該基板上形成該液體的液浸空間的動(dòng)作，該液浸構(gòu)件包含配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍至少一部分的第1構(gòu)件以及于該第1構(gòu)件的下方配置在該曝光用光的光路周圍至少一部分、包含通過(guò)間隙與該第1構(gòu)件的第1下面相對(duì)的第2上面、該基板可相對(duì)的第2下面、配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部的第2構(gòu)件；通過(guò)該液浸空間的該液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動(dòng)作；以及于該基板的曝光的至少一部分中，相對(duì)該第1構(gòu)件移動(dòng)該第2構(gòu)件的動(dòng)作。
[0011]本發(fā)明第6態(tài)樣提供一種元件制造方法，其包含使用第4態(tài)樣的曝光方法使基板曝光的動(dòng)作、以及使曝光后的基板顯影的動(dòng)作。
[0012]本發(fā)明第7態(tài)樣提供一種程序，是使電腦實(shí)施通過(guò)光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置的控制，其使之實(shí)施:使用液浸構(gòu)件在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動(dòng)的該基板上形成該液體的液浸空間的動(dòng)作，該液浸構(gòu)件包含配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍至少一部分的第1構(gòu)件以及于該第1構(gòu)件的下方配置在該曝光用光的光路周圍至少一部分、包含通過(guò)間隙與該第1構(gòu)件的第1下面相對(duì)的第2上面、該基板可相對(duì)的第2下面、配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部的第2構(gòu)件；通過(guò)該液浸空間的該液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動(dòng)作；以及于該基板的曝光的至少一部分中，相對(duì)該第1構(gòu)件移動(dòng)該第2構(gòu)件的動(dòng)作。
[0013]本發(fā)明第8態(tài)樣提供一種電腦可讀取的記錄媒體，其記錄有第7態(tài)樣的程序。
[0014]根據(jù)本發(fā)明的態(tài)樣，可抑制曝光不良的發(fā)生。又，根據(jù)本發(fā)明的態(tài)樣，可抑制不良元件的產(chǎn)生。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]以下附圖僅旨在于對(duì)本發(fā)明做示意性說(shuō)明和解釋，并不限定本發(fā)明的范圍。其中:
[0016]圖1是顯示第1實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的一例的圖。
[0017]圖2是顯示第1實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一例的側(cè)視剖面圖。
[0018]圖3是顯示第1實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一部分的側(cè)視剖面圖。
[0019]圖4是顯示第1實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一動(dòng)作例的圖。
[0020]圖5是從下方觀察第1實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件的圖。
[0021]圖6是顯示第1實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一例的分解立體圖。
[0022]圖7是顯示第1實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一例的分解立體圖。
[0023]圖8是顯示第1實(shí)施形態(tài)的第1構(gòu)件的一例的圖。
[0024]圖9是用以說(shuō)明第1實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一動(dòng)作例的圖。
[0025]圖10是用以說(shuō)明第1實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的一動(dòng)作例的圖。
[0026]圖11是用以說(shuō)明第1實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的一動(dòng)作例的示意圖。
[0027]圖12是用以說(shuō)明第1實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一動(dòng)作例的示意圖。
[0028]圖13是用以說(shuō)明第1實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的一動(dòng)作例的圖。
[0029]圖14是顯示第2實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一部分的圖。
[0030]圖15是顯示第2實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一部分的側(cè)視剖面圖。
[0031]圖16是顯示第3實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一例的圖。
[0032]圖17是顯示液浸構(gòu)件的一例的圖。
[0033]圖18是顯示液浸構(gòu)件的一例的圖。
[0034]圖19是顯示液浸構(gòu)件的一例的圖。
[0035]圖20是顯示第1構(gòu)件的一例的圖。
[0036]圖21是顯示第1構(gòu)件的一例的圖。
[0037]圖22是顯示第1構(gòu)件的一例的圖。
[0038]圖23是顯示第2構(gòu)件的一例的圖。
[0039]圖24是顯示基板載臺(tái)的一例的圖。
[0040]圖25是顯示第2構(gòu)件的一例的圖。
[0041]圖26是用以說(shuō)明元件的制造方法的一例的流程圖。
[0042]主要元件標(biāo)號(hào)說(shuō)明:
[0043]2:基板載臺(tái)
[0044]3:測(cè)量載臺(tái)
[0045]5:液浸構(gòu)件
[0046]6:控制器
[0047]7:儲(chǔ)存裝置
[0048]12:射出面
[0049]13:終端光學(xué)元件
[0050]21:第 1 構(gòu)件
[0051]22:第 2 構(gòu)件
[0052]228:支承構(gòu)件
[0053]23:下面
[0054]24:液體回收部
[0055]25:上面
[0056]26:下面
[0057]27:流體回收部
[0058]29:外側(cè)面
[0059]30:內(nèi)側(cè)面
[0060]31:液體供應(yīng)部
[0061]32:驅(qū)動(dòng)裝置
[0062]34:開(kāi)口
[0063]35:開(kāi)口
[0064]此:曝光用光
[0065]狀:曝光裝置
[0066]II:照明系統(tǒng)
[0067]1(:光路
[0068]10:液體
[0069]18:液浸空間
[0070]？:基板

【具體實(shí)施方式】
[0071]以下，一邊參照附圖一邊說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)，但本發(fā)明并不限定于此。以下的說(shuō)明中，是設(shè)定一見(jiàn)正交座標(biāo)系統(tǒng)，一邊參照此見(jiàn)正交座標(biāo)系統(tǒng)一邊說(shuō)明各部的位置關(guān)系。并設(shè)水平面內(nèi)的既定方向?yàn)閄軸方向、于水平面內(nèi)與X軸方向正交的方向?yàn)閂軸方向、分別與X軸方向及V軸方向正交的方向(亦即鉛直方向)為2軸方向。此外，設(shè)繞X軸、V軸及2軸旋轉(zhuǎn)(傾斜)方向分別為0 X、0 V及9 2方向。
[0072]?第1實(shí)施形態(tài)?
[0073]首先，說(shuō)明第1實(shí)施形態(tài)。圖1是顯示第1實(shí)施形態(tài)的曝光裝置狀的一例的概略構(gòu)成圖。本實(shí)施形態(tài)的曝光裝置狀是通過(guò)液體1^！以曝光用光此使基板？曝光的液浸曝光裝置。于本實(shí)施形態(tài)，形成有將曝光用光此的光路以液體1^！加以充滿的液浸空間13。液浸空間是被液體充滿的部分(空間、區(qū)域基板？是通過(guò)液浸空間…的液體⑷以曝光用光此加以曝光。本實(shí)施形態(tài)中，液體1^1是使用水(純水)。
[0074]又，本實(shí)施形態(tài)的曝光裝置狀，是例如美國(guó)專利第6897963號(hào)說(shuō)明書、歐洲專利公開(kāi)第1713113號(hào)說(shuō)明書等所揭示的具備基板載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的曝光裝置。
[0075]圖1中，曝光裝置具備:可保持光罩1移動(dòng)的光罩載臺(tái)1、可保持基板？移動(dòng)的基板載臺(tái)2、不保持基板？而可搭載測(cè)量曝光用光此的測(cè)量構(gòu)件(測(cè)量器％移動(dòng)的測(cè)量載臺(tái)3、測(cè)量基板載臺(tái)2及測(cè)量載臺(tái)3的位置的測(cè)量系統(tǒng)4、以曝光用光此照明光罩1的照明系統(tǒng)幾、將經(jīng)曝光用光此照明的光罩1的圖案的像投影至基板？的投影光學(xué)系統(tǒng)？[、形成液浸空間舊的液浸構(gòu)件5、控制曝光裝置狀全體的動(dòng)作的控制器6、以及連接于控制器6用以儲(chǔ)存與曝光相關(guān)的各種信息的儲(chǔ)存裝置7。
[0076]又，曝光裝置狀，亦具備支承投影光學(xué)系統(tǒng)及包含測(cè)量系統(tǒng)4的各種測(cè)量系統(tǒng)的基準(zhǔn)框架8八、支承基準(zhǔn)框架8八的裝置框架88、配置在基準(zhǔn)框架8八與裝置框架88之間用以抑制振動(dòng)從裝置框架88傳遞至基準(zhǔn)框架8八的防振裝置10。防振裝置10包含彈簧裝置等。本實(shí)施形態(tài)中，防振裝置10包含氣體彈簧(例如氣動(dòng)避震器此外，亦可將檢測(cè)基板？上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)系統(tǒng)、或檢測(cè)基板？等物體的表面位置的檢測(cè)系統(tǒng)支承于基準(zhǔn)框架8八。
[0077]又，曝光裝置狀，具備調(diào)整曝光用光此行進(jìn)的空間⑶的環(huán)境(溫度、濕度、壓力及潔凈度中的至少一種)的腔室裝置9。于空間(:3,至少配置有投影光學(xué)系統(tǒng)？[、液浸構(gòu)件5、基板載臺(tái)2及測(cè)量載臺(tái)3。本實(shí)施形態(tài)中，光罩載臺(tái)1及照明系統(tǒng)II的至少一部分亦配置于空間⑶。
[0078]光罩1包含形成有待投影至基板？的元件圖案的標(biāo)線片(代七化匕)。光罩1包含透射型光罩，此種透射型光罩具有例如玻璃板等的透明板、與在該透明板上使用鉻等遮光材料形成的圖案。又，光罩1亦可使用反射型光罩。
[0079]基板？是用以制造元件的基板。基板？包含例如半導(dǎo)體晶圓等的基材與該基材上形成的感光膜。感光膜是感光材(光阻劑)的膜。又，基板？除感光膜外亦可再包含其他膜。例如，基板？可包含反射防止膜、或包含保護(hù)感光膜的保護(hù)膜(上涂膜
[0080]照明系統(tǒng)I[對(duì)照明區(qū)域II？照射曝光用光此。照明區(qū)域II？包含從照明系統(tǒng)I[射出的曝光用光此可照射的位置。照明系統(tǒng)幾以均勻照度分布的曝光用光此照明配置在照明區(qū)域II？的光罩1的至少一部分。從照明系統(tǒng)I[射出的曝光用光此，是使用例如從水銀燈射出的輝線(￡111116) (8線、卜線、丨線)及處？準(zhǔn)分子雷射光(波長(zhǎng)248=111)等遠(yuǎn)紫外光(0-光)、紅？準(zhǔn)分子雷射光(波長(zhǎng)19311111)及雷射光(波長(zhǎng)15711111)等真空紫外光光)等。本實(shí)施形態(tài)中，曝光用光此是使用紫外光(真空紫外光)的紅？準(zhǔn)分子雷射光。
[0081]光罩載臺(tái)1能在保持光罩1的狀態(tài)下移動(dòng)。光罩載臺(tái)1是通過(guò)例如美國(guó)專利第6452292號(hào)說(shuō)明書所揭示的包含平面馬達(dá)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)11的作動(dòng)而移動(dòng)。本實(shí)施形態(tài)中，光罩載臺(tái)1可通過(guò)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)11的作動(dòng)，移動(dòng)于X軸、V軸、2軸、0乂、0 1及0 2方向的6個(gè)方向。又，驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)11可不包含平面馬達(dá)。例如，驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)11可包含線性馬達(dá)。
[0082]投影光學(xué)系統(tǒng)將曝光用光此照射于既定投影區(qū)域投影區(qū)域包含從投影光學(xué)系統(tǒng)射出的曝光用光此可照射到的位置。投影光學(xué)系統(tǒng)將光罩1的圖案像以既定投影倍率投影至配置在投影區(qū)域？I？的基板？的至少一部分。本實(shí)施形態(tài)中，投影光學(xué)系統(tǒng)？[為縮小系統(tǒng)。投影光學(xué)系統(tǒng)？[的投影倍率為1/4。又，投影光學(xué)系統(tǒng)？[的投影倍率亦可以是1/5、或1/8等。當(dāng)然，投影光學(xué)系統(tǒng)？[亦可以是等倍系統(tǒng)及放大系統(tǒng)的任一者。本實(shí)施形態(tài)中，投影光學(xué)系統(tǒng)？[的光軸與2軸平行。又，投影光學(xué)系統(tǒng)？[可以是不包含反射光學(xué)元件的折射系統(tǒng)、不包含折射光學(xué)元件的反射系統(tǒng)、或包含反射光學(xué)元件與折射光學(xué)元件的反射折射系統(tǒng)中的任一種。又，投影光學(xué)系統(tǒng)可形成倒立像與正立像的任一種。
[0083]投影光學(xué)系統(tǒng)？匕包含具有曝光用光此射出的射出面12的終端光學(xué)元件13。終端光學(xué)元件13構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)？1的一部分的光學(xué)構(gòu)件。射出面12朝向投影光學(xué)系統(tǒng)
的像面射出曝光用光此。終端光學(xué)元件13是投影光學(xué)系統(tǒng)？I的多個(gè)光學(xué)元件中、最接近投影光學(xué)系統(tǒng)的像面的光學(xué)元件。投影區(qū)域包含從射出面12射出的曝光用光此可照射到的位置。本實(shí)施形態(tài)中，射出面12朝向一 2軸方向。從射出面12射出的曝光用光2匕行進(jìn)于一 2軸方向。射出面12與XV平面平行。又，朝向一 2軸方向的射出面12可以是凸面、亦可以是凹面。此外，射出面12可相對(duì)XV平面傾斜、亦可包含曲面。本實(shí)施形態(tài)中，終端光學(xué)元件13的光軸與2軸平行。
[0084]本實(shí)施形態(tài)中，在與終端光學(xué)元件13的光軸平行的方向，射出面12側(cè)為一 2軸偵I入射面?zhèn)葹?2軸側(cè)。本實(shí)施形態(tài)中，在與投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸平行的方向，投影光學(xué)系統(tǒng)的像面?zhèn)葹橐?2軸側(cè)、投影光學(xué)系統(tǒng)的物體面?zhèn)葹?2軸側(cè)。
[0085]基板載臺(tái)2，能在保持有基板？的狀態(tài)下，在包含來(lái)自射出面12的曝光用光此可照射到的位置(投影區(qū)域？10的XV平面內(nèi)移動(dòng)。測(cè)量載臺(tái)3，能在搭載有測(cè)量構(gòu)件(測(cè)量器％的狀態(tài)下，在包含來(lái)自射出面12的曝光用光￡1可照射到的位置(投影區(qū)域？10的XV平面內(nèi)移動(dòng)?；遢d臺(tái)2及測(cè)量載臺(tái)3的各個(gè)，能在基座構(gòu)件14的導(dǎo)引面上移動(dòng)。本實(shí)施形態(tài)中，導(dǎo)引面與XV平面實(shí)質(zhì)平行。
[0086]又，本實(shí)施形態(tài)中，基板載臺(tái)2具有例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2007/0177125號(hào)說(shuō)明書、及美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2008/0049209號(hào)說(shuō)明書等所揭示的將基板？保持成可釋放的第1保持部與配置在第1保持部周圍、將覆蓋構(gòu)件I保持成可釋放的第2保持部。第1保持部將基板？保持成基板？的表面(上面)與XV平面實(shí)質(zhì)平行。本實(shí)施形態(tài)中，被保持于第1保持部的基板？的上面與被保持于第2保持部的覆蓋構(gòu)件I的上面，實(shí)質(zhì)上配置在同一平面內(nèi)。當(dāng)然，被保持于第1保持部的基板？的上面與被保持于第2保持部的覆蓋構(gòu)件丁的上面可以不是配置在同一平面內(nèi)?；蚋采w構(gòu)件I的上面相對(duì)基板？的上面傾斜，或覆蓋構(gòu)件I的上面包含曲面。
[0087]基板載臺(tái)2及測(cè)量載臺(tái)3，是通過(guò)例如美國(guó)專利第6452292號(hào)所揭示的包含平面馬達(dá)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)15的作動(dòng)而移動(dòng)。驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)15具有配置在基板載臺(tái)2的可動(dòng)子20、配置在測(cè)量載臺(tái)3的可動(dòng)子30、與配置在基座構(gòu)件14的固定子141?；遢d臺(tái)2及測(cè)量載臺(tái)3可分別通過(guò)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)15的作動(dòng)，在導(dǎo)引面上移動(dòng)于X軸、V軸、2軸、0乂、0 1及0 2方向的6個(gè)方向。又，驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)15可不包含平面馬達(dá)。例如，驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)15可包含線性馬達(dá)。
