膜掩模校正裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供膜掩模校正裝置，其能夠部分地對(duì)膜掩模進(jìn)行校正。膜掩模校正裝置(A)具有箱主體(1)，該箱主體(1)構(gòu)成箱形狀，一面為開放的開口(10)，將該開口(10)側(cè)覆蓋到膜掩模(5)上而與膜掩模(5)之間形成密封空間(15)，利用吸引裝置(2)吸引密封空間(15)而使其成為負(fù)壓。使軸(31)上下移動(dòng)、旋轉(zhuǎn)、傾斜，使摩擦球(30)對(duì)膜掩模(5)進(jìn)行摩擦動(dòng)作，進(jìn)行膜掩模(5)的校正。
【專利說明】
膜掩模校正裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對(duì)在進(jìn)行印刷布線基板等的曝光處理的曝光裝置中使用的膜掩模的變形進(jìn)行校正的膜掩模校正裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]光刻法在各種領(lǐng)域中得到了廣泛的應(yīng)用，近年來印刷布線基板也使用曝光裝置來制造，該光刻法如下:在涂敷有光致抗蝕劑等感光材料的基板表面上利用曝光裝置來感光燒蝕出規(guī)定的圖案，之后經(jīng)過蝕刻工序在基板上形成圖案。在該印刷布線基板的曝光裝置中，作為描繪有圖案原畫的底版大多使用樹脂膜掩模。
[0003]另一方面，在以智能手機(jī)為代表的數(shù)字終端等中，對(duì)小型輕量化和高功能高性能化的要求變高，伴隨與此，安裝電子部件的印刷布線板也要發(fā)展多層化、薄板化，發(fā)展布線的高密度高精度化。
[0004]因此，即使在使用了膜掩模的接觸式曝光裝置中，也需要現(xiàn)有以上的對(duì)位精度。
[0005]但是，出現(xiàn)了很多如下問題:膜掩模制作時(shí)的描繪偏差、膜掩模本身的伸縮、膜掩模安裝時(shí)的變形、由反復(fù)接觸曝光而引起的伸縮和變形或者基板本身的伸縮和變形等復(fù)合地重疊，電路圖案的一部分與基板的下層電路圖案不匹配，無法應(yīng)對(duì)高對(duì)位精度的要求。
[0006]為了解決這樣的問題，如專利文獻(xiàn)1、2所示已提出并使用有如下的印刷布線基板用的曝光裝置:通過拉長膜掩模外周部而使整個(gè)膜掩模彈性變形后進(jìn)行對(duì)位，并且在該狀態(tài)下進(jìn)行曝光。但是，這樣的印刷布線基板用的曝光裝置需要設(shè)計(jì)新的曝光裝置或者對(duì)現(xiàn)有的曝光裝置進(jìn)行大幅改良。另外，因?yàn)槭鞘拐麄€(gè)膜掩模變形的結(jié)構(gòu)，因此存在無法完全對(duì)應(yīng)膜掩模的一部分變形的問題。
[0007]目前的現(xiàn)狀是:對(duì)于使用了現(xiàn)有膜掩模的接觸式曝光裝置的要求依然很高，另外希望繼續(xù)使用現(xiàn)有曝光裝置這樣的要求也很高。
[0008]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0009]專利文獻(xiàn)1:日本特許第3345178號(hào)
[0010]專利文獻(xiàn)2:日本特許第3402681號(hào)
[0011]目前的現(xiàn)狀是:為了使用現(xiàn)有曝光裝置來實(shí)現(xiàn)高精度的對(duì)位，在實(shí)際的生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)中，作業(yè)人員利用照相機(jī)的監(jiān)視圖像來存儲(chǔ)基板與膜掩模的對(duì)位狀態(tài)，并拉出膜掩模夾具，進(jìn)行利用具有某程度的彈力和摩擦力的物質(zhì)(樹脂等)來摩擦存在偏差的部分等動(dòng)作，對(duì)膜掩模的一部分變形進(jìn)行校正并修正。
