一種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置與方法
【專利摘要】一種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置與方法。該裝置主要由準(zhǔn)分子激光器、擴(kuò)束棱鏡、勻光聚焦物鏡系統(tǒng)、光纖耦合物鏡、多模光纖、成像物鏡、照明掩模板、準(zhǔn)直物鏡及夏克-哈特曼波前傳感器組成；其中，從準(zhǔn)分子激光器輸出的狹長(zhǎng)的矩形光斑經(jīng)擴(kuò)束棱鏡擴(kuò)束后得到方形光斑，方形光斑經(jīng)過(guò)勻光聚焦物鏡系統(tǒng)和光纖耦合物鏡后被耦合入多模光纖中；由多模光纖出射的發(fā)散球面波經(jīng)成像物鏡后成像到照明掩模板上產(chǎn)生多個(gè)球面波，這些球面波經(jīng)過(guò)投影物鏡系統(tǒng)后攜帶其波像差信息，再經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直物鏡后成為平面波，平面波被夏克-哈特曼波前傳感器的微透鏡陣列分成多個(gè)子光束，這些子光束聚焦到夏克-哈特曼波前傳感器的探測(cè)器上，測(cè)得投影物鏡系統(tǒng)的波像差信息。
【專利說(shuō)明】-種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置與方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及光學(xué)測(cè)量【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量 裝置與方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 21世紀(jì)是信息經(jīng)濟(jì)時(shí)代，發(fā)達(dá)國(guó)家國(guó)民經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)的很大部分與集成電路有關(guān)。集 成電路已成為事關(guān)一個(gè)國(guó)家國(guó)民經(jīng)濟(jì)、國(guó)防建設(shè)、人民生活和信息安全的基礎(chǔ)性、戰(zhàn)略性產(chǎn) 業(yè)。從單個(gè)晶體管到今天的芯片，集成電路的發(fā)展是一個(gè)不斷微型化、集成化的過(guò)程，該要 歸功于光學(xué)光刻技術(shù)的不斷進(jìn)步。
[0003]作為光刻機(jī)核也部件的投影物鏡系統(tǒng)，其波像差大小直接影響著光刻成像質(zhì)量和 光刻機(jī)的分辨率。為了提高光刻機(jī)的分辨率，光刻機(jī)中曝光波長(zhǎng)不斷減小，投影物鏡數(shù)值孔 徑不斷提高，各種分辨率增強(qiáng)技術(shù)使得工藝因子不斷降低。與此同時(shí)，光刻物鏡也更加鹿大 和復(fù)雜，例如，目前國(guó)際上最先進(jìn)的深紫外投影光刻物鏡的光學(xué)元件數(shù)量在20片W上，該 給光學(xué)設(shè)計(jì)、加工、檢測(cè)及裝調(diào)都帶來(lái)了極大的挑戰(zhàn)。投影物鏡系統(tǒng)的復(fù)雜性和精密性，要 求投影物鏡系統(tǒng)在加工、集成及曝光的各個(gè)環(huán)節(jié)都必須進(jìn)行波像差的檢測(cè)。尤其在系統(tǒng)集 成裝調(diào)階段，波像差檢測(cè)是最終物鏡系統(tǒng)高精度集成的重要保證。
[0004] 光刻機(jī)投影物鏡系統(tǒng)波像差檢測(cè)方法主要有基于光干涉原理和基于夏克-哈特 曼波前傳感器兩種。其中，基于光干涉原理的方法有衍射型的點(diǎn)衍射干涉儀（PDI)和線衍 射干涉儀（LDI)，剪切型的橫向剪切干涉儀（LSI)、雙光柵剪切干涉儀值LSI)、交叉光柵剪 切干涉儀（CGLSI)和數(shù)字泰伯干涉儀值TI)?；谙目?哈特曼波前傳感器的方法主要有 尼康公司采用的iPot。
[0005] 文獻(xiàn)《Phase-shiftingpoint-diffractioninterferometryatl93nm》（Appl. 化t. ,2000,29(31) :5768?5772)詳細(xì)描述了采用PDI進(jìn)行系統(tǒng)波像差檢測(cè)的技術(shù)。其中， PDI是采用微孔衍射產(chǎn)生的球面波作為參考光，通過(guò)光柵移相實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)波像差的測(cè)量。然而 對(duì)于面向lOOnm節(jié)點(diǎn)的深紫外投影物鏡系統(tǒng)像方數(shù)值孔徑（NA)達(dá)到0. 75,為了產(chǎn)生足夠高 質(zhì)量的衍射參考波前，要求微孔直徑很小，該將使能量透過(guò)率很低，影響測(cè)量精度。同時(shí)光 柵位于會(huì)聚光束中進(jìn)行移相，將給測(cè)量結(jié)果帶來(lái)誤差。文獻(xiàn)《Anewon-machinemeasurement systemtomeasurewavefrontaberrationofprojectionopticswithhyper-NA》（Proc. SPIE，2006, 6154:615424)詳細(xì)描述了采用LDI進(jìn)行系統(tǒng)波像差檢測(cè)的技術(shù)。LDI采用狹縫 衍射產(chǎn)生的柱面波作為參考光，解決了PDI采用微孔能量透過(guò)率很低的問題，使得能量大 大提高。然而，LDI只能測(cè)量某個(gè)方向的波像差信息，為了實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)波像差的完整測(cè)量，需要 在兩個(gè)正交方向上進(jìn)行兩次測(cè)量，該樣在調(diào)整狹縫和光柵的過(guò)程中，將會(huì)給測(cè)量帶來(lái)誤差。 同樣，與PDI-樣，LDI所采用的光柵也將給最終測(cè)量帶來(lái)誤差。
