彩膜基板及其制作方法、顯示面板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種彩膜基板及其制作方法、顯示面板，涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】。所述彩膜基板包括顯示像素區(qū)和位于所述顯示像素區(qū)外圍的空置像素區(qū)，所述空置像素區(qū)包括位于其外圍的第一區(qū)域，所述彩膜基板上位于所述第一區(qū)域的色阻塊的高度大于所述彩膜基板上位于所述顯示像素區(qū)的色阻塊的高度。本發(fā)明通過對(duì)彩膜基板空置像素區(qū)的色阻塊進(jìn)行排布設(shè)計(jì)，利用空置像素區(qū)色阻塊與顯示像素區(qū)色阻塊之間的高度差異來精確控制取向膜在彩膜基板邊緣的擴(kuò)散。
【專利說明】彩膜基板及其制作方法、顯示面板

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種彩膜基板及其制作方法、以及包括該彩膜基板的顯示面板。

【背景技術(shù)】
[0002]目前，液晶顯示面板已經(jīng)成為主流顯示產(chǎn)品，其主要由彩膜基板和陣列基板對(duì)盒組成。為了使液晶分子能夠正確地取向，需要在彩膜基板和陣列基板的表面各涂布一層取向膜，然后摩擦所述取向膜形成溝槽，以使液晶分子沿溝槽方向有規(guī)律地排列，從而實(shí)現(xiàn)顯示面板的顯示功能。
[0003]取向膜的材料主要是聚酰亞胺(PI)，取向膜的涂布主要有兩種方法:一種是利用APR版(APR版用于取向膜轉(zhuǎn)印工藝中，因日本商標(biāo)得名)進(jìn)行轉(zhuǎn)印，另一種是噴墨方法。
[0004]噴墨方法由于圖案設(shè)計(jì)自由，可以任意調(diào)整取向膜厚度，并且無需購買APR版而受到越來越多液晶面板廠家的青睞。由于噴墨方法完全靠取向膜本身來進(jìn)行擴(kuò)散，因此其在彩膜基板或陣列基板邊緣擴(kuò)散時(shí)波動(dòng)較大，通常需要將邊緣區(qū)域設(shè)計(jì)的很大，使得產(chǎn)品在窄邊框設(shè)計(jì)方面受到很大的制約。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種彩膜基板及其制作方法、顯示面板，以精確控制取向膜在彩膜基板邊緣的擴(kuò)散。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，作為本發(fā)明的第一個(gè)方面，提供一種彩膜基板，包括顯示像素區(qū)和位于所述顯示像素區(qū)外圍的空置像素區(qū)，所述空置像素區(qū)包括位于其外圍的第一區(qū)域，所述彩膜基板上位于所述第一區(qū)域的色阻塊的高度大于所述彩膜基板上位于所述顯示像素區(qū)的色阻塊的高度。
[0007]優(yōu)選地，所述第一區(qū)域中包括四個(gè)色阻塊，四個(gè)所述色阻塊分別對(duì)應(yīng)于所述彩膜基板的四條邊。
[0008]優(yōu)選地，所述空置像素區(qū)還包括位于所述顯示像素區(qū)和所述第一區(qū)域之間的第二區(qū)域，所述彩膜基板上位于所述第二區(qū)域的相鄰色阻塊之間的間距大于所述彩膜基板上位于所述顯示像素區(qū)的相鄰色阻塊之間的間距。
[0009]優(yōu)選地，所述彩膜基板上位于所述第二區(qū)域的色阻塊的高度小于所述彩膜基板上位于所述第一區(qū)域的色阻塊的高度。
[0010]優(yōu)選地，所述彩膜基板上位于所述第一區(qū)域的色阻塊的高度為所述彩膜基板上位于所述顯示像素區(qū)的色阻塊的高度的兩倍。
[0011]優(yōu)選地，所述彩膜基板上位于所述第二區(qū)域的色阻塊在第二區(qū)域內(nèi)均勻分布。
[0012]優(yōu)選地，所述彩膜基板上多個(gè)位于所述第二區(qū)域的色阻塊形成一個(gè)色阻塊組，所述色阻塊組在第二區(qū)域內(nèi)均勻分布。
[0013]作為本發(fā)明的第二個(gè)方面，還提供一種顯示面板，包括本發(fā)明所提供的上述彩膜基板和設(shè)置在所述彩膜基板上的取向?qū)印?br> [0014]作為本發(fā)明的第三個(gè)方面，還提供一種彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板包括顯示像素區(qū)和位于所述顯示像素區(qū)外圍的空置像素區(qū)，所述空置像素區(qū)包括位于其外圍的第一區(qū)域，所述制作方法包括以下步驟:
[0015]在所述顯示像素區(qū)和所述第一區(qū)域設(shè)置色阻塊，設(shè)置在所述第一區(qū)域的色阻塊的高度大于設(shè)置在所述顯示像素區(qū)的色阻塊的高度。
[0016]優(yōu)選地，所述空置像素區(qū)還包括位于所述顯示像素區(qū)和所述第一區(qū)域之間的第二區(qū)域，所述制作方法還包括:
[0017]在所述第二區(qū)域設(shè)置色阻塊，設(shè)置在所述第二區(qū)域的相鄰色阻塊之間的間距大于設(shè)置在所述顯示像素區(qū)的相鄰色阻塊之間的間距；
[0018]其中，在所述顯示像素區(qū)、所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域設(shè)置色阻塊采用同一次構(gòu)圖工藝完成。
[0019]本發(fā)明通過對(duì)彩膜基板空置像素區(qū)的色阻塊進(jìn)行排布設(shè)計(jì)，利用空置像素區(qū)色阻塊與顯示像素區(qū)色阻塊之間的高度差異來精確控制取向膜在彩膜基板邊緣的擴(kuò)散。本發(fā)明只需在原有制作色阻塊的掩膜板上進(jìn)行圖案變更即可，無需額外增加掩膜板，即可解決噴墨方式下取向膜擴(kuò)散管控難的問題。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]附圖是用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的【具體實(shí)施方式】一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。
[0021]圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的平面示意圖；
[0022]圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的剖面示意圖。
[0023]在附圖中，1:第一區(qū)域；2:第二區(qū)域；3:顯示像素區(qū)；41:第一區(qū)域的色阻塊；42:第二區(qū)域的色阻塊；43:顯示像素區(qū)的色阻塊；5:基板；6:黑矩陣。