[0012]但是，膜掩模由于與膜掩模夾具之間的真空緊貼而在施加大氣壓的狀態(tài)下膜掩模與膜掩模夾具堅(jiān)固地緊貼。即使在從曝光裝置拉出來膜掩模夾具的狀態(tài)下，也由于使膜掩模真空緊貼在膜掩模夾具，因此為了使膜掩模從該狀態(tài)下彈性變形而移動(dòng)，作業(yè)人員必須施力并進(jìn)行反復(fù)摩擦的作業(yè)，成為較大的負(fù)擔(dān)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0013]本發(fā)明的目的是解決這樣的現(xiàn)有問題，其目的在于，提供能夠容易地對(duì)膜掩模的電路圖案與基板的電路圖案之間的部分偏差進(jìn)行校正并修正的膜掩模校正裝置。
[0014]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的膜掩模校正裝置的特征在于，具有:空間形成體，其被安裝到在膜掩模夾具上安裝的膜掩模上，在與膜掩模之間形成密封空間；吸引裝置，其使該空間形成體的密封空間成為負(fù)壓狀態(tài)；以及加壓裝置，其在上述空間形成體內(nèi)使上述膜掩模變形。
[0015]上述吸引裝置優(yōu)選構(gòu)成為能夠保持和解除上述密封空間的負(fù)壓狀態(tài)。另外，上述加壓裝置優(yōu)選具有在任意方向上按壓且摩擦膜掩模的機(jī)構(gòu)。上述加壓裝置還能夠具有:軸，其從上述空間形成體的外部貫通到內(nèi)部；軸承，其以能夠使該軸上下移動(dòng)且在360°方向上傾斜的方式保持該軸；以及摩擦部，其設(shè)置在上述軸在空間形成體內(nèi)部的前端，用于對(duì)膜掩模進(jìn)行摩擦。
[0016]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)的膜掩模校正裝置，能夠利用吸引裝置使空間形成體的內(nèi)部的密封空間成為負(fù)壓狀態(tài)，因此能夠使膜掩模浮起來或者減弱與掩模夾具之間的吸附力。并且在該狀態(tài)下利用加壓裝置使膜掩模變形，因此能夠容易地對(duì)膜掩模的部分變形進(jìn)行校正并修正。其結(jié)果，具有如下效果:減少摩擦的次數(shù)，減輕作業(yè)人員的負(fù)擔(dān)，抑制膜掩模的損傷，而且減少由于摩擦引起的揚(yáng)塵等。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1是示出本發(fā)明的一實(shí)施方式的概略圖。
[0018]圖2是示出本發(fā)明的一實(shí)施方式的動(dòng)作的說明圖。
[0019]圖3是示出本發(fā)明的一實(shí)施方式的動(dòng)作的說明圖。
[0020]圖4是示出本發(fā)明的一實(shí)施方式的動(dòng)作的說明圖。
[0021]圖5是使用了本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光工序的說明圖。
[0022]圖6是使用了本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光工序的說明圖。
[0023]圖7是使用了本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光工序的說明圖。
[0024]圖8是使用了本發(fā)明的一實(shí)施方式的曝光工序的說明圖。
[0025]標(biāo)號(hào)說明
[0026]1:箱主體，2:吸引裝置，3:加壓裝置，5:膜掩模，6:膜掩模夾具，7:照相機(jī)，8:基板，9:臺(tái)板，10:開口，11:端部，12:上表面，15:密封空間，20:吸引泵，21:手動(dòng)閥，30:摩擦球，31:軸，32:球面軸承，33:把手，34:壓縮盤簧，35:密封蓋，50:掩模標(biāo)記，51:掩模電路圖案，60:玻璃板，61:夾具框架，62:吸附裝置，63:玻璃固定器，80:基板標(biāo)記，81:基板電路圖案，90:ΧΥΘ載物臺(tái)，91:Ζ軸。

【具體實(shí)施方式】
[0027]以下，根據(jù)附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。