[0088]測(cè)量系統(tǒng)4包含干涉儀系統(tǒng)。干涉儀系統(tǒng)包含對(duì)基板載臺(tái)2的測(cè)量鏡及測(cè)量載臺(tái)3的測(cè)量鏡照射測(cè)量光，以測(cè)量該基板載臺(tái)2及測(cè)量載臺(tái)3的位置的單元。又，測(cè)量系統(tǒng)可包含例如美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2007/0288121號(hào)說(shuō)明書所揭示的編碼器系統(tǒng)。此外，測(cè)量系統(tǒng)4亦可僅包含干涉儀系統(tǒng)及編碼器系統(tǒng)中的任一方。
[0089]實(shí)施基板？的曝光處理時(shí)、或?qū)嵤┘榷y(cè)量處理時(shí)，控制器6根據(jù)測(cè)量系統(tǒng)4的測(cè)量結(jié)果，實(shí)施基板載臺(tái)2(基板？)及測(cè)量載臺(tái)3(測(cè)量構(gòu)件0的位置控制。
[0090]其次，說(shuō)明本實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件5。又，亦可將液浸構(gòu)件稱為嘴構(gòu)件。圖2是液浸構(gòu)件5的與XX平面平行的剖面圖。圖3是將圖2的一部分予以放大的圖。圖4是顯示液浸構(gòu)件5的一動(dòng)作例的圖，圖5是從下側(cè)(一 2軸側(cè))觀察液浸構(gòu)件5的圖。圖6和圖7是液浸構(gòu)件5的立體圖。
[0091]液浸構(gòu)件5在能于終端光學(xué)元件13的下方移動(dòng)的物體上形成液體⑷的液浸空間180
[0092]本實(shí)施形態(tài)中，能在終端光學(xué)元件13的下方移動(dòng)的物體，可在包含與射出面12相對(duì)的位置的XV平面內(nèi)移動(dòng)。該物體能與射出面12相對(duì)、能配置于投影區(qū)域？8。該物體能在液浸構(gòu)件5的下方移動(dòng)、能與液浸構(gòu)件5相對(duì)。本實(shí)施形態(tài)中，該物體包含基板載臺(tái)2的至少一部分(例如基板載臺(tái)2的覆蓋構(gòu)件1)、被保持于基板載臺(tái)2(第1保持部)的基板？、及測(cè)量載臺(tái)3中的至少一者。于基板？的曝光中，形成一將終端光學(xué)元件13的射出面12與基板？間的曝光用光此的光路X被液體1^！充滿的液浸空間舊。形成一在基板？被曝光用光此照射時(shí)，僅包含投影區(qū)域的基板？的表面部分區(qū)域被液體1^！覆蓋的液浸空間180
[0093]以下的說(shuō)明中，設(shè)物體為基板？。又，如前所述，物體可以是基板載臺(tái)2及測(cè)量載臺(tái)3中的至少一方，亦可以是與基板？、基板載臺(tái)2及測(cè)量載臺(tái)3不同的其他物體。此外，有形成液浸空間…跨于基板載臺(tái)2的覆蓋構(gòu)件I與基板？的情形，亦有形成液浸空間13跨于基板載臺(tái)2與測(cè)量載臺(tái)3的情形。
[0094]液浸空間13是以從終端光學(xué)元件13的射出面12射出的曝光用光￡1的光路1(被液體⑷充滿的方式形成。液浸空間…的至少一部分形成在終端光學(xué)元件13與基板？(物體)間的空間。又，液浸空間[3的至少一部分形成在液浸構(gòu)件5與基板？(物體)之間的空間。
[0095]液浸構(gòu)件5，具備配置在終端光學(xué)元件13周圍的至少一部分的第1構(gòu)件21、與在第1構(gòu)件21的下方配置在光路1(周圍的至少一部分可相對(duì)第1構(gòu)件21移動(dòng)的第2構(gòu)件22。本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22是在光路1(的周圍以圍繞光路1(的方式配置。
[0096]第1構(gòu)件21是配置在較第2構(gòu)件22離開(kāi)基板？(物體)的位置。第2構(gòu)件22的至少一部分配置在第1構(gòu)件21與基板？(物體)之間。
[0097]本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22的一部分配置在第1構(gòu)件21的下方。亦即，本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22的一部分配置在第1構(gòu)件21與基板？(物體)之間。
[0098]又，第2構(gòu)件22的至少一部分配置在終端光學(xué)元件13與基板？(物體)之間。又，第2構(gòu)件22亦可以不是配置在終端光學(xué)元件13與基板？(物體)之間。
[0099]第1構(gòu)件21，具有朝向一 2軸方向的下面23與配置在下面23周圍的至少一部分、可回收液體的液體回收部24。又，亦可將液體回收部24稱為可回收流體(液體及氣體的一方或兩方)的流體回收部。第2構(gòu)件22，具有朝向+2軸方向的上面25、朝向一 2軸方向的下面26、以及配置在下面26周圍的至少一部分的流體回收部27。又，可將下面23稱為第1下面。此外，亦可將上面25稱為第2上面、將下面26稱為第2下面。
[0100]第1構(gòu)件21，具有與終端光學(xué)元件13的側(cè)面13？相對(duì)的內(nèi)側(cè)面28、與相對(duì)光路“終端光學(xué)元件13的光軸)朝向外側(cè)的外側(cè)面29。第2構(gòu)件22，具有通過(guò)間隙與外側(cè)面29相對(duì)的內(nèi)側(cè)面30。又，可將第1構(gòu)件21的內(nèi)側(cè)面28稱為相對(duì)面。
[0101]第1構(gòu)件21的內(nèi)側(cè)面28，通過(guò)間隙與終端光學(xué)元件13的側(cè)面13？相對(duì)。
[0102]第2構(gòu)件22可相對(duì)于下面23。第2構(gòu)件22可相對(duì)于液體回收部24。本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22的上面25的至少一部分，通過(guò)間隙與下面23相對(duì)。本實(shí)施形態(tài)中，上面25的至少一部分通過(guò)間隙與射出面12相對(duì)。當(dāng)然，上面25可不與射出面12相對(duì)。
[0103]基板？(物體)可相對(duì)于下面26?；?？(物體)可相對(duì)于流體回收部27。本實(shí)施形態(tài)中，基板？的上面的至少一部分通過(guò)間隙與下面26相對(duì)?；?？的上面的至少一部分通過(guò)間隙與射出面12相對(duì)。本實(shí)施形態(tài)中，于2軸方向，基板？(物體)的上面與下面26間的間隙的尺寸雖較第1構(gòu)件21的下面23與第2構(gòu)件22的上面25間的間隙的尺寸大，但亦可相同。此外，基板？(物體)的上面與下面26間的間隙的尺寸，可較第1構(gòu)件21的下面23與第2構(gòu)件22的上面25間的間隙的尺寸小。本實(shí)施形態(tài)中，于2軸方向，基板？(物體)的上面與射出面12間的間隙的尺寸，較基板？的上面與下面26間的間隙的尺寸大。
[0104]下面23與上面25之間形成第1空間3？1。下面26與基板？(物體)的上面之間形成第2空間3？2。側(cè)面13？與內(nèi)側(cè)面28之間形成第3空間3？3。
[0105]本實(shí)施形態(tài)中，上面25相對(duì)液體為撥液性。本實(shí)施形態(tài)中，上面25包含含氟的樹脂的膜的表面。本實(shí)施形態(tài)中，上面25包含四氟乙烯全氟烷基乙烯醚共聚，16^8？11101~0 61:11716116~？61~？11101~06七00^01711161-)白勺月莫白勺表面。又，上面 25 亦可包含？聚四氟乙稀，？017 ？11101~0一訪力一加)的膜的表面。上面25對(duì)液體⑷的上面25的接觸角大于90度。又，上面25對(duì)液體的接觸角，例如可大于100度、亦可大于110度、或大于120度。
[0106]由于上面25對(duì)液體為撥液性，因此于第1空間3？1的液體產(chǎn)生氣體部分、或氣泡混入液體1^！的情形受到抑制。
[0107]又，上面25對(duì)液體的接觸角可大于、或小于基板？的上面對(duì)液體的接觸角。又，上面25對(duì)液體的接觸角亦可與基板？的上面對(duì)液體1^！的接觸角實(shí)質(zhì)相等。
[0108]又，上面25對(duì)液體可以是親液性。上面25對(duì)液體的接觸角可小于90度、可小于80度、亦可小于70度。據(jù)此，于第1空間3？1中液體⑷可順暢的流動(dòng)。
[0109]又，下面23對(duì)液體可以是撥液性。例如，下面23及上面25的兩方可對(duì)液體⑷為撥液性。此外，亦可以是下面23對(duì)液體10為撥液性、而上面25對(duì)液體10為親液性。
[0110]又，下面23對(duì)液體亦可以是親液性。例如，下面23及上面25的兩方對(duì)液體⑷可以是親液性。此外，亦可以是下面23對(duì)液體10為親液性、而上面25對(duì)液體10為撥液性。
[0111]本實(shí)施形態(tài)中，下面26對(duì)液體為親液性。下面26對(duì)液體的接觸角可小于90度、小于80度、亦可小于70度。本實(shí)施形態(tài)中，下面26對(duì)液體的接觸角較基板？的上面對(duì)液體的接觸角小。又，下面26對(duì)液體的接觸角可大于、或?qū)嵸|(zhì)等于基板？的上面對(duì)液體的接觸角。
[0112]終端光學(xué)元件13的側(cè)面13？配置在射出面12的周圍。側(cè)面13？是不射出曝光用光此的非射出面。曝光用光此通過(guò)射出面12、但不通過(guò)側(cè)面13？。
[0113]第1構(gòu)件21的下面23不回收液體“!。下面23為非回收部，無(wú)法回收液體“!。第1構(gòu)件21的下面23，能在與第2構(gòu)件22之間保持液體10。
[0114]第2構(gòu)件22的上面25不回收液體1^。上面25為非回收部，無(wú)法回收液體⑷。第2構(gòu)件22的上面25，能在與第1構(gòu)件21之間保持液體⑷。
[0115]第2構(gòu)件22的下面26不回收液體“!。下面26為非回收部，無(wú)法回收液體“!。第2構(gòu)件22的下面26，能在與基板？(物體)之間保持液體10。
[0116]內(nèi)側(cè)面28、外側(cè)面29及內(nèi)側(cè)面30不回收液體內(nèi)側(cè)面28、外側(cè)面29及內(nèi)側(cè)面30為非回收部，無(wú)法回收液體⑷。
[0117]本實(shí)施形態(tài)中，下面23與XV平面實(shí)質(zhì)平行。上面25亦與XV平面實(shí)質(zhì)平行。下面26亦與XV平面實(shí)質(zhì)平行。亦即，下面23與上面25實(shí)質(zhì)平行。上面25與下面26實(shí)質(zhì)平行。
[0118]又，下面23相對(duì)XV平面可以是非平行，亦可包含曲面。此外，上面25相對(duì)XV平面可以是非平行，亦可包含曲面。又，下面26相對(duì)XV平面可以是非平行，亦可包含曲面。又，下面23與上面25與下面26中的一個(gè)可與另一個(gè)是非平行。
[0119]第1構(gòu)件21具有開(kāi)口 34。從射出面12射出的曝光用光此可通過(guò)開(kāi)口 34。第2構(gòu)件22具有開(kāi)口 35。從射出面12射出的曝光用光此可通過(guò)開(kāi)口 35。又，可將開(kāi)口 34稱為第1開(kāi)口、將開(kāi)口 35稱為第2開(kāi)口。于開(kāi)口 34的內(nèi)側(cè)配置終端光學(xué)元件13的至少一部分。本實(shí)施形態(tài)中，第1構(gòu)件21的內(nèi)面3仙的至少一部分，是于相對(duì)光路1(的放射方向朝外側(cè)向上方傾斜。第1構(gòu)件21的內(nèi)面34口的至少一部分，規(guī)定面向光路1(的開(kāi)口 34。于開(kāi)口 34的下端周圍配置下面23。于開(kāi)口 35的上端周圍配置上面25。于開(kāi)口 35的下端周圍配置下面26。
[0120]本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22的內(nèi)面35。的至少一部分，是于相對(duì)光路1(的放射方向朝外側(cè)向上方傾斜。第2構(gòu)件22的內(nèi)面35。的至少一部分，規(guī)定面向光路1(的開(kāi)口 35。據(jù)此，在第2構(gòu)件22的內(nèi)面351配置于液浸空間[3的狀態(tài)下，第2構(gòu)件22能順暢的移動(dòng)。此外，即使在第2構(gòu)件22的內(nèi)面35。配置于液浸空間13的狀態(tài)下第2構(gòu)件22移動(dòng)，液浸空間舊的液體的壓力變動(dòng)的情形亦會(huì)受到抑制。
[0121]本實(shí)施形態(tài)中，開(kāi)口 34于XV平面內(nèi)的尺寸，較開(kāi)口 35的尺寸大。本實(shí)施形態(tài)中，于X軸方向，開(kāi)口 34的尺寸較開(kāi)口 35的尺寸大。本實(shí)施形態(tài)中，于V軸方向，開(kāi)口 34的尺寸較開(kāi)口 35的尺寸大。本實(shí)施形態(tài)中，緊接著射出面12的下方，不配置第1構(gòu)件21，開(kāi)口34配置在射出面12的周圍。本實(shí)施形態(tài)中，開(kāi)口 34較射出面12大。本實(shí)施形態(tài)中，在終端光學(xué)元件13的側(cè)面13？與第1構(gòu)件21之間所形成的間隙的下端，是面向第2構(gòu)件22的上面25。此外，第2構(gòu)件22的開(kāi)口 35配置成與射出面12相對(duì)。本實(shí)施形態(tài)中，開(kāi)口 35于XV平面內(nèi)的形狀是于X軸方向長(zhǎng)的長(zhǎng)方形狀。又，開(kāi)口 35的形狀不限于長(zhǎng)方形，亦可以是于X軸方向長(zhǎng)的橢圓形、或于X軸方向長(zhǎng)的多角形。
[0122]又，開(kāi)口 34的尺寸可較開(kāi)口 35的尺寸小。當(dāng)然，開(kāi)口 34的尺寸亦可與開(kāi)口 35的尺寸實(shí)質(zhì)相等。此外，于X軸方向，開(kāi)口 34的尺寸可較開(kāi)口 35的尺寸小，于V軸方向，開(kāi)口34的尺寸可較開(kāi)口 35的尺寸大。
[0123]第1構(gòu)件21配置在終端光學(xué)元件13的周圍。第1構(gòu)件21為環(huán)狀構(gòu)件。第1構(gòu)件21被配置成不接觸終端光學(xué)元件13。第1構(gòu)件21與終端光學(xué)元件13之間形成有間隙。本實(shí)施形態(tài)中，第1構(gòu)件21不與射出面12相對(duì)。又，第1構(gòu)件21的一部分可與射出面12相對(duì)。亦即，第1構(gòu)件21的一部分，可以是配置在射出面12與基板？(物體)的上面之間。又，第1構(gòu)件21亦可以不是環(huán)狀。例如，第1構(gòu)件21可配置在終端光學(xué)元件13(光路10周圍的一部分。例如，第1構(gòu)件21可在終端光學(xué)元件13(光路10的周圍配置多個(gè)。
[0124]第2構(gòu)件22配置在光路1(的周圍。第2構(gòu)件22為環(huán)狀構(gòu)件。第2構(gòu)件22被配置成不接觸第1構(gòu)件21。第2構(gòu)件22與第1構(gòu)件21之間形成有間隙。
[0125]本實(shí)施形態(tài)中，第1構(gòu)件21是通過(guò)支承構(gòu)件213被支承于裝置框架88。當(dāng)然，第1構(gòu)件21亦可通過(guò)支承構(gòu)件被支承于基準(zhǔn)框架8八。
[0126]第2構(gòu)件22通過(guò)支承構(gòu)件223被支承于裝置框架88。支承構(gòu)件223，是相對(duì)光路X于第1構(gòu)件21的外側(cè)連接于第2構(gòu)件22。又，第1構(gòu)件21亦可以是通過(guò)支承構(gòu)件被支承于基準(zhǔn)框架8八。
[0127]第2構(gòu)件22可相對(duì)第1構(gòu)件21移動(dòng)。第2構(gòu)件22可相對(duì)終端光學(xué)元件13移動(dòng)。第2構(gòu)件22與第1構(gòu)件21的相對(duì)位置可變化。第2構(gòu)件22與終端光學(xué)元件13的相對(duì)位置可變化。
[0128]第2構(gòu)件22可在與終端光學(xué)元件13的光軸垂直的XV平面內(nèi)移動(dòng)。第2構(gòu)件22可與XV平面實(shí)質(zhì)平行的移動(dòng)。如圖4所示，本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22至少能于X軸方向移動(dòng)。又，第2構(gòu)件22亦可在X軸方向之外，另于V軸、2軸、0乂、0 1及0 2中至少一方向移動(dòng)。
[0129]本實(shí)施形態(tài)中，終端光學(xué)元件13實(shí)質(zhì)上不移動(dòng)。第1構(gòu)件21亦實(shí)質(zhì)上不移動(dòng)。
[0130]第2構(gòu)件22能在第1構(gòu)件21的至少一部分的下方移動(dòng)。第2構(gòu)件22能在第1構(gòu)件21與基板？(物體)之間移動(dòng)。
[0131]本實(shí)施形態(tài)中，因第2構(gòu)件22在IX平面內(nèi)移動(dòng)，使得第1構(gòu)件21的外側(cè)面29與第2構(gòu)件22的內(nèi)側(cè)面30間的間隙尺寸變化。換言之，因第2構(gòu)件22在XV平面內(nèi)移動(dòng)，使得外側(cè)面29與內(nèi)側(cè)面30間的空間大小變化。例如，圖4所示例中，因第2構(gòu)件22往一 X軸方向移動(dòng)，使得外側(cè)面29與內(nèi)側(cè)面30間的間隙尺寸變小(外側(cè)面29與內(nèi)側(cè)面30間的空間變小)。因第2構(gòu)件22往―乂軸方向移動(dòng)，使得外側(cè)面29與內(nèi)側(cè)面30間的間隙尺寸變大(外側(cè)面29與內(nèi)側(cè)面30間的空間變大本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22的可移動(dòng)范圍，被定為第1構(gòu)件21 (外側(cè)面29)與第2構(gòu)件22 (內(nèi)側(cè)面30)不致接觸。
[0132]本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22是藉驅(qū)動(dòng)裝置32移動(dòng)。本實(shí)施形態(tài)中，驅(qū)動(dòng)裝置32使支承構(gòu)件223移動(dòng)。因支承構(gòu)件223被驅(qū)動(dòng)裝置32驅(qū)動(dòng)而移動(dòng)，第2構(gòu)件22即可移動(dòng)。驅(qū)動(dòng)裝置32，例如含馬達(dá)、使用羅倫茲力移動(dòng)第2構(gòu)件22。
[0133]驅(qū)動(dòng)裝置32通過(guò)支承構(gòu)件323被支承于裝置框架88。本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22是通過(guò)支承構(gòu)件223、驅(qū)動(dòng)裝置32及支承構(gòu)件323被支承于裝置框架88。即使因第2構(gòu)件22的移動(dòng)而產(chǎn)生振動(dòng)，亦可通過(guò)防振裝置10，使該振動(dòng)傳遞至基準(zhǔn)框架8八的情形受到抑制。
[0134]第2構(gòu)件22，例如可與曝光用光￡1從射出面12射出的期間的至少一部分并行，進(jìn)行移動(dòng)。第2構(gòu)件22，亦可與在液浸空間13形成的狀態(tài)下曝光用光￡1從射出面12射出的期間的至少一部分并行，進(jìn)行移動(dòng)。