[0006] 剪切型干涉儀如美國(guó)專利US7352475,不需要參考波前，而是將測(cè)試波前與其自身 的錯(cuò)位（剪切）波前發(fā)生干涉，實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)波像差的檢測(cè)。由于不需要微孔或者狹縫，因此可 W獲得很大的能量透過(guò)率，具有較高的精度。但是在剪切干涉儀中，光柵位于會(huì)聚光束或者 發(fā)散光束中，將給測(cè)量結(jié)果帶來(lái)誤差。
[0007] 文獻(xiàn)《HighnumericalapertureHartmannwavefrontsensorwithpinholearray extendedsource》(Proc.SPIE, 2012, 8550:85503M)詳細(xì)描述了米用孔陣列和夏克-哈特曼 波前傳感器的方法進(jìn)行系統(tǒng)波像差測(cè)量的技術(shù)。其中，通過(guò)在投影物鏡系統(tǒng)的物面上集成 按正方形方式排列的孔陣列，衍射產(chǎn)生NA為0. 1875的衍射波前，經(jīng)過(guò)投影物鏡系統(tǒng)后，用 準(zhǔn)直物鏡將發(fā)散波前轉(zhuǎn)換成平面波前，最終采用夏克-哈特曼波前傳感器記錄系統(tǒng)波像差 信息。然而，采用該裝置，需要一個(gè)NA為0. 75的準(zhǔn)直物鏡，在193nm波段，NA達(dá)到0. 75的 準(zhǔn)直物鏡，體積鹿大，價(jià)格昂貴，同時(shí)也難于精確地標(biāo)定其波像差。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0008] 有鑒于此，本發(fā)明的目的在于，克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種新的光刻投影 物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置與方法，所要解決的技術(shù)問題是使其通過(guò)在投影物鏡系統(tǒng)的像面 上集成微孔陣列，采用夏克-哈特曼波前傳感器進(jìn)行投影物鏡系統(tǒng)波像差的測(cè)量，可W在 保證高的能量透過(guò)率的同時(shí)，有效地減小準(zhǔn)直物鏡的數(shù)值孔徑，從而改善準(zhǔn)直物鏡體積鹿 大、價(jià)格昂貴及波像差難于精確地標(biāo)定的問題。
[0009] 本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用W下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提 出的一種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，該裝置包括：準(zhǔn)分子激光器、擴(kuò)束棱鏡、勻光 聚焦物鏡系統(tǒng)、光纖禪合物鏡、多模光纖、成像物鏡、照明掩模板、準(zhǔn)直物鏡W及夏克-哈特 曼波前傳感器；其中，所述準(zhǔn)分子激光器、所述擴(kuò)束棱鏡、所述勻光聚焦物鏡系統(tǒng)及所述光 纖禪合物鏡依次設(shè)置于所述多模光纖的一端，從所述準(zhǔn)分子激光器輸出的狹長(zhǎng)的矩形光斑 經(jīng)過(guò)所述擴(kuò)束棱鏡擴(kuò)束后得到方形光斑，所述方形光斑經(jīng)過(guò)所述勻光聚焦物鏡系統(tǒng)和所述 光纖禪合物鏡后被禪合入所述多模光纖中；在所述多模光纖的另一端依次設(shè)置所述成像物 鏡、所述照明掩模板、所述準(zhǔn)直物鏡及所述夏克-哈特曼波前傳感器，由所述多模光纖出射 的發(fā)散球面波經(jīng)過(guò)所述成像物鏡后成像到所述照明掩模板上產(chǎn)生多個(gè)球面波，該些球面波 經(jīng)過(guò)待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)后攜帶其波像差信息，再經(jīng)過(guò)所述準(zhǔn)直物鏡后成為攜帶波像差信息 的平面波，所述平面波被所述夏克-哈特曼波前傳感器的微透鏡陣列分成多個(gè)子光束，該 些子光束聚焦到所述夏克-哈特曼波前傳感器的探測(cè)器上，測(cè)得所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)的 波像差信息。
[0010] 本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用W下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0011] 前述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其中所述擴(kuò)束棱鏡包括：第一擴(kuò)束棱 鏡、第二擴(kuò)束棱鏡和第H擴(kuò)束棱鏡；所述第一擴(kuò)束棱鏡、所述第二擴(kuò)束棱鏡和所述第H擴(kuò)束 棱鏡是大小不同，材料相同，且H個(gè)頂角的角度大小分別對(duì)應(yīng)一致的直角棱鏡；其中每個(gè)直 角棱鏡的放大倍率X滿足W下關(guān)系：
[0012] 義=- 巧0
[0013] 式中n為棱鏡的折射率，n。為棱鏡所處介質(zhì)的折射率；從所述準(zhǔn)分子激光器輸出 的狹長(zhǎng)的矩形光斑是依次經(jīng)過(guò)所述第一擴(kuò)束棱鏡、所述第二擴(kuò)束棱鏡和所述第H擴(kuò)束棱鏡 擴(kuò)束后得到所述方形光斑；其中，所述第一擴(kuò)束棱鏡的第一斜面朝向所述準(zhǔn)分子激光器，所 述第一擴(kuò)束棱鏡的第一直角面朝向所述第二擴(kuò)束棱鏡的第二斜面，所述第二擴(kuò)束棱鏡與所 述第一直角面對(duì)應(yīng)的第二直角面朝向所述第H擴(kuò)束棱鏡的第H斜面，所述第H擴(kuò)束棱鏡與 所述第一直角面及所述第二直角面對(duì)應(yīng)的第H直角面朝向所述勻光聚焦物鏡系統(tǒng)，其中所 述第一直角面與所述第二斜面之間，及所述第二直角面與所述第H斜面之間的夾角均為銳 角，使從所述準(zhǔn)分子激光器發(fā)出的狹長(zhǎng)的矩形光束依次從所述第一斜面、所述第二斜面和 所述第H斜面傾斜入射，并依次從所述第一直角面、所述第二直角面和所述第H直角面垂 直出射。