[0028]圖1概略地示出膜掩模校正裝置Α。膜掩模校正裝置A具有箱主體1，該箱主體I構(gòu)成為箱形狀，具有一面被開放的開口 10,構(gòu)成為使該開口 10側(cè)覆蓋到膜掩模5的上表面而在與膜掩模5之間形成密封空間15。將開口 10周圍的端部11的平面度加工得高，成為如下結(jié)構(gòu):利用密封空間15的減壓而使膜掩模5與周圍端部11緊貼，從而防止真空泄露。也可以使端部11具有一些密封性。
[0029]此外，箱主體I可以是能夠確認(rèn)校正部的透明體，優(yōu)選至少一部分是透明的結(jié)構(gòu)。
[0030]在箱主體I上設(shè)置有吸引裝置2，構(gòu)成為利用吸引裝置2的吸引泵20來對(duì)密封空間15進(jìn)行吸引而使其成為負(fù)壓。在吸引泵20與密封空間15之間設(shè)置有手動(dòng)閥21，作業(yè)人員可操作手動(dòng)閥21來進(jìn)行吸引泵20的打開關(guān)閉、密封空間15的負(fù)壓狀態(tài)的保持、密封空間15的負(fù)壓狀態(tài)的解除。
[0031]在與箱主體I的開口 10相對(duì)的上表面12上設(shè)置有加壓裝置3。加壓裝置3具備樹脂制的摩擦球30和支撐該摩擦球30的軸31。摩擦球30位于密封空間15內(nèi)部，軸31在上表面12中從箱主體I外部貫通到密封空間15內(nèi)部。軸31經(jīng)由球面軸承32貫通，軸31可上下移動(dòng)、可旋轉(zhuǎn)且從上表面12側(cè)觀察時(shí)能夠在360度方向上傾斜。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，摩擦球30能夠以任意的壓力與膜掩模5接觸，且能夠向任意的方向移動(dòng)，其結(jié)果能夠在任意的方向上對(duì)膜掩模5進(jìn)行摩擦。
[0032]在軸31的上端部設(shè)置有把手33，操作人員利用把手33使軸31上下移動(dòng)、旋轉(zhuǎn)、傾斜，使摩擦球30對(duì)膜掩模5進(jìn)行摩擦動(dòng)作。
[0033]在軸31上設(shè)置有壓縮盤簧34，向上方向?qū)S31施力。
[0034]摩擦球30是具有某程度的彈力和摩擦力的物質(zhì)，是能夠在校正偏差的方向上摩擦膜掩模并校正位置偏差的材質(zhì)。膜掩模5的材質(zhì)主要是聚酯制的，當(dāng)摩擦球30是金屬等硬物體時(shí)會(huì)損傷膜掩模。相反當(dāng)摩擦球30過軟時(shí)，摩擦的物質(zhì)只會(huì)較大地彈性變形而不能對(duì)膜掩模5施加充分的按壓力，所以很難獲得用于摩擦膜掩模而使其彈性變形的摩擦力。因此，對(duì)膜掩模進(jìn)行摩擦的材質(zhì)優(yōu)選為聚氨酯等的樹脂。
[0035]軸31的從箱主體I向外部突出的部分和球面軸承32被密封蓋35所覆蓋，維持密封空間15的密封性。
[0036]接著，對(duì)上述實(shí)施方式的膜掩模校正裝置A的使用方法進(jìn)行說明。
[0037]圖5示出曝光裝置的一般結(jié)構(gòu)。
[0038]在臺(tái)板(Platen) 9上真空吸附印刷布線基板等基板8,該臺(tái)板9可通過XY Θ載物臺(tái)(stage) 90在XY Θ方向上移動(dòng)，并且可通過Z軸91在上下方向上移動(dòng)。
[0039]在設(shè)置于臺(tái)板9上方的膜掩模夾具6中，安裝有通過吸附裝置62而吸附到夾具框架61的玻璃板60上的膜掩模5,該膜掩模5在夾具框架61的下側(cè)以與基板8相對(duì)的方式設(shè)置。
[0040]玻璃固定器63用于固定玻璃板60。
[0041 ] 在曝光時(shí)，如圖5的(B)所示，首先利用照相機(jī)7進(jìn)行掩模標(biāo)記50與基板標(biāo)記80的對(duì)位，接著如圖6所示利用Z軸91使臺(tái)板9上升，使膜掩模5與基板8緊貼，通過吸引裝置(未圖示)進(jìn)行真空緊貼。然后，如圖7所示利用照相機(jī)7來確認(rèn)膜掩模5的掩模電路圖案51與基板電路圖案81的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)。如圖7的⑶所示在掩模電路圖案51與基板電路圖案81偏離的情況下，判斷為需要膜掩模5的校正。