[0135]第2構(gòu)件22，可與基板？(物體)移動(dòng)的期間的至少一部分并行，進(jìn)行移動(dòng)。第2構(gòu)件22，亦可與在液浸空間[3形成的狀態(tài)下基板？(物體)移動(dòng)的期間的至少一部分并行，進(jìn)行移動(dòng)。
[0136]第2構(gòu)件22可于基板？(物體)的移動(dòng)方向移動(dòng)。例如，基板？往XV平面內(nèi)的一方向(例如―乂軸方向)移動(dòng)時(shí)，第2構(gòu)件22可與該基板？的移動(dòng)同步，往XV平面內(nèi)的一方向(―乂軸方向)移動(dòng)。
[0137]液浸構(gòu)件5具有供應(yīng)用以形成液浸空間舊的液體的液體供應(yīng)部31。本實(shí)施形態(tài)中，液體供應(yīng)部31配置于第1構(gòu)件21。又，液體供應(yīng)部31亦可配置在第1構(gòu)件21及第2構(gòu)件22的兩方。此外，液體供應(yīng)部31可以是配置在第1構(gòu)件21、而不配置在第2構(gòu)件22。再者，液體供應(yīng)部31可以是配置在第2構(gòu)件22、而不配置在第1構(gòu)件21。又，液體供應(yīng)部31亦可配置在與第1構(gòu)件21及第2構(gòu)件22不同的其他構(gòu)件。
[0138]液體供應(yīng)部31，是在相對(duì)光路1((終端光學(xué)元件13的光軸)的放射方向配置在液體回收部24及流體回收部27的內(nèi)側(cè)。本實(shí)施形態(tài)中，液體供應(yīng)部31包含配置在第1構(gòu)件21的內(nèi)側(cè)面28的開(kāi)口(液體供應(yīng)口 )。液體供應(yīng)部31被配置成相對(duì)于側(cè)面13？。液體供應(yīng)部31將液體供應(yīng)至側(cè)面13？與內(nèi)側(cè)面28間的第3空間3？3。本實(shí)施形態(tài)中，液體供應(yīng)部31是相對(duì)光路1((終端光學(xué)元件13)配置在―乂軸側(cè)及一 X軸側(cè)的各側(cè)。又，液體供應(yīng)部31可相對(duì)光路1((終端光學(xué)元件13)配置于V軸方向、亦可在包含X軸方向及V軸方向的光路“終端光學(xué)元件13)的周圍配置多個(gè)。此外，液體供應(yīng)部31可以是一個(gè)。再者，亦可取代液體供應(yīng)部31、或在液體供應(yīng)部31之外，于下面23設(shè)置可供應(yīng)液體⑷的液體供應(yīng)部。
[0139]本實(shí)施形態(tài)中，液體供應(yīng)部(液體供應(yīng)口)31是通過(guò)形成在第1構(gòu)件21內(nèi)部的供應(yīng)流路31卩，與液體供應(yīng)裝置313連接。液體供應(yīng)裝置313可將潔凈且溫度經(jīng)調(diào)整的液體
供應(yīng)至液體供應(yīng)部31。液體供應(yīng)部31，為形成液浸空間13而供應(yīng)來(lái)自液體供應(yīng)裝置313的液體10。
[0140]下面23的內(nèi)側(cè)邊緣與上面25之間形成有開(kāi)口 40。包含射出面12與基板？(物體)間的光路X的光路空間和下面23與上面25間的第1空間3？1是通過(guò)開(kāi)口 40連結(jié)。光路空間包含射出面12與基板？(物體)間的空間、及射出面12與上面25間的空間。開(kāi)口 40配置成面向光路X。側(cè)面13？與內(nèi)側(cè)面28間的第3空間3？3與第1空間3？1通過(guò)開(kāi)口 40連結(jié)。
[0141]來(lái)自液體供應(yīng)部31的液體的至少一部分，通過(guò)開(kāi)口 40被供應(yīng)至下面23與上面25間的第1空間3？1。為形成液浸空間[3而從液體供應(yīng)部31供應(yīng)的液體1^！的至少一部分，通過(guò)開(kāi)口 34及開(kāi)口 35被供應(yīng)至與射出面12相對(duì)的基板？(物體)上。據(jù)此，光路1(即被液體1^！充滿。來(lái)自液體供應(yīng)部31的液體的至少一部分，被供應(yīng)至下面26與基板？(物體)的上面間的第2空間3？2。
[0142]本實(shí)施形態(tài)中，于2軸方向，第1空間3？1的尺寸較第2空間3？2的尺寸小。當(dāng)然，于2軸方向，第1空間3？1的尺寸可與第2空間3？2的尺寸實(shí)質(zhì)相等、亦可較第2空間3？2的尺寸大。
[0143]液體回收部24，是相對(duì)光路1((終端光學(xué)元件13的光軸)配置在下面23的外側(cè)。本實(shí)施形態(tài)中，液體回收部24配置在下面23的周圍。液體回收部24配置在曝光用光￡1的光路X的周圍。又，液體回收部24亦可配置在下面23的周圍的一部分。例如，液體回收部24可于下面23的周圍配置多個(gè)。本實(shí)施形態(tài)中，液體回收部24回收第1空間3？1的液體的至少一部分。
[0144]流體回收部27，相對(duì)光路1((終端光學(xué)元件13的光軸)配置在下面26的外側(cè)。本實(shí)施形態(tài)中，流體回收部27配置在下面26的周圍。流體回收部27配置在曝光用光￡1的光路X的周圍。又，流體回收部27亦可配置在下面26的周圍的一部分。例如，流體回收部27可在下面26的周圍配置多個(gè)。本實(shí)施形態(tài)中，流體回收部27配置成面向基板？(物體)。流體回收部27回收第2空間3？2的液體的至少一部分。
[0145]本實(shí)施形態(tài)中，流體回收部27相對(duì)光路“終端光學(xué)元件13的光軸)配置在第1構(gòu)件21的外側(cè)面29的外側(cè)。又，流體回收部27相對(duì)光路1((終端光學(xué)元件13的光軸)配置在第1空間3？1的外側(cè)。又，流體回收部27相對(duì)光路“終端光學(xué)元件13的光軸)配置在上面25的外側(cè)。
[0146]本實(shí)施形態(tài)中，液體從上面25側(cè)的第1空間3？1及下面26側(cè)的第2空間3？2中的一方往另一方的移動(dòng)受到抑制。第1空間3？1與第2空間3？2被第2構(gòu)件22區(qū)隔。第1空間3？1的液體可通過(guò)開(kāi)口 35移動(dòng)至第2空間3？2。第1空間3？1的液體不通過(guò)開(kāi)口 35即無(wú)法移動(dòng)至第2空間3？2。相對(duì)光路1(存在于較開(kāi)口 35外側(cè)的第1空間3？1中的液體1^！無(wú)法移動(dòng)至第2空間3？2。第2空間3？2的液體可通過(guò)開(kāi)口 35移動(dòng)至第1空間3？1。第2空間3？2的液體不通過(guò)開(kāi)口 35即無(wú)法移動(dòng)至第1空間3？1。相對(duì)光路X存在于較開(kāi)口 35外側(cè)的第2空間3？2中的液體1^！無(wú)法移動(dòng)至第1空間3？1。亦即，本實(shí)施形態(tài)中，液浸構(gòu)件5除了開(kāi)口 35以外，不具有將第1空間3？1與第2空間3？2連接成流體可流動(dòng)的流路。
[0147]本實(shí)施形態(tài)中，流體回收部27回收第2空間3？2的液體1^！的至少一部分，而不回收第1空間3？1的液體10。液體回收部24則回收第1空間3？1的液體的至少一部分，而不回收第2空間3？2的液體1^。又，若在液體回收部24之下沒(méi)有第2構(gòu)件22的上面25的情形時(shí)，可將物體(基板？)上的液體以液體回收部24加以回收。
[0148]又，相對(duì)光路1(移動(dòng)至第1空間3？1的外側(cè)(外側(cè)面29的外側(cè))的液體1^，是通過(guò)內(nèi)側(cè)面30抑制移動(dòng)至基板？上(第2空間$2)。
[0149]液體回收部24，包含配置在第1構(gòu)件21的下面23周圍的至少一部分的開(kāi)口(液體回收口液體回收部24配置成相對(duì)于上面25。液體回收部24，通過(guò)形成在第1構(gòu)件21內(nèi)部的回收流路(空間)248與液體回收裝置24(:連接。液體回收裝置24(:可將液體回收部24與真空系統(tǒng)(未圖示)加以連接。液體回收部24可回收第1空間3？1的液體1^！的至少一部分。第1空間的液體1^！的至少一部分可通過(guò)液體回收部24流入回收流路24尺。又，亦可將從終端光學(xué)元件13的側(cè)面13？與第1構(gòu)件21的內(nèi)側(cè)面間的第3空間3？3，經(jīng)由第1構(gòu)件21的上面，通過(guò)第1構(gòu)件21的外側(cè)面29與第2構(gòu)件22的內(nèi)側(cè)面30間的空間，流至第2構(gòu)件22的上面25上的液體⑷，以液體回收部24加以回收。亦即，亦可將液體回收部24用作為回收不通過(guò)開(kāi)口 40從空間3？3流至第2構(gòu)件22的上面25上的液體1^！的回收部。當(dāng)然，可將回收來(lái)自空間3？3的液體⑷的回收部設(shè)在第1構(gòu)件21的上面，亦可設(shè)在第2構(gòu)件22的上面25與內(nèi)側(cè)面30中的至少一方。
[0150]本實(shí)施形態(tài)中，液體回收部24包含多孔構(gòu)件36。本實(shí)施形態(tài)中，液體回收口包含多孔構(gòu)件36。本實(shí)施形態(tài)中，多孔構(gòu)件36包含網(wǎng)孔板(腕也1)1^6) 0多孔構(gòu)件36，具有上面25可相對(duì)的下面、面向回收流路241？的上面、以及將下面與上面加以連結(jié)的多個(gè)孔。液體回收部24通過(guò)多孔構(gòu)件36的孔回收液體1^！。從液體回收部24(多孔構(gòu)件36的孔)回收的液體⑷，流入回收流路241？并流過(guò)該回收流路241？后，被回收至液體回收裝置2扣回收。
[0151]本實(shí)施形態(tài)中，通過(guò)液體回收部24實(shí)質(zhì)上僅回收液體“！，而通過(guò)液體回收部24的氣體回收則受到限制。控制器6調(diào)整多孔構(gòu)件36的下面?zhèn)鹊膲毫?第1空間3？1的壓力)與上面?zhèn)鹊膲毫?回收流路241？的壓力)的差，以使第1空間3？1的液體⑷通過(guò)多孔構(gòu)件36的孔流入回收流路241氣體則不通過(guò)多孔構(gòu)件36的孔。又，通過(guò)多孔構(gòu)件僅回收液體的技術(shù)的一例，已揭示于例如美國(guó)專利第7292313號(hào)等中。
[0152]此外，液可通過(guò)多孔構(gòu)件36回收(吸引)液體及氣體的兩方。亦即，液體回收部24可將液體與氣體一起回收。又，液體回收部24之下無(wú)液體存在時(shí)，可從液體回收部24僅回收氣體。又，亦可不設(shè)置多孔構(gòu)件36。
[0153]本實(shí)施形態(tài)中，液體回收部24的下面包含多孔構(gòu)件36的下面。液體回收部24的下面配置在下面23的周圍。本實(shí)施形態(tài)中，液體回收部24的下面與XV平面實(shí)質(zhì)平行。本實(shí)施形態(tài)中，液體回收部24的下面與下面23配置在同一平面內(nèi)(同面高)。
[0154]又，液體回收部24的下面可較下面23配置在+2軸側(cè)、也可配置在一 2軸側(cè)。此夕卜，液體回收部24的下面可相對(duì)下面23傾斜、亦可包含曲面。
[0155]又，用以回收第1空間3？1的流體(液體1^！及氣體中的一方或兩方)的液體回收部24，可配置于第2構(gòu)件22。例如，可于上面25的周緣部設(shè)置液體回收部24。液體回收部24亦可配置在第1構(gòu)件21及第2構(gòu)件22的兩方。液體回收部24亦可配置在第1構(gòu)件21、而不配置在第2構(gòu)件22。液體回收部24當(dāng)然亦可配置在第2構(gòu)件22、而不配置在第1構(gòu)件21。
[0156]流體回收部27，包含配置在第2構(gòu)件22的下面26周圍至少一部分的開(kāi)口(流體回收口流體回收部27被配置成相對(duì)于基板？(物體)的上面。流體回收部27通過(guò)形成在第2構(gòu)件22內(nèi)部的回收流路(空間)278與流體回收裝置27(:連接。流體回收裝置270可將流體回收部27與真空系統(tǒng)(未圖示)加以連接。流體回收部27能回收第2空間3？2的液體1^！的至少一部分。第2空間3？2的液體的至少一部分可通過(guò)流體回收部27流入回收流路27尺。
[0157]本實(shí)施形態(tài)中，流體回收部27包含多孔構(gòu)件37，流體回收口包含多孔構(gòu)件37的孔。本實(shí)施形態(tài)中，多孔構(gòu)件37包含網(wǎng)孔板。多孔構(gòu)件37，具有基板？(物體)的上面可相對(duì)的下面、面向回收流路271？的上面、以及將下面與上面加以連結(jié)的多個(gè)孔。流體回收部27能通過(guò)多孔構(gòu)件37的孔回收流體(液體⑷及氣體的一方或兩方)。從流體回收部27 (多孔構(gòu)件37的孔)回收的液體⑷，流入回收流路271在流過(guò)該回收流路271？后被回收至流體回收裝置270。
[0158]本實(shí)施形態(tài)中，回收流路271？是相對(duì)光路1((終端光學(xué)元件13的光軸)配置在內(nèi)側(cè)面30的外側(cè)。回收流路271？配置在流體回收部27的上方。通過(guò)第2構(gòu)件22的移動(dòng)，第2構(gòu)件22的流體回收部27及回收流路271？即在第1構(gòu)件21的外側(cè)面29的外側(cè)移動(dòng)。
[0159]本實(shí)施形態(tài)，是通過(guò)流體回收部27將液體與氣體一起回收。當(dāng)然，亦可通過(guò)多孔構(gòu)件37僅回收液體⑷而限制通過(guò)多孔構(gòu)件37的氣體的回收。又，亦可不設(shè)置多孔構(gòu)件37。
[0160]本實(shí)施形態(tài)中，流體回收部27的下面包含多孔構(gòu)件37的下面。流體回收部27的下面配置在下面26的周圍。本實(shí)施形態(tài)中，流體回收部27的下面與XV平面實(shí)質(zhì)平行。本實(shí)施形態(tài)中，流體回收部27的下面較下面26配置在+2軸側(cè)。
[0161]又，流體回收部27的下面與下面26可以是配置在同一平面內(nèi)(同面高)。流體回收部27的下面可較下面26配置在一 2軸側(cè)。此外，流體回收部27的下面可相對(duì)下面26傾斜、亦可包含曲面。例如，如圖25所示，流體回收部27(多孔構(gòu)件37)的下面可于相對(duì)光路X的放射方向朝外側(cè)向上方傾斜。又，亦可以是流體回收部27(多孔構(gòu)件37)的下面于開(kāi)口 35的周圍全周的高度不同。例如，位于開(kāi)口 35的V軸方向兩側(cè)的流體回收部27(多孔構(gòu)件37)下面的一部分，可較位于開(kāi)口 35的X軸方向兩側(cè)的流體回收部27(多孔構(gòu)件37)下面的一部分低。例如，亦可將流體回收部27(多孔構(gòu)件37)下面的形狀設(shè)定成在第2構(gòu)件22的流體回收部27 (多孔構(gòu)件37)的下面與基板？的表面相對(duì)時(shí)，相對(duì)曝光用光的光路1(形成在V軸方向一側(cè)的流體回收部27 (多孔構(gòu)件37)的下面與基板？的表面間的間隙尺寸(2軸方向的距離)，較相對(duì)曝光用光的光路X形成在X軸方向一側(cè)的流體回收部27(多孔構(gòu)件37)的下面與基板？的表面間的間隙尺寸(2軸方向的距離)小。
[0162]本實(shí)施形態(tài)中，是通過(guò)與液體從液體供應(yīng)部31的供應(yīng)動(dòng)作并行，實(shí)施液體從流體回收部27的回收動(dòng)作，據(jù)以在一側(cè)的終端光學(xué)元件13及液浸構(gòu)件5與另一側(cè)的基板？(物體)之間以液體1^！形成液浸空間13。
[0163]又，本實(shí)施形態(tài)，是與液體1^！從液體供應(yīng)部31的供應(yīng)動(dòng)作、及流體從流體回收部27的回收動(dòng)作并行，實(shí)施液體從液體回收部24的回收動(dòng)作。
[0164]本實(shí)施形態(tài)中，液浸空間[3的液體的界面⑷的一部分，形成在第2構(gòu)件22與基板？(物體)之間。
[0165]又，本實(shí)施形態(tài)中，液浸空間13的液體1^！的界面⑷的一部分，形成在第1構(gòu)件21與第2構(gòu)件22之間。
[0166]又，本實(shí)施形態(tài)中，液浸空間[3的液體1^！的界面⑷的一部分，形成在終端光學(xué)元件13與第1構(gòu)件21之間。
[0167]以下的說(shuō)明中，將形成在第1構(gòu)件21與第2構(gòu)件22之間的液體的界面適當(dāng)?shù)姆Q為第1界面[以。將形成在第2構(gòu)件22與基板？(物體)之間的界面⑷，適當(dāng)?shù)姆Q為第2界面1^2。并將形成在終端光學(xué)元件13與第1構(gòu)件21之間的界面⑷，適當(dāng)?shù)姆Q為第3界面1X3。
[0168]本實(shí)施形態(tài)中，第1界面[以形成在液體回收部24的下面與上面25之間。第2界面形成在流體回收部27的下面與基板？(物體)的上面之間。
[0169]本實(shí)施形態(tài)中，第1界面[以形成在液體回收部24的下面與上面25之間，第1空間3？1的液體移動(dòng)至液體回收部24外側(cè)的空間(例如外側(cè)面29與內(nèi)側(cè)面30間的空間)的情形受到抑制。外側(cè)面29與內(nèi)側(cè)面30間的空間不存在液體“！，外側(cè)面29與內(nèi)側(cè)面30間的空間為氣體空間。又，外側(cè)面29與內(nèi)側(cè)面30間的空間與空間⑶連接。換言之，外側(cè)面29與內(nèi)側(cè)面30間的空間是開(kāi)放于環(huán)境氣氛。當(dāng)空間(:3的壓力為大氣壓時(shí)，外側(cè)面29與內(nèi)側(cè)面30間的空間即開(kāi)放于大氣。因此，第2構(gòu)件22可順暢的移動(dòng)。又，空間⑶的壓力可較大氣壓高、亦可較大氣壓低。
[0170]圖8是從下面23側(cè)觀察第1構(gòu)件21的圖。本實(shí)施形態(tài)中，于第1構(gòu)件21的下面23配置有誘導(dǎo)來(lái)自液體供應(yīng)部31的液體的至少一部分的誘導(dǎo)部38。誘導(dǎo)部38是設(shè)在下面23的凸部。本實(shí)施形態(tài)中，誘導(dǎo)部38將來(lái)自液體供應(yīng)部31的液體的至少一部分誘導(dǎo)至液體回收部24。又，亦可不將誘導(dǎo)部38設(shè)置在下面23。
[0171]本實(shí)施形態(tài)中，誘導(dǎo)部38的形狀是根據(jù)第2構(gòu)件22的移動(dòng)方向來(lái)決定。本實(shí)施形態(tài)中，誘導(dǎo)部38設(shè)置成可促進(jìn)液體往與第2構(gòu)件22的移動(dòng)方向平行的方向的流動(dòng)。
[0172]例如，第2構(gòu)件22往X軸方向移動(dòng)時(shí)，誘導(dǎo)部38的形狀設(shè)定為于第1空間3？1中，液體往與X軸方向平行的方向流動(dòng)而到達(dá)液體回收部24。例如，當(dāng)?shù)?構(gòu)件22往―父軸方向移動(dòng)時(shí)，第1空間的液體1^！的至少一部分，即因誘導(dǎo)部38而往―乂軸方向流動(dòng)。當(dāng)?shù)?構(gòu)件22往一 X軸方向移動(dòng)時(shí)，第1空間3？1的液體的至少一部分，即因誘導(dǎo)部38而往一 X軸方向流動(dòng)。