[0014] 前述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其中擴(kuò)束后的所述方形光斑經(jīng)過(guò)所述 勻光聚焦物鏡系統(tǒng)后能量成為平頂?shù)木鶆蚍植疾⒕劢沟剿龉饫w禪合物鏡，經(jīng)過(guò)所述光纖 禪合物鏡后被禪合入所述多模光纖中。
[0015] 前述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其中所述多模光纖的長(zhǎng)度是使通過(guò)所 述多模光纖后的光束所產(chǎn)生的模式色散的大小大于所述光束自身的相干長(zhǎng)度。
[0016] 前述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其中所述照明掩模板位于所述待測(cè)投 影物鏡系統(tǒng)的像面上，所述準(zhǔn)直物鏡的前焦點(diǎn)位于所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)的物面與光軸 的交點(diǎn)處，使由所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)出射的光束具有小的數(shù)值孔徑NA。，其大小為NA。= NAi/M，其中M和NAi分別為所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)的放大倍率和像方數(shù)值孔徑。
[0017] 前述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其中在所述成像物鏡與所述照明掩模 板之間還設(shè)有漫射體，由所述成像物鏡出射的光束經(jīng)過(guò)所述漫射體后發(fā)散角增大，并更加 均勻地照射到所述照明掩模板上。
[0018] 前述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其中在所述照明掩模板上設(shè)有多個(gè)圓 形微孔，球面波經(jīng)過(guò)該些圓形微孔衍射產(chǎn)生多個(gè)接近于理想的非相干球面波。
[0019] 前述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其中所述照明掩模板上的多個(gè)所述圓 形微孔是按照六角方式排列于微孔陣列區(qū)域；所述照明掩模板包括：基底、金屬薄膜及增 透膜，所述基底的材料為烙融石英，在所述基底的兩個(gè)相對(duì)的表面上分別鍛有所述金屬薄 膜和所述增透膜，所述金屬薄膜的光學(xué)密度（0D)值大于6,所述圓形微孔是通過(guò)聚焦離子 束（FIB)的方式在所述金屬薄膜上刻蝕形成；其中，所述圓形微孔的直徑大小d滿足W下式 子： 義
[0020] d<1.22--
[0021] 式中A為照明光波波長(zhǎng)，NAi為所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)像方的數(shù)值孔徑；相鄰兩 個(gè)所述圓形微孔之間的間距S根據(jù)照明相干因子為零的條件，由W下式子確定：
[0022] S= \22-L h
[0023] 式中A為照明光波波長(zhǎng)，b為照射所述照明掩模板的光源的直徑，L為所述漫射體 到所述照明掩模板的距離；所述微孔陣列區(qū)域的半徑R由W下式子確定：
[0024] R<~/' a
[0025] 式中A為照明光波波長(zhǎng)，a為所述夏克-哈特曼波前傳感器中所述微透鏡陣列的 周期，f為所述準(zhǔn)直物鏡的焦距。
[0026] 前述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其中所述照明掩模板上的多個(gè)所述圓 形微孔是隨機(jī)排列于微孔陣列區(qū)域；所述照明掩模板包括：基底、金屬薄膜及增透膜，所述 基底的材料為烙融石英，在所述基底的兩個(gè)相對(duì)的表面上分別鍛有所述金屬薄膜和所述增 透膜，所述金屬薄膜的光學(xué)密度（0D)值大于6,所述圓形微孔是通過(guò)聚焦離子束（FIB)的方 式在所述金屬薄膜上刻蝕形成；其中，所述圓形微孔的直徑大小d滿足W下式子：
[0027] (/<1.22^7^ NA.
[002引式中A為照明光波波長(zhǎng)，NAi為所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)像方的數(shù)值孔徑；所述微 孔陣列區(qū)域的半徑R由W下式子確定： 義
[0029] 民<-f a
[0030] 式中A為照明光波波長(zhǎng)，a為所述夏克-哈特曼波前傳感器中所述微透鏡陣列的 周期，f為所述準(zhǔn)直物鏡的焦距。
[0031] 本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還采用W下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提出的 一種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量方法，該方法包括W下步驟：
[0032] 1)、調(diào)整第一擴(kuò)束棱鏡、第二擴(kuò)束棱鏡和第H擴(kuò)束棱鏡，使從準(zhǔn)分子激光器發(fā)出的 狹長(zhǎng)的矩形光束依次從所述第一擴(kuò)束棱鏡、所述第二擴(kuò)束棱鏡和所述第H擴(kuò)束棱鏡的斜面 傾斜入射，并依次從所述第一擴(kuò)束棱鏡、所述第二擴(kuò)束棱鏡和所述第H擴(kuò)束棱鏡的直角面 垂直出射，通過(guò)選擇各擴(kuò)束棱鏡的折射率，使從所述第H擴(kuò)束棱鏡出射的光束具有方形的 能量分布，得到方形光斑；
[0033] 2)、通過(guò)勻光聚焦物鏡系統(tǒng)使擴(kuò)束后的所述方形光斑的能量成為平頂?shù)木鶆蚍植?并聚焦到光纖禪合物鏡，通過(guò)調(diào)節(jié)所述光纖禪合物鏡將其禪合入多模光纖中；
[0034] 3)、選擇恰當(dāng)?shù)乃龆嗄９饫w的長(zhǎng)度，使光束經(jīng)過(guò)所述多模光纖后所產(chǎn)生的模式 色散的大小大于所述光束自身的相干長(zhǎng)度；