[0042]然后，如圖8所示，從曝光裝置拉出膜掩模夾具6并使其翻轉(zhuǎn)，使膜掩模5位于上側(cè)，在此狀態(tài)下，在膜掩模5上安裝膜掩模校正裝置A。
[0043]S卩，如圖2所示，在想要校正膜掩模5的位置偏差的位置上安裝膜掩模校正裝置A，在與膜掩模5的上表面之間形成密封空間15。然后，打開手動(dòng)閥21進(jìn)行箱主體I內(nèi)的密封空間15的減壓。使密封空間15成為負(fù)壓狀態(tài)，從而能夠使膜掩模5稍微浮起?；蛘?，減弱由與玻璃板60之間的真空緊貼而產(chǎn)生的吸附力，從而能夠成為使膜掩模容易移動(dòng)的狀態(tài)。
[0044]在此狀態(tài)下，如圖3所示，操作人員按壓把手33，向膜掩模5按壓摩擦球30，利用把手33使軸31傾斜，向任意的方向摩擦膜掩模5，使膜掩模5進(jìn)行彈性變形。此時(shí)，操作人員如圖3的⑶所示，為了消除事先確認(rèn)的掩模電路圖案51與基板電路圖案81的偏差，對(duì)膜掩模5進(jìn)行摩擦而使其彈性變形。
[0045]然后，在利用摩擦球30摩擦膜掩模5的狀態(tài)(用手按壓把手33的狀態(tài))下關(guān)閉手動(dòng)閥21，從手動(dòng)閥21去掉壓力，只要使箱主體I的負(fù)壓狀態(tài)解除(釋放大氣)，則膜掩模5就與玻璃板60再次真空緊貼，膜掩模5在彈性變形而被校正的位置上與玻璃板60緊貼。即，保持基于位置偏差校正的膜掩模的彈性變形的狀態(tài)。
[0046]然后如圖4所示當(dāng)操作人員放開把手33時(shí)，摩擦球30和軸31通過壓縮盤簧34的彈簧力而返回到上方。
[0047]接著，從膜掩模5中分離膜掩模校正裝置A，將膜掩模夾具6再次插入到曝光裝置，并且如圖7所示使膜掩模5與基板8緊貼，利用照相機(jī)7再次確認(rèn)膜掩模5的掩模電路圖案51與基板電路圖案81的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)，確認(rèn)描繪在膜掩模5上的電路圖案51是否移動(dòng)到所意圖的位置上并完成校正。
[0048]當(dāng)完成校正時(shí)，轉(zhuǎn)移至曝光工序。當(dāng)沒有完成時(shí)，再次摘下膜掩模夾具6，進(jìn)行膜掩模校正裝置A的再校正作業(yè)。
【權(quán)利要求】
1.一種膜掩模校正裝置，其特征在于，具有: 空間形成體，其被安裝到在膜掩模夾具上安裝的膜掩模上，在與膜掩模之間形成密封空間； 吸引裝置，其使該空間形成體的密封空間成為負(fù)壓狀態(tài)；以及 加壓裝置，其在所述空間形成體內(nèi)使所述膜掩模變形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜掩模校正裝置，其特征在于， 所述吸引裝置能夠保持和解除所述密封空間的負(fù)壓狀態(tài)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜掩模校正裝置，其特征在于， 所述加壓裝置具有在任意方向上按壓且摩擦膜掩模的機(jī)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜掩模校正裝置，其特征在于， 所述加壓裝置具有: 軸，其從所述空間形成體的外部貫通到內(nèi)部； 軸承，其以能夠使該軸上下移動(dòng)且傾斜的方式保持該軸；以及 摩擦部，其設(shè)置在所述軸在空間形成體內(nèi)部的前端，用于對(duì)膜掩模進(jìn)行摩擦。
【文檔編號(hào)】G03F1/42GK104281001SQ201410317606
【公開日】2015年1月14日 申請(qǐng)日期:2014年7月4日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月8日
【發(fā)明者】今井洋之, 橫矢博士, 星野哲矢 申請(qǐng)人:株式會(huì)社 阿迪泰克工程