[0173]本實(shí)施形態(tài)中，誘導(dǎo)部38具有圍繞開(kāi)口 34配置的周壁部381與形成在該周壁部381？的一部分的狹縫(開(kāi)口)381狹縫381以能促進(jìn)液體1^！在與X軸方向平行的方向的流動(dòng)的方式，相對(duì)光路X形成在―乂軸側(cè)及一 X軸側(cè)的各側(cè)。
[0174]通過(guò)誘導(dǎo)部38，在與第2構(gòu)件22的移動(dòng)方向平行的方向，可提高液體在第1空間3？1的流速。本實(shí)施形態(tài)中，是通過(guò)誘導(dǎo)部38提高液體在第1空間3？1中于X軸方向的流速。亦即，朝向液體回收部24的下面與上面25間的空間流動(dòng)的液體的速度獲得提高。據(jù)此，相對(duì)第1構(gòu)件21的第1界面[以的位置產(chǎn)生變動(dòng)、或第1界面[以的形狀產(chǎn)生變化的情形即受到抑制。因此，第1空間3？1的液體流出至第1空間3？1外側(cè)的情形受到抑制。
[0175]又，狹縫例如，第
2構(gòu)件22亦與X軸平行的移動(dòng)時(shí)，亦可相對(duì)光路X于#軸側(cè)及一 X軸側(cè)追加狹縫381或者，即使第2構(gòu)件22不與X軸平行的移動(dòng)時(shí)，亦可相對(duì)光路X于+1軸側(cè)及一 X軸側(cè)追加狹縫381
[0176]又，亦可不根據(jù)第2構(gòu)件22的移動(dòng)方向，決定誘導(dǎo)部38的形狀(狹縫381(的位置等)。例如，可將誘導(dǎo)部38的形狀設(shè)定為于光路1(的全周圍，液體⑷相對(duì)光路1(呈放射狀流動(dòng)。
[0177]本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22可與下面23的全部相對(duì)。例如圖2所示，在第2構(gòu)件22配置于終端光學(xué)元件13的光軸與開(kāi)口 35的中心實(shí)質(zhì)一致的原點(diǎn)時(shí)，下面23的全部與第2構(gòu)件22的上面25相對(duì)。又，當(dāng)?shù)?構(gòu)件22配置于原點(diǎn)時(shí)，射出面12的一部分與第2構(gòu)件22的上面25相對(duì)。此外，當(dāng)?shù)?構(gòu)件22配置于原點(diǎn)時(shí)，液體回收部24的下面與第2構(gòu)件22的上面25相對(duì)。
[0178]又，本實(shí)施形態(tài)中，當(dāng)?shù)?構(gòu)件22配置于原點(diǎn)時(shí)，開(kāi)口 34的中心與開(kāi)口 35的中心實(shí)質(zhì)一致。
[0179]其次，說(shuō)明第2構(gòu)件22的一動(dòng)作例。第2構(gòu)件22可與基板？(物體)的移動(dòng)協(xié)力移動(dòng)。第2構(gòu)件22亦可與基板？(物體)分開(kāi)獨(dú)立移動(dòng)。亦即，第2構(gòu)件22可往與基板？(物體)不同的方向移動(dòng)、與基板？(物體)不同的速度移動(dòng)。第2構(gòu)件22能與基板？(物體)的移動(dòng)的至少一部分并行移動(dòng)。第2構(gòu)件22能在形成有液浸空間舊的狀態(tài)下移動(dòng)。第2構(gòu)件22能在第1空間3？1及第2空間3？2存在有液體1^！的狀態(tài)下移動(dòng)。
[0180]第2構(gòu)件22，可在第2構(gòu)件22與基板？(物體)不相對(duì)時(shí)移動(dòng)。例如，第2構(gòu)件22可在該第2構(gòu)件22的下方無(wú)物體時(shí)移動(dòng)。又，第2構(gòu)件22，亦可在第2構(gòu)件22與基板？(物體)間的空間不存在液體⑷時(shí)移動(dòng)。例如，第2構(gòu)件22可在沒(méi)有形成液浸空間13時(shí)移動(dòng)。
[0181]第2構(gòu)件22，例如是根據(jù)基板？(物體)的移動(dòng)條件移動(dòng)?？刂破?，例如根據(jù)基板？(物體)的移動(dòng)條件，與基板？(物體)的移動(dòng)的至少一部分并行，使第2構(gòu)件22移動(dòng)?？刂破?，一邊進(jìn)行液體1^！從液體供應(yīng)部31的供應(yīng)與液體1^！從流體回收部27及液體回收部24的回收以持續(xù)形成液浸空間13、一邊移動(dòng)第2構(gòu)件22。
[0182]本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22能以和基板？(物體)的相對(duì)移動(dòng)變小的方式移動(dòng)。又，第2構(gòu)件22能以和基板？(物體)的相對(duì)移動(dòng)較第1構(gòu)件21與基板？(物體)的相對(duì)移動(dòng)小的方式移動(dòng)。例如，第2構(gòu)件22能與基板？(物體)同步移動(dòng)。
[0183]相對(duì)移動(dòng)，包含相對(duì)速度及相對(duì)加速度中的至少一方。例如，第2構(gòu)件22，可在形成有液浸空間[3的狀態(tài)、亦即、第2空間3？2中存在液體1^！的狀態(tài)下，以和基板？(物體)的相對(duì)速度變小的方式移動(dòng)。又，第2構(gòu)件22，可在形成有液浸空間[3的狀態(tài)、亦即、第2空間3？2中存在液體1^！的狀態(tài)下，以和基板？(物體)的相對(duì)加速度變小的方式移動(dòng)。此夕卜，第2構(gòu)件22，可在形成有液浸空間13的狀態(tài)、亦即、第2空間3？2中存在液體的狀態(tài)下，以和基板？(物體)的相對(duì)速度較第1構(gòu)件21與基板？(物體)的相對(duì)速度小的方式移動(dòng)。再者，第2構(gòu)件22，可在形成有液浸空間[3的狀態(tài)、亦即、第2空間3？2中存在液體的狀態(tài)下，以和基板？(物體)的相對(duì)加速度較第1構(gòu)件21與基板？(物體)的相對(duì)加速度小的方式移動(dòng)。
[0184]第2構(gòu)件22，例如可于基板？(物體)的移動(dòng)方向移動(dòng)。例如，在基板？(物體)往―父軸方向(或一 X軸方向)移動(dòng)時(shí)，第2構(gòu)件22可往―乂軸方向(或一 X軸方向)移動(dòng)。又，在基板？(物體)一邊往―乂軸方向移動(dòng)、一邊往+1軸方向(或一 V軸方向)移動(dòng)時(shí)，第2構(gòu)件22可往―乂軸方向移動(dòng)。此外，在基板？(物體)一邊往一 X軸方向移動(dòng)、一邊往+1軸方向(或一 V軸方向)移動(dòng)時(shí)，第2構(gòu)件22可往一 X軸方向移動(dòng)。亦即，本實(shí)施形態(tài)中，基板？(物體)往包含X軸方向成分的方向移動(dòng)時(shí)，第2構(gòu)件22可往X軸方向移動(dòng)。又，在第2構(gòu)件22可往V軸方向移動(dòng)的場(chǎng)合，第2構(gòu)件22可與基板？(物體)往包含V軸方向成分的移動(dòng)的至少一部分并行，往X軸方向移動(dòng)。
[0185]圖9是顯示第2構(gòu)件22移動(dòng)的狀態(tài)的一例的圖。圖9是從下側(cè)(一 2軸側(cè))觀察液浸構(gòu)件5的圖。
[0186]以下的說(shuō)明中，是假設(shè)第2構(gòu)件22移動(dòng)于X軸方向。此外，如上所述，第2構(gòu)件22可移動(dòng)于^軸方向，亦可移動(dòng)于包含X軸方向(或V軸方向)成分的在XV平面內(nèi)的任意方向。
[0187]在基板？(物體)移動(dòng)于X軸方向(或包含X軸方向成分的在XV平面內(nèi)的既定方向)的場(chǎng)合，第2構(gòu)件22，如圖9 00?圖9(0所示，移動(dòng)于X軸方向。
[0188]本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22可在于X軸方向被規(guī)定的可移動(dòng)范圍移動(dòng)。圖9 (八)中顯示了第2構(gòu)件22配置在可移動(dòng)范圍的最一 X軸側(cè)的端部的狀態(tài)。圖9 (8)顯示了第2構(gòu)件22配置在可移動(dòng)范圍中央的狀態(tài)。圖9(0顯示了第2構(gòu)件22配置在可移動(dòng)范圍的最軸側(cè)端部的狀態(tài)。
[0189]以下的說(shuō)明中，將圖9⑷所示的第2構(gòu)件22的位置適當(dāng)?shù)姆Q為第1端部位置、將圖9(8)所示的第2構(gòu)件22的位置適當(dāng)?shù)姆Q為中央位置、將圖9(0所示的第2構(gòu)件22的位置適當(dāng)?shù)姆Q為第2端部位置。又，如圖9(8)所示，第2構(gòu)件22配置于中央位置的狀態(tài)，是第2構(gòu)件22配置于原點(diǎn)的狀態(tài)。
[0190]本實(shí)施形態(tài)中，是以來(lái)自射出面12的曝光用光此可通過(guò)開(kāi)口 35的方式，根據(jù)第2構(gòu)件22的可移動(dòng)范圍的尺寸決定開(kāi)口 35的尺寸。本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22的可移動(dòng)范圍的尺寸，包含于X軸方向的第1端部位置與第2端部位置間的距離。以第2構(gòu)件22即使移動(dòng)于X軸方向，來(lái)自射出面12的曝光用光￡1亦不會(huì)照射到第2構(gòu)件22的方式，決定開(kāi)口 35的X軸方向尺寸。
[0191]圖9中，于X軸方向的開(kāi)口 35的尺寸135，較曝光用光此(投影區(qū)域？幻的尺寸^與第2構(gòu)件22的可移動(dòng)范圍的尺寸(13+--)之和大。尺寸135，被設(shè)定為在第2構(gòu)件22于第1端部位置與第2端部位置之間移動(dòng)的情形時(shí)，亦不會(huì)遮蔽來(lái)自射出面12的曝光用光此的大小。據(jù)此，即使第2構(gòu)件22移動(dòng)，來(lái)自射出面12的曝光用光此亦不會(huì)被第2構(gòu)件22遮蔽而能照射于基板？(物體)。
[0192]其次，針對(duì)使用具有上述構(gòu)成的曝光裝置狀使基板？曝光的方法加以說(shuō)明。
[0193]在離開(kāi)液浸構(gòu)件5的基板更換位置，進(jìn)行將曝光前的基板？搬入(裝載于)基板載臺(tái)2(第1保持部)的處理。在基板載臺(tái)2離開(kāi)液浸構(gòu)件5的期間的至少一部分中，將測(cè)量載臺(tái)3配置成與終端光學(xué)元件13及液浸構(gòu)件5相對(duì)?？刂破?，進(jìn)行液體從液體供應(yīng)部31的供應(yīng)、與液體1^！從流體回收部27的回收，于測(cè)量載臺(tái)3上形成液浸空間13。
[0194]在將曝光前的基板？裝載于基板載臺(tái)2、使用測(cè)量載臺(tái)3的測(cè)量處理結(jié)束后，控制器6移動(dòng)基板載臺(tái)2，以使終端光學(xué)元件13及液浸構(gòu)件5與基板載臺(tái)2 (基板相對(duì)。在終端光學(xué)元件13及液浸構(gòu)件5與基板載臺(tái)2 (基板相對(duì)的狀態(tài)下，與液體從液體供應(yīng)部31的供應(yīng)并行實(shí)施液體⑷從流體回收部27的回收，據(jù)以在終端光學(xué)元件13及液浸構(gòu)件5與基板載臺(tái)2 (基板之間，形成光路1(被液體1^！充滿的液浸空間13。
[0195]本實(shí)施形態(tài)中，是與液體從液體供應(yīng)部31的供應(yīng)及液體從流體回收部27的回收并行，進(jìn)行體⑷從液體回收部24的回收。
[0196]控制器6，開(kāi)始基板？的曝光處理?？刂破?，在基板？上形成有液浸空間13的狀態(tài)下，從照明系統(tǒng)I[射出曝光用光此。照明系統(tǒng)I[以曝光用光此照明光罩1。來(lái)自光罩I的曝光用光此，通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)及射出面12與基板？間的液浸空間13的液體⑷，照射于基板？。據(jù)此，基板？即被通過(guò)終端光學(xué)元件13的射出面12與基板？間的液浸空間18的液體⑷、從射出面12射出的曝光用光此曝光，將光罩1的圖案的像投影于基板？。
[0197]本實(shí)施形態(tài)的曝光裝置狀，是一邊使光罩1與基板？同步移動(dòng)于既定掃描方向、一邊將光罩1的圖案的像投影至基板？的掃描型曝光裝置(所謂掃描步進(jìn)機(jī))。本實(shí)施形態(tài)中，以基板？的掃描方向(同步移動(dòng)方向)為V軸方向、光罩1的掃描方向(同步移動(dòng)方向)亦為V軸方向?？刂破?使基板？相對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域移動(dòng)于V軸方向，并與該基板？往V軸方向的移動(dòng)同步，一邊相對(duì)照明系統(tǒng)幾的照明區(qū)域II？使光罩1移于X軸方向、一邊通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)與基板？上的液浸空間13的液體對(duì)基板？照射曝光用光此。
[0198]圖10是顯示被保持于基板載臺(tái)2的基板？的一例的圖。本實(shí)施形態(tài)中，為曝光對(duì)象區(qū)域的照射(也於)區(qū)域于基板？上配置有多個(gè)成矩陣狀。控制器6，通過(guò)液浸空間[3的液體1^！以曝光用光此使被保持于第1保持部的基板？的多個(gè)照射區(qū)域3依序曝光。
[0199]例如為使基板？的第1照射區(qū)域3曝光，控制器6在形成有液浸空間13的狀態(tài)下，使基板？(第1照射區(qū)域3)相對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域移動(dòng)于V軸方向，并與該基板？往V軸方向的移動(dòng)同步，一邊相對(duì)照明系統(tǒng)II的照明區(qū)域II？使光罩1移動(dòng)于X軸方向、一邊通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)與基板？上的液浸空間[3的液體⑷對(duì)第1照射區(qū)域3照射曝光用光此。據(jù)此，光罩1的圖案的像即被投影于基板？的第1照射區(qū)域3，該第1照射區(qū)域3即因從射出面12出的曝光用光￡1而曝光。第1照射區(qū)域3的曝光結(jié)束后，控制器6為開(kāi)始其次的第2照射區(qū)域3的曝光，在形成有液浸空間13的狀態(tài)下，使基板？于XV平面內(nèi)與X軸交叉的方向(例如X軸方向、或XV平面內(nèi)相對(duì)X軸及X軸方向傾斜的方向等)移動(dòng)，使第2照射區(qū)域3移動(dòng)至曝光開(kāi)始位置。之后，控制器6即開(kāi)始第2照射區(qū)域3的曝光。
[0200]控制器6，在基板？(基板載臺(tái)2)上形成有液浸空間13的狀態(tài)下，反復(fù)進(jìn)行一邊相對(duì)來(lái)自射出面12的曝光用光￡1照射的位置(投影區(qū)域？10使照射區(qū)域移動(dòng)于V軸方向一邊使該照射區(qū)域曝光的動(dòng)作，與在該照射區(qū)域的曝光后在基板？(基板載臺(tái)2)上形成有液浸空間13的狀態(tài)下，將基板？移動(dòng)于XV平面內(nèi)與V軸方向交叉的方向(例如X軸方向、或XV平面內(nèi)相對(duì)X軸及X軸方向傾斜的方向等)以將次一照射區(qū)域配置于曝光開(kāi)始位置的動(dòng)作，一邊使基板？的多個(gè)照射區(qū)域依序曝光。
[0201]以下的說(shuō)明中，將為使照射區(qū)域曝光而在基板？(基板載臺(tái)2)上形成有液浸空間13的狀態(tài)下，相對(duì)來(lái)自射出面12的曝光用光￡1照射的位置(投影區(qū)域？10使基板？(照射區(qū)域)移動(dòng)于V軸方向的動(dòng)作，適當(dāng)?shù)姆Q為掃描移動(dòng)動(dòng)作。并將某一照射區(qū)域的曝光完成后，在基板？(基板載臺(tái)2)上形成有液浸空間…的狀態(tài)下，在開(kāi)始次一照射區(qū)域的曝光為止的期間，于XV平面內(nèi)移動(dòng)基板？的動(dòng)作，適當(dāng)?shù)姆Q為步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作。
[0202]于掃描移動(dòng)動(dòng)作中，會(huì)從射出面12射出曝光用光21。于基板？(物體)照射曝光用光此。于步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中，不會(huì)從射出面12射出曝光用光此。于基板？(物體)不照射曝光用光此。
[0203]控制器6 —邊反復(fù)掃描移動(dòng)動(dòng)作與步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作、一邊使基板？的多個(gè)照射區(qū)域3依序曝光。又，掃描移動(dòng)動(dòng)作是專于V軸方向的等速移動(dòng)。步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作包含加減速度移動(dòng)。例如，于X軸方向相鄰的二個(gè)照射區(qū)域間的步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作，包含于X軸方向的加減速移動(dòng)、及于X軸方向的加減速移動(dòng)。
[0204]又，于掃描移動(dòng)動(dòng)作及步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作的至少一部分中，亦有液浸空間[3的至少一部分形成在基板載臺(tái)2(覆蓋構(gòu)件”上的情形。
[0205]控制器6根據(jù)基板？上的多個(gè)照射區(qū)域3的曝光條件，控制驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)15移動(dòng)基板？(基板載臺(tái)2〉。多個(gè)照射區(qū)域3的曝光條件，例如是以稱為曝光配方的曝光控制信息加以規(guī)定。曝光控制信息儲(chǔ)存于儲(chǔ)存裝置7?？刂破?根據(jù)該儲(chǔ)存裝置7儲(chǔ)存的曝光條件，一邊以既定移動(dòng)條件移動(dòng)基板？、一邊使多個(gè)照射區(qū)域3依序曝光?；?？(物體)的移動(dòng)條件，包含移動(dòng)速度、加速度、移動(dòng)距離、移動(dòng)方向及在XV平面內(nèi)的移動(dòng)軌跡中的至少一種。
[0206]舉一例而言，控制器6，一邊移動(dòng)基板載臺(tái)2使投影光學(xué)系統(tǒng)的投影區(qū)域？尺與基板？，沿圖10中，例如箭頭&'所示的移動(dòng)軌跡相對(duì)移動(dòng)，一邊對(duì)投影區(qū)域？I？照射曝光用光此，通過(guò)液體1^！以曝光用光此使基板？的多個(gè)照射區(qū)域3依序曝光。
[0207]之后，反復(fù)上述處理，使多個(gè)基板？依序曝光。