[00巧]4)、通過(guò)成像物鏡將由所述多模光纖出射的發(fā)散球面波成像到照明掩模板上，在 所述成像物鏡和所述照明掩模板之間加入漫射體，使由所述成像物鏡出射的光束的發(fā)散角 增大，并更加均勻地照射到所述照明掩模板上；
[0036]5)、調(diào)節(jié)所述照明掩模板，使其位于待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)的像面上，從而使球面波經(jīng) 過(guò)所述照明掩模板后衍射產(chǎn)生多個(gè)接近于理想的非相干球面波，該些球面波經(jīng)過(guò)所述待測(cè) 投影物鏡系統(tǒng)后攜帶其波像差信息；調(diào)節(jié)準(zhǔn)直物鏡，使其前焦點(diǎn)位于所述待測(cè)投影物鏡系 統(tǒng)的物面與光軸的交點(diǎn)處，從而使該些攜帶波像差信息的所述球面波經(jīng)過(guò)所述準(zhǔn)直物鏡后 成為攜帶波像差信息的平面波；
[0037]6)、通過(guò)夏克-哈特曼波前傳感器記錄所述平面波的波前信息，積分得到測(cè)量結(jié) 果Wt。
[0038]7)、將所述測(cè)量結(jié)果Wt減去所述準(zhǔn)直物鏡和所述夏克-哈特曼波前傳感器所引入 的系統(tǒng)誤差Ws，得到所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)的波像差信息W=Wt-Ws。
[0039] 本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明 一種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置與方法至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果：本發(fā)明的 光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置與方法，可W實(shí)現(xiàn)光刻投影物鏡曝光光學(xué)系統(tǒng)集成裝調(diào) 過(guò)程中系統(tǒng)波像差的快速高精度檢測(cè)。通過(guò)微孔陣列獲得高質(zhì)量的非相干照明光波，在保 證球面波質(zhì)量的同時(shí)，提高了到達(dá)夏克-哈特曼波前傳感器上的能量及其能量分布的均勻 性，有效提高了測(cè)量速度和精度。
[0040] 上述說(shuō)明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段， 而可依照說(shuō)明書的內(nèi)容予W實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠 更明顯易懂，W下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說(shuō)明如下。
【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0041] 圖1是本發(fā)明一種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置的一較佳實(shí)施例用于投影 物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量的示意圖。
[0042] 圖2是本發(fā)明的微孔陣列規(guī)則排布的照明掩模板的側(cè)視示意圖。
[0043] 圖3是本發(fā)明的微孔陣列規(guī)則排布的照明掩模板的俯視示意圖。
[0044] 圖4是本發(fā)明的微孔陣列隨機(jī)排布的照明掩模板的側(cè)視示意圖。
[0045] 圖5是本發(fā)明的微孔陣列隨機(jī)排布的照明掩模板的俯視示意圖。
[0046] 10;準(zhǔn)分子激光器20;擴(kuò)束棱鏡
[0047] 21;第一擴(kuò)束棱鏡22;第二擴(kuò)束棱鏡
[0048] 23;第H擴(kuò)束棱鏡30;勻光聚焦物鏡系統(tǒng)
[0049] 40;光纖禪合物鏡50;多模光纖
[0050] 60;成像物鏡 67;漫射體
[005。70;照明掩模板71;基底
[005引72;金屬薄膜 73;圓形微孔
[005引74;增透膜 75;微孔陣列區(qū)域
[0054] 80;準(zhǔn)直物鏡 90;夏克-哈特曼波前傳感器
[00巧]100 ;投影物鏡系統(tǒng)
【具體實(shí)施方式】
[0056] 為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，W下結(jié) 合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明提出的一種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置與方法 其【具體實(shí)施方式】、結(jié)構(gòu)、方法、步驟、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。
[0057]本發(fā)明是采用夏克-哈特曼波前傳感器法進(jìn)行光刻機(jī)投影物鏡系統(tǒng)波像差的檢 巧1|，請(qǐng)參閱圖1所示，是本發(fā)明一種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置的一較佳實(shí)施例用 于投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量的示意圖。本發(fā)明的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置主要 由產(chǎn)生照明光束的準(zhǔn)分子激光器10,用于激光光束擴(kuò)束的擴(kuò)束棱鏡20,對(duì)非均勻照明光束 起勻光和聚焦作用的勻光聚焦物鏡系統(tǒng)30,將照明光束禪合入多模光纖中的光纖禪合物鏡 40,傳輸和降低照明光束相干性的多模光纖50,將多模光纖出射的光束成像到照明掩模板 上去的成像物鏡60,產(chǎn)生高質(zhì)量非相干球面波的照明掩模板70,將發(fā)散波前轉(zhuǎn)換成平面波 前的準(zhǔn)直物鏡80和用于探測(cè)波前像差信息的夏克-哈特曼波前傳感器90組成。