[0208]本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22是在基板？的曝光處理的至少一部分中移動(dòng)。第2構(gòu)件22，與例如在液浸空間13形成的狀態(tài)下基板？(基板載臺(tái)2)的步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作的至少一部分并行移動(dòng)。又，本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22，與例如在液浸空間[3形成的狀態(tài)下基板？(基板載臺(tái)2)的掃描移動(dòng)動(dòng)作的至少一部分并行移動(dòng)。亦即，與第2構(gòu)件22的移動(dòng)并行，從射出面12射出曝光用光21。此外，亦可于掃描移動(dòng)動(dòng)作中不移動(dòng)第2構(gòu)件22。亦即，可不與曝光用光￡1從射出面12的射出并行移動(dòng)第2構(gòu)件22。第2構(gòu)件22，例如可在基板？(基板載臺(tái)2)進(jìn)行步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作時(shí)，以和基板？(基板載臺(tái)2)的相對(duì)移動(dòng)(相對(duì)速度、相對(duì)加速度)變小的方式移動(dòng)。此外，第2構(gòu)件22，可在基板？(基板載臺(tái)2)進(jìn)行掃描移動(dòng)動(dòng)作時(shí)，以和基板？(基板載臺(tái)2)的相對(duì)移動(dòng)(相對(duì)速度、相對(duì)加速度)變小的方式移動(dòng)。
[0209]圖11是以示意方式顯示一邊進(jìn)行基板？的包含軸方向成分的步進(jìn)移動(dòng)、一邊使照射區(qū)域、照射區(qū)域％及照射區(qū)域義依序曝光時(shí)的基板？的移動(dòng)軌跡的一例的圖。
[0210]如圖11所示，照射區(qū)域&!、％、80曝光時(shí)，基板？是在終端光學(xué)元件13之下，依序移動(dòng)于從位置(11至相對(duì)該位置(11于+1軸側(cè)相鄰位置(12為止的路徑邛1、從位置(12至相對(duì)該位置(12于―乂軸側(cè)相鄰位置(13為止的路徑邛2、從位置(13至相對(duì)該位置(13于一 V軸側(cè)相鄰位置(14為止的路徑邛3、從位置(14至相對(duì)該位置(14于―乂軸側(cè)相鄰位置(15為止的路徑1？4、以及從位置(15至相對(duì)該位置(15于+1軸側(cè)相鄰位置(16為止的路徑1？5。位置(11,(12,(13,(14,(15,(16 系于 XV 平面內(nèi)的位置。
[0211]路徑邛1的至少一部分是與V軸平行的直線。路徑1？3的至少一部分是與V軸平行的直線。路徑邛5的至少一部分包含與V軸平行的直線。路徑！'包含經(jīng)由位置(12.5的曲線。路徑1？4包含經(jīng)由位置(14.5的曲線。位置(11包含路徑1？1的始點(diǎn)、位置(12包含路徑如1的終點(diǎn)。位置(12包含路徑如2的始點(diǎn)、位置(13包含路徑邛2的終點(diǎn)。位置(13包含路徑邛3的始點(diǎn)、位置(14包含路徑邛3的終點(diǎn)。位置(14包含路徑邛4的始點(diǎn)、位置(15包含路徑邛4的終點(diǎn)。位置(15包含路徑邛5的始點(diǎn)、位置(16包含路徑邛5的終點(diǎn)。路徑??？1是基板？移動(dòng)于+1軸方向的路徑。路徑如3是基板？移動(dòng)于一 V軸方向的路徑。路徑
是基板？移動(dòng)于+1軸方向的路徑。路徑1？2及路徑如4是基板？移動(dòng)于以―乂軸方向?yàn)橹鞒煞值姆较虻穆窂健?br> [0212]在液浸空間[3形成的狀態(tài)下基板？移動(dòng)于路徑1？1時(shí)，通過(guò)液體1^！于照射區(qū)域照射曝光用光此?；?？移動(dòng)于路徑！'的動(dòng)作包含掃描移動(dòng)動(dòng)作。又，在液浸空間[3
形成的狀態(tài)下基板？移動(dòng)于路徑如3時(shí)，通過(guò)液體⑷于照射區(qū)域％照射曝光用光此。基板？移動(dòng)于路徑邛3的動(dòng)作包含掃描移動(dòng)動(dòng)作。又，在液浸空間[3形成的狀態(tài)下基板？移動(dòng)于路徑如5時(shí)，通過(guò)液體1^！于照射區(qū)域3。照射曝光用光此?；?？移動(dòng)于路徑邛5的動(dòng)作，包含掃描移動(dòng)動(dòng)作。又，基板？移動(dòng)于路徑邛2的動(dòng)作、及移動(dòng)于路徑邛4的動(dòng)作，包含步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作?；澹恳苿?dòng)于路徑如2及路徑如4時(shí)，不照射曝光用光此。
[0213]圖12是顯示第2構(gòu)件22的一動(dòng)作例的示意圖。圖12是從上面25側(cè)觀察第2構(gòu)件22的圖?；?？位于圖11中的位置(11時(shí)，第2構(gòu)件22是相對(duì)投影區(qū)域？V曝光用光此的光路10配置于圖1200所示位置?；澹课挥谖恢?12時(shí)，第2構(gòu)件22相對(duì)投影區(qū)域？尺(曝光用光此的光路10配置于圖12(8)所示位置。亦即，在基板？從位置(11往位置(12的掃描動(dòng)作移動(dòng)中，第2構(gòu)件22往與基板？的步進(jìn)移動(dòng)方向(―乂軸方向)相反的一 X軸方向移動(dòng)?；?？位于位置(12.5時(shí)，第2構(gòu)件22相對(duì)投影區(qū)域曝光用光此的光路1()配置于圖12(0所示位置?；?？位于位置(13時(shí)，第2構(gòu)件22相對(duì)投影區(qū)域？I？(曝光用光此的光路10配置于圖12(0)所示位置。亦即，在基板？從位置(12往位置(13的步進(jìn)動(dòng)作移動(dòng)中，第2構(gòu)件22往與基板？的步進(jìn)移動(dòng)方向基板？位于位置(14時(shí)，第2構(gòu)件22相對(duì)投影區(qū)域曝光用光此的光路10配置于圖12 (￡)所示位置。亦即，在基板？從位置(13往位置(14的掃描動(dòng)作移動(dòng)中，第2構(gòu)件22往與基板？的步進(jìn)移動(dòng)方向(―乂軸方向)相反的一 X軸方向移動(dòng)?；?？位于位置(14.5時(shí)，第2構(gòu)件配置于圖12的所示位置?；澹课挥谖恢?15時(shí)，第2構(gòu)件配置于圖12⑶所示位置。亦即，在基板？從位置(14往位置(15的步進(jìn)動(dòng)作移動(dòng)中，第2構(gòu)件22往與基板？的步進(jìn)移動(dòng)方向的軸方向)相同的―乂軸方向移動(dòng)?；?？位于位置(16時(shí)，第2構(gòu)件22相對(duì)投影區(qū)域？I？(曝光用光此的光路10配置于圖12(?)所示位置。亦即，在基板？從位置(15往位置(16的掃描動(dòng)作移動(dòng)中，第2構(gòu)件22往與基板？的步進(jìn)移動(dòng)方向(―乂軸方向)相反的一X軸方向移動(dòng)。
[0214]本實(shí)施形態(tài)中，圖12⑷、圖12 (0)、圖12(?所示的第2構(gòu)件22的位置，包含第2端部位置。圖12 (8)、圖12(2)、圖12⑶所示的第2構(gòu)件22的位置，包含第1端部位置。圖12 (0、圖12⑶所示的第2構(gòu)件22的位置，包含中央位置。
[0215]以下的說(shuō)明中，將圖12⑷、圖12(0)、圖12⑶所示的第2構(gòu)件22的位置設(shè)為第2端部位置、將圖12⑶、圖12 (￡)、圖12⑶所示的第2構(gòu)件22的位置設(shè)為第1端部位置、將圖12(0、圖12⑶所示的第2構(gòu)件22的位置設(shè)為中央位置。
[0216]又，在基板？位于圖11的位置(11、(13, (15時(shí)，第2構(gòu)件22可配置在中央位置、亦可配置在第2端部位置與中央位置之間。此外，在基板？位于位置42、(14, (16時(shí)，第2構(gòu)件22可配置在中央位置、亦可配置在第1端部位置與中央位置之間。又，在基板？位于位置(12.5、(14.5時(shí)，第2構(gòu)件22可配置在與中央位置不同的位置。亦即，在基板？位于位置(12.5、(14.5時(shí)，第2構(gòu)件22可配置在第1端部位置與中央位置之間、或第2端部位置與中央位置之間。
[0217]基板？移動(dòng)于路徑！'時(shí)，第2構(gòu)件22往一父軸方向移動(dòng)，而從圖12㈧所示狀態(tài)變化至圖12(8)所示狀態(tài)。亦即，第2構(gòu)件22從第2端部位置經(jīng)中央位置往第1端部位置移動(dòng)?；?？移動(dòng)于路徑1？2時(shí)，第2構(gòu)件22往―乂軸方向移動(dòng)，而從圖12 (8)所示狀態(tài)經(jīng)由圖12(0所示狀態(tài)變化至圖12(0)所示狀態(tài)。亦即，第2構(gòu)件22從第1端部位置經(jīng)中央位置往第2端部位置移動(dòng)?；?？移動(dòng)于路徑如3時(shí)，第2構(gòu)件22往一 X軸方向移動(dòng)，而從圖12(0)所示狀態(tài)變化至圖12(2)所示狀態(tài)。亦即，第2構(gòu)件22從第2端部位置經(jīng)中央位置往第1端部位置移動(dòng)?；澹恳苿?dòng)于路徑如4時(shí)，第2構(gòu)件22往―夂軸方向移動(dòng)，而從圖12(2)所示狀態(tài)經(jīng)由圖12(10所示狀態(tài)變化至圖12(?所示狀態(tài)。亦即，第2構(gòu)件22從第1端部位置經(jīng)由中央位置往第2端部位置移動(dòng)?；?？移動(dòng)于路徑1？5時(shí)，第2構(gòu)件22往一 X軸方向移動(dòng)，而從圖12(?所示狀態(tài)變化至圖12(?)所示狀態(tài)。亦即，第2構(gòu)件22從第2端部位置經(jīng)中央位置往第1端部位置移動(dòng)。
[0218]亦即，本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22在基板？沿路徑如2移動(dòng)的期間的至少一部分中，以和基板？的相對(duì)移動(dòng)變小的方式，往―乂軸方向移動(dòng)。換言之，第2構(gòu)件22在基板？進(jìn)行包含―乂軸方向成分的步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作的期間的至少一部分中，以和基板？在X軸方向的相對(duì)速度變小的方式，往―乂軸方向移動(dòng)。同樣的，第2構(gòu)件22在基板？沿路徑如4移動(dòng)的期間的至少一部分中，以和基板？于X軸方向的相對(duì)速度變小的方式，往―乂軸方向移動(dòng)。
[0219]又，本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22在基板？沿路徑1？3移動(dòng)的期間的至少一部分中，往一 X軸方向移動(dòng)。據(jù)此，在基板？的路徑1？3的移動(dòng)后、于路徑邛4的移動(dòng)中，即使第2構(gòu)件22往―乂軸方向移動(dòng)，曝光用光此亦能通過(guò)開(kāi)口 35?；?？移動(dòng)于路徑邛1、1？5時(shí)亦相同。
[0220]亦即，在基板？重復(fù)掃描移動(dòng)動(dòng)作與包含―乂軸方向成分的步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作的情形時(shí)，于步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中，第2構(gòu)件22是以和基板？的相對(duì)速度變小的方式從第1端部位置往第2端部位置移動(dòng)于―乂軸方向，于掃描移動(dòng)動(dòng)作中，為了在次一步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中第2構(gòu)件22能再度移動(dòng)于―乂軸方向，第2構(gòu)件22從第2端部位置回到第1端部位置。亦即，在基板？于掃描移動(dòng)動(dòng)作的期間的至少一部分中，由于第2構(gòu)件22移動(dòng)于一 X軸方向，因此能將開(kāi)口 35的尺寸抑制于所需最小限。
[0221]又，實(shí)施形態(tài)中，即使第2構(gòu)件22配置在第1端部位置(第2端部位置)，流體回收部27的至少一部分亦與基板？(物體)持續(xù)相對(duì)。據(jù)此，例如于步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中，流體回收部27可回收基板？(物體)上的液體⑷。
[0222]又，本實(shí)施形態(tài)中，在開(kāi)始基板？包含―乂軸方向成分的步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作前，開(kāi)始第2構(gòu)件22從第1端部位置往第2端部位置的移動(dòng)。亦即，在基板？開(kāi)始路徑11)2(^4)的移動(dòng)前，開(kāi)始第2構(gòu)件22往―乂軸方向的移動(dòng)。又，亦可在與基板？開(kāi)始包含―乂軸方向成分的步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作的同時(shí)，第2構(gòu)件22開(kāi)始從第1端部位置往第2端部位置的移動(dòng)。換言之，第2構(gòu)件22可在與基板？開(kāi)始路徑1？2 (11)4)的移動(dòng)的同時(shí)，開(kāi)始往―乂軸方向的移動(dòng)。或者，第2構(gòu)件22亦可在基板？開(kāi)始路徑1？2 (11)4)的移動(dòng)后，開(kāi)始往―乂軸方向的移動(dòng)。
[0223]又，本實(shí)施形態(tài)中，是在與基板？的掃描移動(dòng)動(dòng)作的開(kāi)始同時(shí)，第2構(gòu)件22開(kāi)始從第2端部位置往第1端部位置的移動(dòng)。換言之，第2構(gòu)件22是在基板？開(kāi)始路徑1？1 0^3、11)5)的移動(dòng)時(shí)，同時(shí)開(kāi)始往與基板？的步進(jìn)移動(dòng)方向(―乂軸方向)相反的一 X軸方向的移動(dòng)。此外，第2構(gòu)件22亦可在基板？開(kāi)始路徑10(11)331)5)的移動(dòng)后，開(kāi)始往一 X軸方向的移動(dòng)?；蛘?，第2構(gòu)件22亦可在基板？開(kāi)始10(11)331)5)的移動(dòng)之前，開(kāi)始往一 X軸方向的移動(dòng)。
[0224]圖13是顯示本實(shí)施形態(tài)中，于X軸方向的基板？(基板載臺(tái)2)的速度及第2構(gòu)件22的速度與時(shí)間的關(guān)系的一例的圖。圖13所示的圖表中，橫軸為時(shí)間、縱軸為速度。圖13中，線I？代表基板？(基板載臺(tái)2)的速度、線122代表第2構(gòu)件22的速度。
[0225]圖13中，期間11、13、15是進(jìn)行掃描移動(dòng)動(dòng)作的期間。亦即，期間了1，于圖11中，是對(duì)應(yīng)基板？從位置(11往位置(12的移動(dòng)期間。期間13，于圖11中，是對(duì)應(yīng)基板？從位置(13往位置(14的移動(dòng)期間。期間15，于圖11中，是對(duì)應(yīng)基板？從位置(15往位置(16的移動(dòng)期間。又，期間12、14是進(jìn)行步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作是期間。亦即，期間12，于圖11中，是對(duì)應(yīng)基板？從位置(12往位置(13是移動(dòng)期間。期間14，于圖11中，是對(duì)應(yīng)基板？從位置(14往位置(15的移動(dòng)期間。圖13中，如部分82、84所示，本實(shí)施形態(tài)中，在基板？開(kāi)始路徑的移動(dòng)前(基板？開(kāi)始包含―乂軸方向成分的步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作之前)，第2構(gòu)件22開(kāi)始往―乂軸方向的移動(dòng)。
[0226]又，如圖13所示，本實(shí)施形態(tài)中，在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中于X軸方向的第2構(gòu)件22的速度，較基板？(基板載臺(tái)2)的速度低。當(dāng)然，第2構(gòu)件22的速度可與基板？(基板載臺(tái)2)的速度相等、亦可較基板？(基板載臺(tái)2)的速度高。亦即，與第2構(gòu)件22相較，基板？(基板載臺(tái)2)可以高速移動(dòng)、或低速移動(dòng)、或以相同速度移動(dòng)。
[0227]又，如圖13所示，本實(shí)施形態(tài)，在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中于X軸方向的第2構(gòu)件22的加速度，較基板？(基板載臺(tái)2)的加速度低。當(dāng)然，第2構(gòu)件22的加速度可與基板？(基板載臺(tái)2)的加速度相等、亦可較基板？(基板載臺(tái)2)的加速度高。
[0228]又，本實(shí)施形態(tài)中，在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作期間中于X軸方向的第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離，較基板？(基板載臺(tái)2)的移動(dòng)距離短。例如，在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中的第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離，可以是基板？(基板載臺(tái)2)的移動(dòng)距離的45?65%。例如，第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離可以是基板？(基板載臺(tái)2)的移動(dòng)距離的45%、50%、55%、60%、65%的任一者。本實(shí)施形態(tài)中，在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中的第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離是第1端部位置與第2端部位置間的距離。又，本實(shí)施形態(tài)中，在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作期間中于X軸方向的第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離，較一照射區(qū)域3的中心與相對(duì)該照射區(qū)域3于X軸方向相鄰的照射區(qū)域3的中心間的距離(距離八)短。例如，在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中的第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離，可設(shè)為距離八的45?65%。例如，在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中的第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離，可以是距離八的45 %、50 %、55 %、60 %、65%中的任一者。此外，在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作期間中于X軸方向的第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離，較于X軸方向的一個(gè)照射區(qū)域3的尺寸(尺寸8)短。例如，在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中的第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離，可設(shè)為尺寸8的45?65%。例如，在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中的第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離，可以是尺寸8的45 %、50 %、55 %、60 %、65 %中的任一者。例如，于X軸方向的照射區(qū)域5的尺寸(尺寸8)為26臟的場(chǎng)合，第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離，可以是約“臟。
[0229]第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離，可例如根據(jù)基板？的表面條件來(lái)決定。基板？的表面條件，包含液體1^！在形成基板？表面的感光膜表面的接觸角(后退接觸角等)。又，基板？的表面條件，包含液體⑷在形成基板？表面的保護(hù)膜(上涂膜)表面的接觸角(后退接觸角等又，基板？的表面可以例如反射防止膜形成。此外，第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離，可通過(guò)前置實(shí)驗(yàn)或模擬加以求出，以抑制步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中液體⑷的流出(殘留)。
[0230]又，第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離可與基板？(基板載臺(tái)2)的移動(dòng)距離相等、亦可較基板？(基板載臺(tái)2)的移動(dòng)距離長(zhǎng)。
[0231]又，本實(shí)施形態(tài)中，開(kāi)口 35的一 X軸側(cè)端部與第2構(gòu)件22的一 X軸側(cè)端部間的距離肝X，大于步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中于X軸方向的第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離。又，本實(shí)施形態(tài)中，開(kāi)口 35的一 X軸側(cè)端部與第2構(gòu)件22的一 X軸側(cè)端部間的距離肝X，與開(kāi)口 35的軸側(cè)端部與第2構(gòu)件22的―乂軸側(cè)端部間的距離相等。此外，距離1?亦可較在步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中于X軸方向的第2構(gòu)件22的移動(dòng)距離小。
[0232]又，本實(shí)施形態(tài)中，開(kāi)口 35的一 V軸側(cè)端部與第2構(gòu)件22的一 V軸側(cè)端部間的距離肝7，大于于X軸方向的一個(gè)照射區(qū)域3的尺寸。例如，于X軸方向的照射區(qū)域3的尺寸為33111111的場(chǎng)合，距離肝7為33111111以上。又，本實(shí)施形態(tài)中，開(kāi)口 35的一 V軸側(cè)端部與第2構(gòu)件22的一 X軸側(cè)端部間的距離肝7，與開(kāi)口 35的+1軸側(cè)端部與第2構(gòu)件22的+1軸側(cè)端部間的距離相等。
[0233]又，于V軸方向，開(kāi)口 35的中心與第2構(gòu)件22的外側(cè)端部間的距離，如本實(shí)施形態(tài)般，可大于于X軸方向的一個(gè)照射區(qū)域3的尺寸、亦可小于于X軸方向的一個(gè)照射區(qū)域3的尺寸。
[0234]如以上的說(shuō)明，根據(jù)本實(shí)施形態(tài)，由于設(shè)置了能在第1構(gòu)件21的下方移動(dòng)的第2構(gòu)件22，因此在液浸空間[3形成的狀態(tài)下基板？等物體于XV平面內(nèi)移動(dòng)，亦能抑制例如液體從液浸構(gòu)件5與物體間的空間流出、或于物體上殘留液體⑷的情形。此外，亦能抑制液浸空間[3的液體中產(chǎn)生氣泡(氣體部分)的情形。
[0235]又，由于第2構(gòu)件22具有流體回收部27，因此能抑制流體回收部27的下面與基板？(物體)的上面間形成的第2界面1^2的形狀產(chǎn)生變化。據(jù)此，液浸空間13的液體⑷從液浸構(gòu)件5與基板？(物體)間的空間流出、或基板？(物體)上殘留液體⑷的情形即受到抑制。
[0236]又，通過(guò)以和基板？(物體)的相對(duì)移動(dòng)(相對(duì)速度、相對(duì)加速度)變小的方式移動(dòng)第2構(gòu)件22，即使在液浸空間舊形成的狀態(tài)下物體高速度移動(dòng)，亦能抑制液體⑷流出、基板？(物體)上殘留液體1^！、或液體1^！中產(chǎn)生氣泡等的情形。
[0237]因此，能抑制曝光不良的發(fā)生、及不良元件的產(chǎn)生。
[0238]又，本實(shí)施形態(tài)中，第1構(gòu)件21是配置在終端光學(xué)元件13周圍的至少一部分。因此，即使是在液浸空間…形成的狀態(tài)下物體移動(dòng)、或第2構(gòu)件22移動(dòng)的場(chǎng)合，亦能抑制終端光學(xué)元件13與第1構(gòu)件21之間壓力產(chǎn)生變動(dòng)、或液體⑷的第3界面1^3的形狀產(chǎn)生大幅變動(dòng)。因此，例如液體⑷中產(chǎn)生氣泡、或于終端光學(xué)元件13作用多余的力的情形即受到抑制。此外，本實(shí)施形態(tài)中，第1構(gòu)件21實(shí)質(zhì)上不移動(dòng)，因此終端光學(xué)元件13與第1構(gòu)件21之間壓力產(chǎn)生大幅變動(dòng)、或液體⑷的第1界面冗1的形狀產(chǎn)生大幅變動(dòng)的情形即受到抑制。
[0239]又，第1構(gòu)件21亦可以是可動(dòng)的。或者，第1構(gòu)件21可以是能相對(duì)終端光學(xué)元件13移動(dòng)。第1構(gòu)件21可于X軸、V軸、2軸、0乂、0 1及0 2的6個(gè)方向中的至少一方向移動(dòng)。又，例如，為調(diào)整終端光學(xué)元件13與第1構(gòu)件21間的位置關(guān)系、或第1構(gòu)件21與第2構(gòu)件22間的位置關(guān)系，亦可使第1構(gòu)件21為可移動(dòng)。又，亦可與基板？(物體)的移動(dòng)的至少一部分并行，而使第1構(gòu)件21為可移動(dòng)。例如，第1構(gòu)件21可在XV平面內(nèi)移動(dòng)較第2構(gòu)件22短的距離。此外，第1構(gòu)件21可較第2構(gòu)件22以低速度移動(dòng)。又，第1構(gòu)件21可較第2構(gòu)件22以低加速度移動(dòng)。
[0240]又，本實(shí)施形態(tài)中，供應(yīng)為形成液浸空間[3的液體的液體供應(yīng)部31配置于第1構(gòu)件21。又，本實(shí)施形態(tài)中，回收基板？(物體)上的液體的流體回收部27，是配置在與第1構(gòu)件21通過(guò)間隙配置的第2構(gòu)件22。如此，通過(guò)從流體回收部27回收流體(液體10及氣體中的一方或兩方)，即使第2構(gòu)件22的溫度變化，亦能抑制第1構(gòu)件21的溫度變化。因此，從液體供應(yīng)部31供應(yīng)的液體⑷的溫度變化即受到抑制。
[0241]又，本實(shí)施形態(tài)中，從液體供應(yīng)部31供應(yīng)的液體10，是以接觸第1構(gòu)件21的內(nèi)側(cè)面28及下面23的方式流動(dòng)。通過(guò)該液體1^！，抑制第1構(gòu)件21的溫度變化。此外，亦通過(guò)該液體1^！，調(diào)整第1構(gòu)件21的溫度。又，從液體供應(yīng)部31供應(yīng)的液體1^！，是以接觸第2構(gòu)件22的上面25及下面26的方式流動(dòng)。通過(guò)該液體1^！，抑制第2構(gòu)件22的溫度變化。此夕卜，亦通過(guò)該液體1^！，調(diào)整第2構(gòu)件22的溫度。
[0242]又，亦可配置調(diào)整第1構(gòu)件21的溫度的第1溫度調(diào)整裝置(未圖示)。第1溫度調(diào)整裝置可包含例如配置在第1構(gòu)件21外面的帕耳帖元件。第1溫度調(diào)整裝置可包含溫度調(diào)整用流體(液體及氣體中的一方或兩方)供應(yīng)至形成在第1構(gòu)件21內(nèi)部的流路的供應(yīng)裝置(未圖示)。此外，亦可配置調(diào)整第2構(gòu)件22的溫度的第2溫度調(diào)整裝置(未圖示)。第2溫度調(diào)整裝置可包含配置在第2構(gòu)件22外面的帕耳帖元件、亦可包含將溫度調(diào)整用流體供應(yīng)至形成在第2構(gòu)件22內(nèi)部的流路的供應(yīng)裝置(未圖示)。
[0243]又，本實(shí)施形態(tài)中，可根據(jù)第2構(gòu)件22的移動(dòng)條件，調(diào)整從液體供應(yīng)部31的液體供應(yīng)量。此外，亦可根據(jù)第2構(gòu)件22的位置，調(diào)整從液體供應(yīng)部31的液體供應(yīng)量。例如，可調(diào)整成在第2構(gòu)件22配置于第1端部位置及第2端部位置中的至少一方時(shí)從液體供應(yīng)部31的液體供應(yīng)量，較第2構(gòu)件22配置于中央位置時(shí)從液體供應(yīng)部31的液體供應(yīng)量多。又，亦可在第2構(gòu)件22從第2端部位置往第1端部位置移動(dòng)時(shí)，使相對(duì)光路X配置在―乂軸側(cè)的液體供應(yīng)部31的液體供應(yīng)量，較配置在一 X軸側(cè)的液體供應(yīng)部31的液體供應(yīng)量多。再者，亦可在第2構(gòu)件22從第1端部位置往第2端部位置移動(dòng)時(shí)，使相對(duì)光路X配置在一 X軸側(cè)的液體供應(yīng)部31的液體供應(yīng)量，較配置在―乂軸側(cè)的液體供應(yīng)部31的液體供應(yīng)量多。如此，即能抑制液體中產(chǎn)生氣泡的情形。
[0244]又，本實(shí)施形態(tài)中，為抑制因基板？的步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作而引起的液體的殘留，是于基板？的步進(jìn)移動(dòng)動(dòng)作中，使第2構(gòu)件22于步進(jìn)方向〈X軸方向)移動(dòng)。然而，為抑制因基板？的掃描移動(dòng)動(dòng)作而引起的液體1^！的殘留，亦可于基板？的掃描移動(dòng)動(dòng)作中，使第2構(gòu)件22于掃描方向01軸方向)移動(dòng)。
[0245]〈第2實(shí)施形態(tài)〉
[0246]接著，說(shuō)明第2實(shí)施形態(tài)。以下的說(shuō)明中，針對(duì)與上述實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)成部分賦予相同符號(hào)，并簡(jiǎn)化或省略其說(shuō)明。
[0247]圖14是顯示本實(shí)施形態(tài)的第2構(gòu)件222的一例的立體圖。圖15是顯示本實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件52的一部分的與12平面平行的剖面圖。
[0248]本實(shí)施形態(tài)中，液浸構(gòu)件52具有流路41，流路41設(shè)置成可使終端光學(xué)元件13的側(cè)面13？與第1構(gòu)件221的內(nèi)側(cè)面282間的液體的至少一部分，相對(duì)光路1(于第1構(gòu)件221的外側(cè)流過(guò)第2構(gòu)件222的上面25。亦即，液浸構(gòu)件52具有設(shè)置成第3空間3？3的液體的至少一部分不通過(guò)開(kāi)口 40而流過(guò)第2構(gòu)件222的上面25的流路41。
[0249]流路41，包含形成在第1構(gòu)件221內(nèi)部的內(nèi)部流路41八、以及形成在第1構(gòu)件221的外側(cè)面292與第2構(gòu)件222的內(nèi)側(cè)面302間的流路418。內(nèi)部流路41八形成為連結(jié)第1構(gòu)件221的內(nèi)側(cè)面282與外側(cè)面292。
[0250]本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件222的內(nèi)側(cè)面302具有凹部3021。本實(shí)施形態(tài)中，凹部3021相對(duì)光路1(形成在+1軸側(cè)及一 X軸側(cè)的各側(cè)。流路418配置在第1構(gòu)件221的外側(cè)面292與第2構(gòu)件222的凹部3021之間。
[0251]又，凹部3021可設(shè)置在相對(duì)光路1(的任一側(cè)。又，凹部3021可以是1個(gè)、也可以是3個(gè)以上。例如，可在上述2個(gè)凹部3021之外，在相對(duì)光路1(的軸側(cè)、或一 X軸側(cè)、或十父軸側(cè)與一 X軸側(cè)設(shè)置凹部3021。又，例如，亦可取代上述2個(gè)凹部3021，在相對(duì)光路1(的十父軸側(cè)、或一 X軸側(cè)、或―乂軸側(cè)與一 X軸側(cè)設(shè)置凹部3021。此外，亦可在第2構(gòu)件222的所有內(nèi)側(cè)面302設(shè)置凹部302丁。
[0252]內(nèi)部流路41八的一端開(kāi)口(流入口)41^1,配置在較射出面12的上方處。第3空間3？3的液體的至少一部分，通過(guò)面向第3空間3？3的內(nèi)部流路41八的一端開(kāi)口(流入口流入內(nèi)部流路41八。流入內(nèi)部流路41八的液體1^！，從配置在外側(cè)面292的內(nèi)部流路41八的另一端開(kāi)口(流出口)41仙流出。從流出口 41仙流出的液體1^！，被供應(yīng)至外側(cè)面292與凹部3021之間的流路418。供應(yīng)至流路418的液體的至少一部分，被供應(yīng)至第2構(gòu)件222的上面25。
[0253]液浸構(gòu)件52具有回收通過(guò)流路41流至上面25的液體的至少一部分的液體回收部242。本實(shí)施形態(tài)中，上面25的液體的至少一部分，可流至第1構(gòu)件221的下面23與第2構(gòu)件222的上面25之間的第1空間3？1。本實(shí)施形態(tài)中，液體回收部242配置成面向上面25。通過(guò)流路41流至上面25的液體⑷，從液體回收部242被回收。又，亦可將本實(shí)施形態(tài)中的液體回收部242稱為流體回收部。又，液體回收部242可將液體與氣體一起加以回收、亦可在液體回收部242的下不存在液體時(shí)，僅回收氣體。
[0254]液體回收部242，可回收通過(guò)開(kāi)口 40流入第1空間3？1的液體“!。亦即，液體回收部242，可回收通過(guò)開(kāi)口 40流入第1空間3？1的液體⑷、與通過(guò)流路41流至上面25上的液體的兩方。亦即，可使液體回收部242具有回收從第3空間3？3不通過(guò)開(kāi)口 40而流至第1空間3？1的液體⑷的回收部的功能，并具有回收通過(guò)開(kāi)口 40流至第1空間3？1的液體1^！的回收部的功能。
[0255]又，亦可使從第3空間3？3流至第1構(gòu)件221的上面上的液體⑷，流至第1構(gòu)件221與第2構(gòu)件222之間的流路418。此場(chǎng)合，可設(shè)置流路41八、亦可不設(shè)置。
[0256]又，回收來(lái)自流路41的液體1^！的液體回收部242，可與回收通過(guò)開(kāi)口 40流入第1空間3？1的液體的流體回收部為不同的回收部。此外，回收來(lái)自流路41的液體的液體回收部242，可不面向上面25。例如液體回收部242可配置在外側(cè)面292的至少一部分。液體回收部242亦可配置在第2構(gòu)件222。例如，液體回收部242可配置在內(nèi)側(cè)面302 (凹部3021)。液體回收部242，亦可配置在與第1構(gòu)件221及第2構(gòu)件222不同的其他構(gòu)件。
[0257]〈第3實(shí)施形態(tài)〉
[0258]其次，說(shuō)明第3實(shí)施形態(tài)。以下的說(shuō)明中，針對(duì)與上述實(shí)施形態(tài)相同或同等的構(gòu)成部分賦予相同符號(hào)，并簡(jiǎn)化或省略其說(shuō)明。
[0259]圖16是顯示本實(shí)施形態(tài)的液浸構(gòu)件53的一部分的側(cè)視剖面圖。圖16中，液浸構(gòu)件53，具備第1構(gòu)件21、第2構(gòu)件22、相對(duì)光路1((終端光學(xué)元件13的光軸)配置在第2構(gòu)件22外側(cè)而可回收流體(液體1^！及氣體中的一方或兩方)的第3構(gòu)件300。
[0260]第3構(gòu)件300具有基板？(物體)可相對(duì)的回收口 42。本實(shí)施形態(tài)中，第3構(gòu)件300包含配置在基板？(物體)可相對(duì)的位置的多孔構(gòu)件43?；厥湛?42包含多孔構(gòu)件43的孔。第3構(gòu)件300通過(guò)多孔構(gòu)件43的孔回收流體。
[0261]于第3構(gòu)件300的內(nèi)部，設(shè)有從回收口(多孔構(gòu)件的孔)42回收的流體流過(guò)的回收流路3001回收流路3001？與流體回收裝置(吸引裝置)(未圖示)連接。從回收口 42回收、流過(guò)回收流路3001？的液體⑷，被流體回收裝置回收。
[0262]本實(shí)施形態(tài)中，多孔構(gòu)件43包含燒結(jié)構(gòu)件。多孔構(gòu)件43包含以燒結(jié)法等形成的多孔構(gòu)件。多孔構(gòu)件43的孔較多孔構(gòu)件37的孔小。
[0263]本實(shí)施形態(tài)中，第3構(gòu)件300與第2構(gòu)件22 —起移動(dòng)。本實(shí)施形態(tài)中，第3構(gòu)件300連接于第2構(gòu)件22。
[0264]本實(shí)施形態(tài)中，多孔構(gòu)件43的至少一部分配置在較多孔構(gòu)件37下面的下方處。
[0265]由于配置了第3構(gòu)件300，因此無(wú)法以第2構(gòu)件22的流體回收部27回收的液體⑷，即從第3構(gòu)件300加以回收。又，多孔構(gòu)件300可吸收基板？(物體)上的液體10。據(jù)此，即使液體從第2構(gòu)件22與基板？(物體)間的空間流出，該液體流出至第3構(gòu)件300與基板？(物體)間的空間的外側(cè)的情形亦會(huì)受到抑制。
[0266]又，在多孔構(gòu)件43與基板？(物體)之間產(chǎn)生液體⑷停留的現(xiàn)象(所謂架橋現(xiàn)象)的可能性，較在多孔構(gòu)件37與基板？(物體)之間產(chǎn)生液體⑷停留的現(xiàn)象(所謂架橋現(xiàn)象)的可能性低。因此，基板？(物體)上殘留液體⑷的情形受到抑制。從而抑制了曝光不良的發(fā)生、及不良元件的產(chǎn)生。
[0267]又，通過(guò)第3構(gòu)件300的設(shè)置，可使第2構(gòu)件22的多孔構(gòu)件37從基板？(物體)分離。據(jù)此，能抑制在多孔構(gòu)件37與基板？(物體)之間產(chǎn)生液體停留現(xiàn)象(架橋現(xiàn)象)的情形。
[0268]又，本實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22的下面26的至少一部分于相對(duì)光路1(的放射方向朝外側(cè)向上方傾斜。據(jù)此，即能在第2構(gòu)件22與基板？(物體)之間良好的保持液體10。
[0269]又，本實(shí)施形態(tài)中，下面26可以不是傾斜的。下面26亦可與XV平面實(shí)質(zhì)平行。