[0058] 其中，準(zhǔn)分子激光器10、擴(kuò)束棱鏡20、勻光聚焦物鏡系統(tǒng)30和光纖禪合物鏡40依 次設(shè)置于多模光纖50的一端，從準(zhǔn)分子激光器10輸出的狹長(zhǎng)的矩形光斑經(jīng)過(guò)擴(kuò)束棱鏡20 擴(kuò)束后得到方形光斑，方形光斑經(jīng)過(guò)勻光聚焦物鏡系統(tǒng)30和光纖禪合物鏡40后被禪合入 多模光纖50中。在多模光纖50的另一端依次設(shè)置成像物鏡60、照明掩模板70、準(zhǔn)直物鏡 80和夏克-哈特曼波前傳感器90,由多模光纖50出射的發(fā)散球面波經(jīng)過(guò)成像物鏡60后成 像到照明掩模板70上產(chǎn)生多個(gè)球面波，該些球面波經(jīng)過(guò)待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)100后攜帶其波 像差信息，再經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直物鏡80后成為攜帶波像差信息的平面波，平面波被夏克-哈特曼波 前傳感器90的微透鏡陣列分成多個(gè)子光束，該些子光束聚焦到夏克-哈特曼波前傳感器90 的探測(cè)器上，從而測(cè)得待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)100的波像差信息。
[0059] 如圖1所示，本發(fā)明的擴(kuò)束棱鏡20包括；第一擴(kuò)束棱鏡21、第二擴(kuò)束棱鏡22和 第H擴(kuò)束棱鏡23。其中，第一擴(kuò)束棱鏡21、第二擴(kuò)束棱鏡22和第H擴(kuò)束棱鏡23是大小不 同，材料相同，且H個(gè)頂角的角度大小分別對(duì)應(yīng)一致的直角棱鏡，每個(gè)直角棱鏡的放大倍率 X滿足W下關(guān)系：
[0060] 義二- ?0
[0061] 式中n為棱鏡的折射率，n。為棱鏡所處介質(zhì)的折射率。從準(zhǔn)分子激光器10輸出的 狹長(zhǎng)的矩形光斑依次經(jīng)過(guò)第一擴(kuò)束棱鏡21、第二擴(kuò)束棱鏡22和第H擴(kuò)束棱鏡23擴(kuò)束后得 到方形光斑。
[0062] 其中，第一擴(kuò)束棱鏡21的第一斜面朝向準(zhǔn)分子激光器10,第一擴(kuò)束棱鏡21的第一 直角面朝向第二擴(kuò)束棱鏡22的第二斜面，第二擴(kuò)束棱鏡22與前述第一直角面對(duì)應(yīng)的第二 直角面朝向第H擴(kuò)束棱鏡23的第H斜面，第H擴(kuò)束棱鏡23與前述第一直角面及第二直角 面對(duì)應(yīng)的第H直角面朝向勻光聚焦物鏡系統(tǒng)30。其中第一直角面與第二斜面之間，及第二 直角面與第H斜面之間的夾角均為銳角，使從準(zhǔn)分子激光器10發(fā)出的狹長(zhǎng)的矩形光束依 次從前述第一斜面、第二斜面和第H斜面傾斜入射，并依次從前述第一直角面、第二直角面 和第H直角面垂直出射。
[0063] 本發(fā)明擴(kuò)束后的方形光斑經(jīng)過(guò)勻光聚焦物鏡系統(tǒng)30后能量成為平頂?shù)木鶆蚍植?并聚焦到光纖禪合物鏡40,經(jīng)過(guò)光纖禪合物鏡40后被禪合入多模光纖50中。
[0064] 本發(fā)明的多模光纖50的長(zhǎng)度應(yīng)使通過(guò)多模光纖50后的光束所產(chǎn)生的模式色散的 大小大于光束自身的相干長(zhǎng)度。
[0065] 本發(fā)明的照明掩模板70位于待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)100的像面上，準(zhǔn)直物鏡80的前 焦點(diǎn)位于待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)100的物面與光軸的交點(diǎn)處，該樣由待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)100出 射的光束具有小的數(shù)值孔徑NA。，其大小為NA。=NAi/M，其中M和NAi分別為待測(cè)投影物鏡 系統(tǒng)100的放大倍率和像方數(shù)值孔徑。
[0066] 本發(fā)明在成像物鏡60與照明掩模板70之間還設(shè)有用于擴(kuò)大照明光束發(fā)散角和增 加照明光束均勻性的漫射體67,由成像物鏡60出射的光束經(jīng)過(guò)漫射體67后發(fā)散角增大，并 更加均勻地照射到照明掩模板70上。
[0067] 本發(fā)明在照明掩模板70上設(shè)有多個(gè)圓形微孔73,球面波經(jīng)過(guò)該些圓形微孔73衍 射產(chǎn)生多個(gè)接近于理想的非相干球面波。
[006引請(qǐng)參閱圖2及圖3所示，圖2是本發(fā)明的微孔陣列規(guī)則排布的照明掩模板的側(cè)視 示意圖。圖3是本發(fā)明的微孔陣列規(guī)則排布的照明掩模板的俯視示意圖。在本發(fā)明的一實(shí) 施例中，本發(fā)明的照明掩模板70上的多個(gè)圓形微孔73是按照六角方式排列于微孔陣列區(qū) 域75,照明掩模板70包括；基底71、金屬薄膜72及增透膜74。其中，基底71的材料為烙 融石英，在基底71的兩個(gè)相對(duì)的表面上分別鍛有金屬薄膜72和增透膜74,金屬薄膜72的 光學(xué)密度（0D)值大于6,圓形微孔73是通過(guò)聚焦離子束（FIB)的方式在金屬薄膜72上刻 蝕形成。各圓形微孔73的直徑大小d滿足W下式子：
[0069] (/<1.22^^
[0070] 式中A為照明光波波長(zhǎng)，NAi為待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)100像方的數(shù)值孔徑。相鄰兩 個(gè)圓形微孔73之間的間距S根據(jù)照明相干因子為零的條件，由W下式子確定：
[0071] S二1.22-Z, h
[0072] 式中A為照明光波波長(zhǎng)，b為照射照明掩模板70的光源的直徑，L為漫射體67到 照明掩模板70的距離。微孔陣列區(qū)域75的半徑R由W下式子確定：
[0073] R<-j a
[0074] 式中A為照明光波波長(zhǎng)，a為夏克-哈特曼波前傳感器90中微透鏡陣列的周期， f為準(zhǔn)直物鏡80的焦距。
[0075] 請(qǐng)參閱圖4及圖5所示，圖4是本發(fā)明的微孔陣列隨機(jī)排布的照明掩模板的側(cè)視 示意圖。圖5是本發(fā)明的微孔陣列隨機(jī)排布的照明掩模板的俯視示意圖。在本發(fā)明的另一 實(shí)施例中，本發(fā)明照明掩模板70上的多個(gè)圓形微孔73是隨機(jī)排列于微孔陣列區(qū)域75,照明 掩模板70包括；基底71、金屬薄膜72及增透膜74。其中，基底71的材料為烙融石英，在基 底71的兩個(gè)相對(duì)的表面上分別鍛有金屬薄膜72和增透膜74,金屬薄膜72的光學(xué)密度（0D) 值大于6,圓形微孔73是通過(guò)聚焦離子束（FIB)的方式在金屬薄膜72上刻蝕形成。各圓形 微孔73的直徑大小d滿足W下式子：
[0076] (/<1.22苗-
[0077] 式中A為照明光波波長(zhǎng)，NAi為待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)100像方的數(shù)值孔徑。微孔陣 列區(qū)域75的半徑R由W下式子確定： 乂
[0078] 民<_f 巧
[0079] 式中A為照明光波波長(zhǎng)，a為夏克-哈特曼波前傳感器90中微透鏡陣列的周期， f為準(zhǔn)直物鏡80的焦距。
[0080] 本發(fā)明，一方面，通過(guò)在待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)100的像面上設(shè)置（按六角方式排列或 隨機(jī)方式排列）微孔陣列，衍射產(chǎn)生數(shù)值孔徑NA為0. 75的非相干球面波，提高了能量透過(guò) 率和能量分布的均勻性。另一方面，通過(guò)將準(zhǔn)直物鏡80設(shè)置于待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)100的物 方，使其數(shù)值孔徑NA只有0. 1875,從而改善了準(zhǔn)直物鏡80體積鹿大、價(jià)格昂貴及波像差難 于精確地標(biāo)定的問題。其中，微孔陣列采用六角方式排列，可W使得圓形微孔73的排列更 加緊湊，能量透過(guò)率更高。而微孔陣列采用隨機(jī)方式排列，可W進(jìn)一步改善微孔衍射波前的 能量均勻性和進(jìn)一步減小衍射波前的相干性。
[0081] 本發(fā)明利用上述裝置測(cè)量光刻機(jī)投影物鏡系統(tǒng)波像差的方法主要包括W下步 驟：
[0082]1)、調(diào)整第一擴(kuò)束棱鏡21、第二擴(kuò)束棱鏡22和第H擴(kuò)束棱鏡23,使從準(zhǔn)分子激光 器10發(fā)出的狹長(zhǎng)的矩形光束依次從第一擴(kuò)束棱鏡21、第二擴(kuò)束棱鏡22和第H擴(kuò)束棱鏡23 的斜面傾斜入射，并依次從第一擴(kuò)束棱鏡21、第二擴(kuò)束棱鏡22和第H擴(kuò)束棱鏡23的直角面 垂直出射，通過(guò)選擇各擴(kuò)束棱鏡的折射率，使從第H擴(kuò)束棱鏡23出射的光束具有方形的能 量分布，得到方形光斑。
[0083]2)、通過(guò)勻光聚焦物鏡系統(tǒng)30使擴(kuò)束后的方形光斑的能量成為平頂?shù)木鶆蚍植?并聚焦到光纖禪合物鏡40,通過(guò)調(diào)節(jié)光纖禪合物鏡40將其禪合入多模光纖50中。
[0084]3)、選擇恰當(dāng)?shù)亩嗄９饫w50的長(zhǎng)度，使光束經(jīng)過(guò)多模光纖50后所產(chǎn)生的模式色散 的大小大于光束自身的相干長(zhǎng)度。
[0085]4)、通過(guò)成像物鏡60將由多模光纖50出射的發(fā)散球面波成像到照明掩模板70 上，在成像物鏡60和照明掩模板70之間加入漫射體67,使由成像物鏡60出射的光束的發(fā) 散角增大，并更加均勻地照射到照明掩模板70上。
[0086]5)、調(diào)節(jié)照明掩模板70,使其位于待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)100的像面上，從而使球面波 經(jīng)過(guò)照明掩模板70后衍射產(chǎn)生多個(gè)接近于理想的非相干球面波，該些球面波經(jīng)過(guò)待測(cè)投 影物鏡系統(tǒng)100后攜帶其波像差信息；調(diào)節(jié)準(zhǔn)直物鏡80,使其前焦點(diǎn)位于待測(cè)投影物鏡系 統(tǒng)100的物面與光軸的交點(diǎn)處，從而使該些攜帶波像差信息的球面波經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直物鏡80后成 為攜帶波像差信息的平面波。
[0087] 6)、通過(guò)夏克-哈特曼波前傳感器90記錄平面波攜帶的波前信息，積分得到測(cè)量 結(jié)果Wt。
[008引 7)、將測(cè)量結(jié)果Wt減去準(zhǔn)直物鏡80和夏克-哈特曼波前傳感器90所引入的系統(tǒng) 誤差Ws，得到待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)100的波像差信息W=Wt-Ws。