[0270]又，本實(shí)施形態(tài)中，可不設(shè)置回收流路3001亦即，可不將多孔構(gòu)件37連接于流體回收裝置(吸引裝置)，而僅以多孔構(gòu)件37吸收液體10。
[0271]又，本實(shí)施形態(tài)中，可不設(shè)置第3構(gòu)件300。
[0272]又，上述第1、第2實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件22(222)的下面26的至少一部分可于相對(duì)光路X的放射方向朝外側(cè)向上方傾斜。
[0273]又，上述第1、第2實(shí)施形態(tài)中，亦可設(shè)置第3構(gòu)件300。
[0274]又，上述第1、第2及第3實(shí)施形態(tài)中，可如圖17所示，第1構(gòu)件214的至少一部分與終端光學(xué)元件13的射出面12相對(duì)。圖17所示的例中，第1構(gòu)件214具有配置在開(kāi)口 34周圍的上面44。于開(kāi)口 34的上端周圍配置上面44。于開(kāi)口 34的下端周圍配置下面23。上面44的一部分與射出面12相對(duì)。又，圖17所示的例中，第2構(gòu)件22的上面25的一部分亦與射出面12相對(duì)。又，亦可稱上面44為第1上面。
[0275]又，亦可如圖18所示，將第1構(gòu)件的下面23配置成較射出面12更+2軸側(cè)。又，于2軸方向的下面23的位置(高度)與射出面12的位置(高度)可實(shí)質(zhì)相等。第1構(gòu)件的下面23亦可配置成較射出面12更一 2軸側(cè)。
[0276]又，上述各實(shí)施形態(tài)中，是設(shè)定為液浸構(gòu)件5除了開(kāi)口 35以外，沒(méi)有將第1空間8？1與第2空間3？2流體連接(以流體可流動(dòng)的方式連接)的流路。但可如圖19所示，相對(duì)光路1(在較開(kāi)口 35外側(cè)處，形成將第1空間3？1與第2空間3？2流體連接的開(kāi)口(^)45^圖19所示的例中，開(kāi)口 45形成為將上面25與下面26加以連結(jié)。開(kāi)口 45的尺寸較開(kāi)口 35的尺寸小。液體1^！于開(kāi)口 45的移動(dòng)，較液體⑶于開(kāi)口 35的移動(dòng)受到抑制。
[0277]又，如圖20所示，相對(duì)光路1(較液體回收部24更外側(cè)的第1構(gòu)件21的下面235，可對(duì)液體⑷為撥液性。圖20中，下面235包含含氟的撥液性的膜的表面。據(jù)此，即能抑制上述架橋現(xiàn)象的發(fā)生。
[0278]又，如圖21所示，亦可將相對(duì)光路1(在液體回收部24外側(cè)的第1構(gòu)件21的下面236，配置在較液體回收部24的下面更靠一 2軸側(cè)。下面236與上面25的尺寸可較液體回收部24的下面與上面25的尺寸小。
[0279]又，如圖22所示，亦可使第1構(gòu)件21中，多孔構(gòu)件36的邊緣與外側(cè)面29連結(jié)。
[0280]又，上述各實(shí)施形態(tài)，于第2構(gòu)件22中，是將流體回收部27的下面較下面26配置在更+2軸側(cè)。然而，亦可以是流體回收部27的下面較下面26配置在更一 2軸側(cè)。于2軸方向的流體回收部27下面的位置(高度)與下面26的位置(高度)可實(shí)質(zhì)不相等。相對(duì)光路X較流體回收部27在更外側(cè)的第2構(gòu)件22的下面可對(duì)液體⑷為撥液性。該下面可包含含有氟的撥液性膜的表面。如圖23所示，第2構(gòu)件22中，多孔構(gòu)件37的邊緣與外側(cè)面可以是連結(jié)的。
[0281]又，上述各實(shí)施形態(tài)中，亦可將從第1構(gòu)件21與終端光學(xué)元件13間的空間吸引液體與氣體中的至少一方的吸引口設(shè)于第1構(gòu)件21。
[0282]又，上述各實(shí)施形態(tài)中，亦可將對(duì)第1空間3？1供應(yīng)液體的供應(yīng)口(液體供應(yīng)部)設(shè)于第1構(gòu)件21與第2構(gòu)件22中的至少一方。例如，可在第1構(gòu)件21的下面23的開(kāi)口 34與液體回收部24之間，設(shè)置供應(yīng)液體的供應(yīng)口(液體供應(yīng)部又，在液體供應(yīng)部31之外，另設(shè)置對(duì)第1空間3？1供應(yīng)液體的液體供應(yīng)部的情形時(shí)，從液體供應(yīng)部31供應(yīng)的液體1^！可以不流入第1空間3？1。又，在液體供應(yīng)部31之外，另設(shè)置對(duì)第1空間3？1供應(yīng)液體的液體供應(yīng)部的情形時(shí)，從該液體供應(yīng)部供應(yīng)的液體可與從液體供應(yīng)部31供應(yīng)的液體不同。
[0283]又，上述各實(shí)施形態(tài)中，第2構(gòu)件(22等)亦可以是可動(dòng)至第2構(gòu)件(22等)的一部分配置在曝光用光的光路X內(nèi)的位置。例如，在從終端光學(xué)元件13的射出面12不射出曝光用光的期間的至少一部分中，可于曝光用光的光路X的至少一部分配置第2構(gòu)件22的一部分。
[0284]又，上述實(shí)施形態(tài)中，控制器6包含含0^等的電腦系統(tǒng)。又，控制器6包含可實(shí)施電腦系統(tǒng)與外部裝置間的通訊的介面。儲(chǔ)存裝置7，例如包含狀1等的記憶體、硬碟、00 一尺01等的記錄媒體。于儲(chǔ)存裝置7安裝有用以控制電腦系統(tǒng)的作業(yè)系統(tǒng)(03),內(nèi)儲(chǔ)存有用以控制曝光裝置狀的程序。
[0285]又，亦可于控制器6連接可輸入輸入信號(hào)的輸入裝置。輸入裝置包含鍵盤、滑鼠等的輸入機(jī)器、或可輸入來(lái)自外部裝置的資料的通訊裝置等。此外，亦可裝設(shè)液晶顯示器等的顯示裝置。
[0286]包含記錄在儲(chǔ)存裝置7中的程序的各種信息，可由控制器(電腦系統(tǒng))6加以讀取。于儲(chǔ)存裝置7中，儲(chǔ)存有使控制器6實(shí)施通過(guò)充滿在射出曝光用光的光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板之間的曝光用光的光路的液體以曝光用光使基板曝光的液浸曝光裝置的控制的程序。
[0287]又，儲(chǔ)存在儲(chǔ)存裝置7中的程序，可依上述實(shí)施形態(tài)使控制器6實(shí)施:使用液浸構(gòu)件在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動(dòng)的該基板上形成該液體的液浸空間的動(dòng)作，該液浸構(gòu)件包含配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍至少一部分的第1構(gòu)件以及于該第1構(gòu)件的下方配置在該曝光用光的光路周圍至少一部分、包含通過(guò)間隙與該第1構(gòu)件的第1下面相對(duì)的第2上面、該基板可相對(duì)的第2下面、配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部的第2構(gòu)件；通過(guò)該液浸空間的該液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動(dòng)作；以及于該基板的曝光的至少一部分中，相對(duì)該第1構(gòu)件移動(dòng)該第2構(gòu)件的動(dòng)作。
[0288]通過(guò)將儲(chǔ)存裝置7中儲(chǔ)存的程序讀取至控制器6，基板載臺(tái)2、測(cè)量載臺(tái)3及液浸構(gòu)件5等曝光裝置狀的各種裝置即協(xié)同動(dòng)作，在形成有液浸空間13的狀態(tài)下，實(shí)施基板？的液浸曝光等的各種處理。
[0289]又，上述各實(shí)施形態(tài)中，投影光學(xué)系統(tǒng)的終端光學(xué)元件13的射出面12側(cè)(像面?zhèn)?的光路X被液體1^！充滿。但投影光學(xué)系統(tǒng)？[亦可以是例如國(guó)際公開(kāi)第2004/019128號(hào)小冊(cè)子所揭示的終端光學(xué)元件13的入射側(cè)(物體面?zhèn)?光路亦被液體⑷充滿的投影光學(xué)系統(tǒng)。
[0290]又，上述各實(shí)施形態(tài)中，曝光用的液體1^！雖是使用水，但亦可以是水以外的液體。液體⑷，以對(duì)曝光用光此具有穿透性、對(duì)曝光用光此具有高折射率、對(duì)形成投影光學(xué)系統(tǒng)？[或基板？的表面的感光材(光阻劑)等膜安定者較佳。例如，液體⑷可以是氫氟醚(冊(cè)￡)、全氟化聚醚、氟素潤(rùn)滑油登錄商標(biāo))011)等。此外，液體1^！亦可是各種流體、例如超臨界流體。
[0291]又，上述各實(shí)施形態(tài)的基板？，雖包含半導(dǎo)體元件制造用的半導(dǎo)體晶圓，亦可包含顯示元件用的玻璃基板、薄膜磁頭用的陶瓷晶圓、或曝光裝置所使用的光罩或標(biāo)線片的原版(合成石英、硅晶圓)等。
[0292]又，上述各實(shí)施形態(tài)中，雖然曝光裝置狀是使光罩1基板？同步移動(dòng)以對(duì)光罩1的圖案進(jìn)行掃描曝光的步進(jìn)掃描方式的掃描型曝光裝置(掃描步進(jìn)機(jī))，但亦可以是例如使光罩1與基板？在靜止的狀態(tài)下，使光罩1的圖案一次曝光，并使基板？依序步進(jìn)移動(dòng)的的步進(jìn)重復(fù)方式的投影曝光裝置(步進(jìn)機(jī))。
[0293]再者，于曝光裝置狀步進(jìn)重復(fù)方式的曝光中，亦可在使第1圖案與基板？大致靜止的狀態(tài)，使用投影光學(xué)系統(tǒng)？I將第1圖案的縮小像轉(zhuǎn)印至基板？上后，在第2圖案與基板？大致靜止的狀態(tài)，使用投影光學(xué)系統(tǒng)？I將第2圖案的縮小像與第1圖案局部重疊而一次曝光至基板？上(接合方式的一次曝光裝置又，接合方式的曝光裝置，亦可以是于基板？上至少將二個(gè)圖案局部的重疊轉(zhuǎn)印，并使基板？依序移動(dòng)的步進(jìn)接合方式的曝光裝置。
[0294]又，曝光裝置狀亦可以是例如美國(guó)專利第6611316號(hào)所揭示的將二個(gè)光罩的圖案通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)在基板？上加以合成，以一次掃描曝光使基板？上的一個(gè)照射區(qū)域大致同時(shí)雙重曝光的曝光裝置。此外，本發(fā)明亦能適用于近接方式的曝光裝置、反射鏡投影對(duì)準(zhǔn)器(11111-1-01- 601: 1011等。
[0295]又，上述各實(shí)施形態(tài)中，曝光裝置狀亦可以是例如美國(guó)專利第6341007號(hào)說(shuō)明書、美國(guó)專利第6208407號(hào)說(shuō)明書及美國(guó)專利第6262796號(hào)說(shuō)明書等所揭示的具備多個(gè)基板載臺(tái)的雙載臺(tái)型的曝光裝置。例如圖24所示，在曝光裝置狀具備二個(gè)基板載臺(tái)2001、2002的場(chǎng)合，可配置成與射出面12相對(duì)的物體，包含一方的基板載臺(tái)、該一方的基板載臺(tái)的第1保持部所保持的基板、另一方的基板載臺(tái)、以及該另一方的基板載臺(tái)的第1保持部所保持的基板中的至少一者。
[0296]又，曝光裝置狀亦可以是具備多個(gè)基板載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的曝光裝置。
[0297]曝光裝置狀可以是將半導(dǎo)體元件圖案曝光至基板？的半導(dǎo)體元件制造用的曝光裝置，亦可以是液晶顯示元件制造用或顯示器制造用的曝光裝置，或用以制造薄膜磁頭、攝影元件⑴⑶)、微機(jī)器、腿13、1^晶片、標(biāo)線片或光罩等的曝光裝置。
[0298]又，上述實(shí)施形態(tài)中，雖是使用在光透射性基板上形成有既定遮光圖案(或相位圖案、減光圖案)的光透射型光罩，但亦可取代此光罩，使用例如美國(guó)專利第6778257號(hào)公報(bào)所揭示，根據(jù)待曝光圖案的電子資料來(lái)形成透射圖案或反射圖案、或形成發(fā)光圖案的可變成形光罩(電子光罩、主動(dòng)光罩或影像產(chǎn)生器又，亦可取代具有非發(fā)光型影像顯示元件的可變成形光罩，而裝備包含自發(fā)光型影像顯示元件的圖案形成裝置。
[0299]上述各實(shí)施形態(tài)中，曝光裝置狀雖具備投影光學(xué)系統(tǒng)？匕但亦可將上述各實(shí)施形態(tài)所說(shuō)明的構(gòu)成要件適用于不使用投影光學(xué)系統(tǒng)？^的曝光裝置及曝光方法。例如，可將上述各實(shí)施形態(tài)所說(shuō)明的構(gòu)成要件適用于在透鏡等光學(xué)構(gòu)件與基板的間形成液浸空間，通過(guò)該光學(xué)構(gòu)件對(duì)基板照射曝光用光的曝光裝置及曝光方法。
[0300]又，曝光裝置狀亦可以是例如國(guó)際公開(kāi)第2001/035168號(hào)小冊(cè)子所揭示的通過(guò)在基板？上形成干涉條紋，據(jù)以在基板上曝光線與空間圖案￠￡11:1:6111)的曝光裝置(微影系統(tǒng))。
[0301]上述實(shí)施形態(tài)的曝光裝置狀，是通過(guò)組裝各種次系統(tǒng)(含各構(gòu)成要素)，以能保持既定的機(jī)械精度、電氣精度、光學(xué)精度的方式所制造。為確保此等各種精度，于組裝前后，進(jìn)行對(duì)各種光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行用以達(dá)成光學(xué)精度的調(diào)整、對(duì)各種機(jī)械系統(tǒng)進(jìn)行用以達(dá)成機(jī)械精度的調(diào)整、對(duì)各種電氣系統(tǒng)進(jìn)行用以達(dá)成電氣精度的調(diào)整。從各種次系統(tǒng)至曝光裝置狀的組裝制程，是包含機(jī)械連接、電路的配線連接、氣壓回路的配管連接等。當(dāng)然，從各種次系統(tǒng)至曝光裝置狀的組裝步驟前，有各次系統(tǒng)個(gè)別的組裝步驟。在各種次系統(tǒng)組裝至曝光裝置狀的步驟結(jié)束后，即進(jìn)行綜合調(diào)整，以確保曝光裝置狀整體的各種精度。此外，曝光裝置狀的制造最好是在溫度及清潔度等皆受到管理的無(wú)塵室進(jìn)行。
[0302]半導(dǎo)體元件等的微元件，如圖26所示，是經(jīng)進(jìn)行微元件的功能、性能設(shè)計(jì)的步驟201，根據(jù)此設(shè)計(jì)步驟制作光罩1 (標(biāo)線片)的步驟202，制造元件基材的基板的步驟203，包含依據(jù)上述實(shí)施形態(tài)進(jìn)行基板處理(曝光處理，包含使用光罩1的圖案以曝光用光￡1使基板曝光的動(dòng)作、以及使曝光后基板顯影的動(dòng)作)的基板處理步驟204，元件組裝步驟(包含切割步驟、結(jié)合步驟、封裝步驟等的加工制程)205，以及檢查步驟206等而制造。
[0303]又，上述各實(shí)施形態(tài)的要件可適當(dāng)加以組合。又，亦有不使用部分構(gòu)成要素的情形。此外，在法令許可范圍內(nèi)，援用上述各實(shí)施形態(tài)及變形例所引用的關(guān)于曝光裝置等的所有公開(kāi)公報(bào)及美國(guó)專利的揭示作為本文記載的一部分。
【權(quán)利要求】
1.一種液浸構(gòu)件，用于通過(guò)在光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板之間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置，在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動(dòng)的物體上形成液浸空間，具備: 第I構(gòu)件，配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分，具有第I下面；以及 第2構(gòu)件，于該第I構(gòu)件的下方，配置在該曝光用光的光路周圍的至少一部分，能相對(duì)該第I構(gòu)件移動(dòng)， 其中該第2構(gòu)件具備: 與該第I構(gòu)件的該第I下面通過(guò)間隙相對(duì)的第2上面； 與該物體能相對(duì)的第2下面；以及 配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部。
2.如權(quán)利要求1的液浸構(gòu)件，其進(jìn)一步具備相對(duì)該光路于該第I構(gòu)件的外側(cè)連接于該第2構(gòu)件的支承構(gòu)件； 其中根據(jù)通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置而使該支承構(gòu)件移動(dòng)，該第2構(gòu)件即能移動(dòng)。
3.如權(quán)利要求1或2的液浸構(gòu)件，其中，該液體從該第2上面?zhèn)鹊目臻g及該第2下面?zhèn)鹊目臻g中一方往另一方的移動(dòng)受到抑制。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該流體回收部相對(duì)該光路配置在該第I構(gòu)件外側(cè)。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第I構(gòu)件進(jìn)一步具有相對(duì)該光路朝向外側(cè)的外側(cè)面； 該第2構(gòu)件進(jìn)一步具有通過(guò)間隙與該第I構(gòu)件的該外側(cè)面相對(duì)的內(nèi)側(cè)面、與從該流體回收部回收的流體流經(jīng)的回收流路；以及 于該內(nèi)側(cè)面的外側(cè)配置該第2構(gòu)件的該回收流路。
6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該物體能相對(duì)于該流體回收部。
7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件的該流體回收部能通過(guò)多孔構(gòu)件的孔回收流體。
8.如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件能在與該光學(xué)構(gòu)件的光軸實(shí)質(zhì)垂直的平面內(nèi)移動(dòng)。
9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其進(jìn)一步具備能供應(yīng)用以形成該液浸空間的該液體的供應(yīng)部。
10.如權(quán)利要求9的液浸構(gòu)件，其中，該供應(yīng)部配置于該第I構(gòu)件。
11.如權(quán)利要求9或10的液浸構(gòu)件，其中，來(lái)自該供應(yīng)部的該液體的至少一部分被供應(yīng)至該第I下面與該第2上面之間的第I空間；以及 該液浸構(gòu)件并且進(jìn)一步具備能回收來(lái)自該第I空間的該液體的液體回收部。
12.如權(quán)利要求11的液浸構(gòu)件，其進(jìn)一步具備配置在該第I下面、能誘導(dǎo)來(lái)自該供應(yīng)部的該液體的至少一部分的誘導(dǎo)部。
13.如權(quán)利要求12的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件在與該光學(xué)構(gòu)件的該光軸實(shí)質(zhì)垂直的方向移動(dòng)；以及 該誘導(dǎo)部使該液體的至少一部分流向與該第2構(gòu)件的移動(dòng)方向平行的方向。
14.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其進(jìn)一步具備能回收來(lái)自該第I下面與該第2上面之間的第I空間的該液體的液體回收部。
15.如權(quán)利要求11至14中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該液體回收部配置于該第I構(gòu)件。
16.如權(quán)利要求11至15中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該液體回收部配置在該光路的周圍。
17.如權(quán)利要求1至16中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2上面對(duì)該液體具有撥液性。
18.如權(quán)利要求1至17中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第I構(gòu)件具有與該光學(xué)構(gòu)件的側(cè)面相對(duì)的相對(duì)面；以及具有設(shè)置成該側(cè)面與該相對(duì)面之間的液體的至少一部分流于該第2上面的流路。
19.如權(quán)利要求18的液浸構(gòu)件，其進(jìn)一步具備能回收流于該第2上面的該液體的回收部。
20.如權(quán)利要求19的液浸構(gòu)件，其中，該回收部能回收來(lái)自該第I空間的該液體。
21.如權(quán)利要求1至20中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2下面的至少一部分于相對(duì)該光路的放射方向朝外側(cè)向上方傾斜。
22.如權(quán)利要求1至21中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其具備相對(duì)該光路配置在該第2構(gòu)件的外側(cè)、能回收流體的第3構(gòu)件。
23.如權(quán)利要求1至22中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第3構(gòu)件能通過(guò)多孔構(gòu)件回收流體。
24.如權(quán)利要求23的液浸構(gòu)件，其中，該第3構(gòu)件能與該第2構(gòu)件一起移動(dòng)。
25.如權(quán)利要求1至24中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第I構(gòu)件實(shí)質(zhì)上不移動(dòng)。
26.如權(quán)利要求1至25中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件能與該曝光用光從該射出面射出的期間的至少一部分并行移動(dòng)。
27.如權(quán)利要求1至26中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件能與該物體移動(dòng)的期間的至少一部分并行移動(dòng)。
28.如權(quán)利要求1至27中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件能于該物體的移動(dòng)方向移動(dòng)。
29.如權(quán)利要求1至28中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第I構(gòu)件具有該曝光用光能通過(guò)的第I開(kāi)口 ；以及 該第2構(gòu)件具有該曝光用光能通過(guò)的第2開(kāi)口。
30.如權(quán)利要求29的液浸構(gòu)件，其中，該第I開(kāi)口較該第2開(kāi)口大。
31.如權(quán)利要求29或30的液浸構(gòu)件，其中，規(guī)定面向該光路的該第2開(kāi)口的該第2構(gòu)件內(nèi)面的至少一部分，于相對(duì)該光路的放射方向朝外側(cè)向上方傾斜。
32.如權(quán)利要求29至31中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件的該第2上面的一部分與該射出面相對(duì)。
33.如權(quán)利要求29至32中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第I構(gòu)件具有形成在該第I開(kāi)口周圍的第I上面；以及 該第I上面的一部分與該射出面相對(duì)。
34.如權(quán)利要求29至33中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，用以形成該液浸空間而從該液體供應(yīng)部供應(yīng)的液體，通過(guò)該第I開(kāi)口及該第2開(kāi)口供應(yīng)至與該射出面相對(duì)的該物體上。
35.—種液浸構(gòu)件，用于通過(guò)光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置，在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動(dòng)的物體上形成液浸空間，具備: 第I構(gòu)件，配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分，具有第I下面； 液體回收部；以及 第2構(gòu)件，配置在該曝光用光的光路周圍的至少一部分，能相對(duì)該第I構(gòu)件移動(dòng)； 其中該第2構(gòu)件具有: 通過(guò)間隙與該第I構(gòu)件的該第I下面相對(duì)的第2上面； 與該物體相對(duì)的第2下面；以及 配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部； 該液體回收部能回收來(lái)自該第I下面與該第2上面間的第I空間的液體；以及 該流體回收部能回收來(lái)自該第2下面與該物體間的第2空間的流體。
36.如權(quán)利要求35的液浸構(gòu)件，其中，該第I構(gòu)件進(jìn)一步具有相對(duì)該光路朝向外側(cè)的外側(cè)面； 該第2構(gòu)件進(jìn)一步具有通過(guò)間隙與該外側(cè)面相對(duì)的內(nèi)側(cè)面、與從該流體回收部回收的流體流經(jīng)的回收流路；以及 該第2構(gòu)件的回收流路相對(duì)該光路于該內(nèi)側(cè)面的外側(cè)配置。
37.如權(quán)利要求35或36的液浸構(gòu)件，其中，該物體能相對(duì)于該流體回收部。
38.如權(quán)利要求35至37中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該流體回收部能通過(guò)多孔構(gòu)件的孔回收流體。
39.如權(quán)利要求35至38中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件能在與該光學(xué)構(gòu)件的光軸實(shí)質(zhì)垂直的平面內(nèi)移動(dòng)。
40.如權(quán)利要求35至39中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其具備配置在該第I下面、或該第2上面、或該第I下面與該第2上面的兩方的誘導(dǎo)部。
41.如權(quán)利要求40的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件能在與該光學(xué)構(gòu)件的該光軸實(shí)質(zhì)垂直的方向移動(dòng)； 該誘導(dǎo)部使該第I空間的液體的至少一部分流向與該第2構(gòu)件的移動(dòng)方向平行的方向。
42.如權(quán)利要求35至41中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該液體回收部配置于該第I構(gòu)件。
43.如權(quán)利要求35至42中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該液體回收部配置于該光路的周圍。
44.如權(quán)利要求35至43中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該液體回收部配置于該第2構(gòu)件。
45.如權(quán)利要求35至44中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其進(jìn)一步具有使該光學(xué)構(gòu)件與該第I構(gòu)件間的間隙內(nèi)的該液體的至少一部分流向該第2上面上的流路； 其中該第I構(gòu)件被配置成該流路的端部在較該光學(xué)構(gòu)件下面的上方處，連接于該光學(xué)構(gòu)件與該第I構(gòu)件間的該間隙。
46.如權(quán)利要求45的液浸構(gòu)件，其中，該液體回收部能回收通過(guò)該流路流于該第2上面的該液體的至少一部分。
47.如權(quán)利要求35至46中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2下面的至少一部分于相對(duì)該光路的放射方向朝外側(cè)向上方傾斜。
48.如權(quán)利要求35至47中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其進(jìn)一步具備相對(duì)該光路配置在該流體回收部的外側(cè)、能回收流體的第3構(gòu)件。
49.如權(quán)利要求48的液浸構(gòu)件，其中，該第3構(gòu)件能通過(guò)多孔構(gòu)件回收流體。
50.如權(quán)利要求48或49的液浸構(gòu)件，其中，該第3構(gòu)件能與該第2構(gòu)件一起移動(dòng)。
51.如權(quán)利要求35至50中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其進(jìn)一步具備供應(yīng)用以形成該液浸空間的該液體的第I供應(yīng)部。
52.如權(quán)利要求51的液浸構(gòu)件，其中，該第I供應(yīng)部配置于該第I構(gòu)件。
53.如權(quán)利要求51或52的液浸構(gòu)件，其中，來(lái)自該第I供應(yīng)部的該液體的至少一部分被供應(yīng)至該第I空間。
54.如權(quán)利要求51至53中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第I供應(yīng)部面向該光學(xué)構(gòu)件與該第I構(gòu)件之間的第3空間。
55.如權(quán)利要求54的液浸構(gòu)件，其進(jìn)一步具有將液體供應(yīng)至該第I空間的第2供應(yīng)部。
56.如權(quán)利要求55的液浸構(gòu)件，其中，該第I構(gòu)件具有該第2供應(yīng)部。
57.如權(quán)利要求51至56中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第I構(gòu)件具有該曝光用光能通過(guò)的第I開(kāi)口； 該第2構(gòu)件具有該曝光用光能通過(guò)的第2開(kāi)口；以及 其中從該第I供應(yīng)部供應(yīng)的該液體通過(guò)該第2開(kāi)口被供應(yīng)至該物體上。
58.如權(quán)利要求57的液浸構(gòu)件，其中，從該第I供應(yīng)部供應(yīng)的該液體通過(guò)該第I開(kāi)口被供應(yīng)至該物體上。
59.如權(quán)利要求35至50中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第I構(gòu)件具有該曝光用光能通過(guò)的第I開(kāi)口 ；以及 其中該第2構(gòu)件具有該曝光用光能通過(guò)的第2開(kāi)口。
60.如權(quán)利要求57至59中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第I開(kāi)口較該第2開(kāi)口大。
61.如權(quán)利要求57至60中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，規(guī)定面向該光路的該第2開(kāi)口的該第2構(gòu)件的內(nèi)面的至少一部分，于相對(duì)該光路的放射方向朝外側(cè)向上方傾斜。
62.如權(quán)利要求57至61中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件的該第2上面的一部分與該射出面相對(duì)。
63.如權(quán)利要求57至62中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第I構(gòu)件具有形成在該第I開(kāi)口周圍的第I上面；以及 該第I上面的一部分與該射出面相對(duì)。
64.如權(quán)利要求35至63中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件能與該曝光用光從該射出面射出的期間的至少一部分并行移動(dòng)。
65.如權(quán)利要求35至64中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件能與該物體移動(dòng)的期間的至少一部分并行移動(dòng)。
66.如權(quán)利要求35至65中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件能于該物體的移動(dòng)方向移動(dòng)。
67.一種曝光裝置，通過(guò)液體以曝光用光使基板曝光，其具備權(quán)利要求1至66中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件。
68.如權(quán)利要求67的曝光裝置，其中，該第2構(gòu)件能以該第2構(gòu)件和該物體的相對(duì)速度變小的方式移動(dòng)。
69.如權(quán)利要求67或68的曝光裝置，其中，該第2構(gòu)件能以該第2構(gòu)件和該物體的相對(duì)速度，較該第I構(gòu)件與該物體的相對(duì)速度小的方式移動(dòng)。
70.如權(quán)利要求67至69中任一項(xiàng)的曝光裝置，其中，該物體包含該基板； 在形成有該液浸空間的狀態(tài)下，該基板能在與該光學(xué)構(gòu)件的光軸實(shí)質(zhì)垂直的面內(nèi)，移動(dòng)于第I路徑后，移動(dòng)于第2路徑； 于該第I路徑，該基板的移動(dòng)包含往與第I軸平行的第I方向的移動(dòng)； 于該第2路徑，該基板的移動(dòng)包含往和與該第I軸正交的第2軸平行的第2方向的移動(dòng)； 該第2構(gòu)件在該基板移動(dòng)于該第2路徑的期間的至少一部分中，能于該第2方向移動(dòng)。
71.如權(quán)利要求70的曝光裝置，其中，在該基板移動(dòng)于該第I路徑時(shí)進(jìn)行通過(guò)該液浸空間的該液體對(duì)該基板的照射區(qū)域照射該曝光用光，而在該基板移動(dòng)于該第2路徑時(shí)則不進(jìn)行通過(guò)該液浸空間的該液體對(duì)該基板的照射區(qū)域照射該曝光用光。
72.如權(quán)利要求70或71的曝光裝置，其中，該基板在移動(dòng)于該第2路徑后，移動(dòng)于第3路徑； 于該第3路徑，該基板的移動(dòng)包含往與該第I方向相反的第3方向的移動(dòng)；以及 該第2構(gòu)件在該基板移動(dòng)于該第3路徑的期間的至少一部分中，能往與該第2方向相反的第4方向移動(dòng)。
73.如權(quán)利要求70至72中任一項(xiàng)的曝光裝置，其中，該第2構(gòu)件能在該基板開(kāi)始該第2路徑的移動(dòng)前，開(kāi)始往該第2方向的移動(dòng)。
74.如權(quán)利要求67至73中任一項(xiàng)的曝光裝置，其中，該物體包含保持且移動(dòng)該基板的基板載臺(tái)。
75.一種元件制造方法，包含: 使用權(quán)利要求67至74中任一項(xiàng)的曝光裝置使基板曝光的動(dòng)作；以及 使曝光后的該基板顯影的動(dòng)作。
76.—種曝光方法，通過(guò)光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板間的液體以曝光用光使該基板曝光，包含: 使用液浸構(gòu)件在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動(dòng)的該基板上形成該液體的液浸空間的動(dòng)作，該液浸構(gòu)件包含配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍至少一部分的第I構(gòu)件以及于該第I構(gòu)件的下方且配置在該曝光用光的光路周圍至少一部分、包含通過(guò)間隙與該第I構(gòu)件的第I下面相對(duì)的第2上面、與該基板能相對(duì)的第2下面、配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部的第2構(gòu)件； 通過(guò)該液浸空間的該液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動(dòng)作；以及 于該基板的曝光的至少一部分中，相對(duì)該第I構(gòu)件移動(dòng)該第2構(gòu)件的動(dòng)作。
77.—種元件制造方法，包含: 使用權(quán)利要求76的曝光方法使基板曝光的動(dòng)作；以及 使曝光后的該基板顯影的動(dòng)作。
78.—種程序，使電腦實(shí)施通過(guò)光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置的控制，該程序?qū)嵤? 使用液浸構(gòu)件在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動(dòng)的該基板上形成該液體的液浸空間的動(dòng)作，該液浸構(gòu)件包含配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍至少一部分的第I構(gòu)件以及于該第I構(gòu)件的下方且配置在該曝光用光的光路周圍至少一部分、包含通過(guò)間隙與該第I構(gòu)件的第I下面相對(duì)的第2上面、與該基板能相對(duì)的第2下面、配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部的第2構(gòu)件； 通過(guò)該液浸空間的該液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動(dòng)作；以及 于該基板的曝光的至少一部分期間，相對(duì)該第I構(gòu)件移動(dòng)該第2構(gòu)件的動(dòng)作。
79.一種電腦可讀取的記錄媒體，其記錄有權(quán)利要求78的程序。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK104487897SQ201380038451
【公開(kāi)日】2015年4月1日 申請(qǐng)日期:2013年7月16日 優(yōu)先權(quán)日:2012年7月20日
【發(fā)明者】佐藤真路 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康