[0089]W上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制，雖 然本發(fā)明已W較佳實(shí)施例掲露如上，然而并非用W限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人 員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述掲示的方法及技術(shù)內(nèi)容作出些許的更 動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的 技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)W上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案 的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其特征在于，該裝置包括：準(zhǔn)分子激光器 (10)、擴(kuò)束棱鏡（20)、勻光聚焦物鏡系統(tǒng)（30)、光纖耦合物鏡（40)、多模光纖（50)、成像物 鏡（60)、照明掩模板（70)、準(zhǔn)直物鏡（80)以及夏克-哈特曼波前傳感器（90); 其中，所述準(zhǔn)分子激光器（10)、所述擴(kuò)束棱鏡（20)、所述勻光聚焦物鏡系統(tǒng)（30)及所 述光纖耦合物鏡（40)依次設(shè)置于所述多模光纖（50)的一端，從所述準(zhǔn)分子激光器（10)輸 出的狹長(zhǎng)的矩形光斑經(jīng)過(guò)所述擴(kuò)束棱鏡（20)擴(kuò)束后得到方形光斑，所述方形光斑經(jīng)過(guò)所 述勻光聚焦物鏡系統(tǒng)（30)和所述光纖稱合物鏡（40)后被稱合入所述多模光纖（50)中； 在所述多模光纖（50)的另一端依次設(shè)置所述成像物鏡￠0)、所述照明掩模板（70)、所 述準(zhǔn)直物鏡（80)及所述夏克-哈特曼波前傳感器（90)，由所述多模光纖（50)出射的發(fā)散 球面波經(jīng)過(guò)所述成像物鏡￠0)后成像到所述照明掩模板（70)上產(chǎn)生多個(gè)球面波，這些球 面波經(jīng)過(guò)待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)（100)后攜帶其波像差信息，再經(jīng)過(guò)所述準(zhǔn)直物鏡（80)后成為 攜帶波像差信息的平面波，所述平面波被所述夏克-哈特曼波前傳感器（90)的微透鏡陣列 分成多個(gè)子光束，這些子光束聚焦到所述夏克-哈特曼波前傳感器（90)的探測(cè)器上，測(cè)得 所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)（100)的波像差信息。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其特征在于其中所述擴(kuò) 束棱鏡（20)包括：第一擴(kuò)束棱鏡（21)、第二擴(kuò)束棱鏡（22)和第三擴(kuò)束棱鏡（23);所述第一 擴(kuò)束棱鏡（21)、所述第二擴(kuò)束棱鏡（22)和所述第三擴(kuò)束棱鏡（23)是大小不同，材料相同， 且三個(gè)頂角的角度大小分別對(duì)應(yīng)一致的直角棱鏡；其中每個(gè)直角棱鏡的放大倍率X滿足以 下關(guān)系：
式中η為棱鏡的折射率，％為棱鏡所處介質(zhì)的折射率；從所述準(zhǔn)分子激光器（10)輸出 的狹長(zhǎng)的矩形光斑是依次經(jīng)過(guò)所述第一擴(kuò)束棱鏡（21)、所述第二擴(kuò)束棱鏡（22)和所述第 三擴(kuò)束棱鏡（23)擴(kuò)束后得到所述方形光斑； 其中，所述第一擴(kuò)束棱鏡（21)的第一斜面朝向所述準(zhǔn)分子激光器（10)，所述第一擴(kuò)束 棱鏡（21)的第一直角面朝向所述第二擴(kuò)束棱鏡（22)的第二斜面，所述第二擴(kuò)束棱鏡（22) 與所述第一直角面對(duì)應(yīng)的第二直角面朝向所述第三擴(kuò)束棱鏡（23)的第三斜面，所述第三 擴(kuò)束棱鏡（23)與所述第一直角面及所述第二直角面對(duì)應(yīng)的第三直角面朝向所述勻光聚焦 物鏡系統(tǒng)（30)，其中所述第一直角面與所述第二斜面之間，及所述第二直角面與所述第三 斜面之間的夾角均為銳角，使從所述準(zhǔn)分子激光器（10)發(fā)出的狹長(zhǎng)的矩形光束依次從所 述第一斜面、所述第二斜面和所述第三斜面傾斜入射，并依次從所述第一直角面、所述第二 直角面和所述第三直角面垂直出射。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其特征在于其中擴(kuò)束后 的所述方形光斑經(jīng)過(guò)所述勻光聚焦物鏡系統(tǒng)（30)后能量成為平頂?shù)木鶆蚍植疾⒕劢沟剿?述光纖耦合物鏡（40)，經(jīng)過(guò)所述光纖耦合物鏡（40)后被耦合入所述多模光纖（50)中。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其特征在于其中所述多 模光纖（50)的長(zhǎng)度是使通過(guò)所述多模光纖（50)后的光束所產(chǎn)生的模式色散的大小大于所 述光束自身的相干長(zhǎng)度。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其特征在于其中所述 照明掩模板（70)位于所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)（100)的像面上，所述準(zhǔn)直物鏡（80)的前焦 點(diǎn)位于所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)（100)的物面與光軸的交點(diǎn)處，使由所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng) (100)出射的光束具有小的數(shù)值孔徑NA。，其大小為NA。= NAiZU其中M和NAi分別為所述 待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)（100)的放大倍率和像方數(shù)值孔徑。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其特征在于其中在所述 成像物鏡（60)與所述照明掩模板（70)之間還設(shè)有漫射體（67)，由所述成像物鏡（60)出射 的光束經(jīng)過(guò)所述漫射體￠7)后發(fā)散角增大，并更加均勻地照射到所述照明掩模板（7)上。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其特征在于其中在所述 照明掩模板（70)上設(shè)有多個(gè)圓形微孔（73)，球面波經(jīng)過(guò)這些圓形微孔（73)衍射產(chǎn)生多個(gè) 接近于理想的非相干球面波。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其特征在于其中所述照 明掩模板（70)上的多個(gè)所述圓形微孔（73)是按照六角方式排列于微孔陣列區(qū)域（75);所 述照明掩模板（70)包括：基底（71)、金屬薄膜（72)及增透膜（74)，所述基底（71)的材料 為熔融石英，在所述基底（71)的兩個(gè)相對(duì)的表面上分別鍍有所述金屬薄膜（72)和所述增 透膜（74)，所述金屬薄膜（72)的光學(xué)密度值大于6,所述圓形微孔（73)是通過(guò)聚焦離子束 的方式在所述金屬薄膜（72)上刻蝕形成； 其中，所述圓形微孔（73)的直徑大小d滿足以下式子：
式中λ為照明光波波長(zhǎng)，NAi為所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)（100)像方的數(shù)值孔徑； 相鄰兩個(gè)所述圓形微孔（73)之間的間距S根據(jù)照明相干因子為零的條件，由以下式子 確定：
式中λ為照明光波波長(zhǎng)，b為照射所述照明掩模板（70)的光源的直徑，L為所述漫射 體（67)到所述照明掩模板（70)的距離； 所述微孔陣列區(qū)域（75)的半徑R由以下式子確定：
式中λ為照明光波波長(zhǎng)，a為所述夏克-哈特曼波前傳感器（90)中所述微透鏡陣列 的周期，f為所述準(zhǔn)直物鏡（80)的焦距。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量裝置，其特征在于其中所述照 明掩模板（70)上的多個(gè)所述圓形微孔（73)是隨機(jī)排列于微孔陣列區(qū)域（75);所述照明掩 模板（70)包括：基底（71)、金屬薄膜（72)及增透膜（74)，所述基底（71)的材料為熔融石 英，在所述基底（71)的兩個(gè)相對(duì)的表面上分別鍍有所述金屬薄膜（72)和所述增透膜（74)， 所述金屬薄膜（72)的光學(xué)密度值大于6,所述圓形微孔（73)是通過(guò)聚焦離子束的方式在所 述金屬薄膜（72)上刻蝕形成； 其中，所述圓形微孔（73)的直徑大小d滿足以下式子：
式中λ為照明光波波長(zhǎng)，NAi為所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)（100)像方的數(shù)值孔徑； 所述微孔陣列區(qū)域（75)的半徑R由以下式子確定：
式中λ為照明光波波長(zhǎng)，a為所述夏克-哈特曼波前傳感器（90)中所述微透鏡陣列 的周期，f為所述準(zhǔn)直物鏡（80)的焦距。
10. -種光刻投影物鏡系統(tǒng)波像差測(cè)量方法，其特征在于，該方法包括以下步驟： 1) 、調(diào)整第一擴(kuò)束棱鏡（21)、第二擴(kuò)束棱鏡（22)和第三擴(kuò)束棱鏡（23)，使從準(zhǔn)分子激 光器（10)發(fā)出的狹長(zhǎng)的矩形光束依次從所述第一擴(kuò)束棱鏡（21)、所述第二擴(kuò)束棱鏡（22) 和所述第三擴(kuò)束棱鏡（23)的斜面傾斜入射，并依次從所述第一擴(kuò)束棱鏡（21)、所述第二擴(kuò) 束棱鏡（22)和所述第三擴(kuò)束棱鏡（23)的直角面垂直出射，通過(guò)選擇各擴(kuò)束棱鏡的折射率， 使從所述第三擴(kuò)束棱鏡（23)出射的光束具有方形的能量分布，得到方形光斑； 2) 、通過(guò)勻光聚焦物鏡系統(tǒng)（30)使擴(kuò)束后的所述方形光斑的能量成為平頂?shù)木鶆蚍?布并聚焦到光纖耦合物鏡（40)，通過(guò)調(diào)節(jié)所述光纖耦合物鏡（40)將其耦合入多模光纖 (50)中； 3) 、選擇恰當(dāng)?shù)乃龆嗄９饫w（50)的長(zhǎng)度，使光束經(jīng)過(guò)所述多模光纖（50)后所產(chǎn)生的 模式色散的大小大于所述光束自身的相干長(zhǎng)度； 4) 、通過(guò)成像物鏡￠0)將由所述多模光纖（50)出射的發(fā)散球面波成像到照明掩模板 (70)上，在所述成像物鏡￠0)和所述照明掩模板（70)之間加入漫射體￠7)，使由所述成 像物鏡（60)出射的光束的發(fā)散角增大，并更加均勻地照射到所述照明掩模板（70)上； 5) 、調(diào)節(jié)所述照明掩模板（70)，使其位于待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)（100)的像面上，從而使球 面波經(jīng)過(guò)所述照明掩模板（70)后衍射產(chǎn)生多個(gè)接近于理想的非相干球面波，這些球面波 經(jīng)過(guò)所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)（100)后攜帶其波像差信息；調(diào)節(jié)準(zhǔn)直物鏡（80)，使其前焦點(diǎn) 位于所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)（100)的物面與光軸的交點(diǎn)處，從而使這些攜帶波像差信息的 所述球面波經(jīng)過(guò)所述準(zhǔn)直物鏡（80)后成為攜帶波像差信息的平面波； 6) 、通過(guò)夏克-哈特曼波前傳感器（90)記錄所述平面波的波前信息，積分得到測(cè)量結(jié) 果WT。 7) 、將所述測(cè)量結(jié)果Wt減去所述準(zhǔn)直物鏡（80)和所述夏克-哈特曼波前傳感器（90) 所引入的系統(tǒng)誤差W s，得到所述待測(cè)投影物鏡系統(tǒng)（100)的波像差信息W = WT-WS。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK104375385SQ201410185411
【公開日】2015年2月25日 申請(qǐng)日期:2014年5月4日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月4日
【發(fā)明者】盧增雄, 齊月靜, 蘇佳妮, 丁功明, 周翊, 王宇 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院光電研究院