【具體實(shí)施方式】
[0024]以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的【具體實(shí)施方式】僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。
[0025]本發(fā)明首先提供一種彩膜基板，如圖1中所示，該彩膜基板包括顯示像素區(qū)3和位于顯示像素區(qū)3外圍的空置像素區(qū)，所述空置像素區(qū)包括位于其外圍的第一區(qū)域1，所述彩膜基板上位于第一區(qū)域I的色阻塊41的高度大于所述彩膜基板上位于顯示像素區(qū)3的色阻塊43的高度。
[0026]在圖1中，第一區(qū)域I中包括四個(gè)色阻塊41，四個(gè)色阻塊41分別對(duì)應(yīng)于所述彩膜基板的四條邊。
[0027]優(yōu)選地，色阻塊41沿所述彩膜基板的四條邊方向的長度最好不小于顯示像素區(qū)3在相應(yīng)方向的邊界的長度。
[0028]在第一區(qū)域I中，色阻塊41的高度比位于顯示像素區(qū)3的色阻塊43的高度高，而且沿所述彩膜基板的邊緣形成長條形的類似擋墻的結(jié)構(gòu)，因此能夠阻擋取向膜繼續(xù)擴(kuò)散，從而精確控制取向膜在彩膜基板邊緣的擴(kuò)散，實(shí)現(xiàn)對(duì)彩膜基板邊緣區(qū)尺寸的精確管控，有利于窄邊框產(chǎn)品的設(shè)計(jì)。
[0029]例如，在窄邊框的顯示面板中，要求空置像素區(qū)的尺寸較小，而色阻塊41設(shè)置在基板的最外邊緣處，色阻塊41越靠外，則可使空置像素區(qū)越窄，從而越有利于窄邊框的實(shí)現(xiàn)。
[0030]進(jìn)一步地，所述空置像素區(qū)還包括位于顯示像素區(qū)3和第一區(qū)域I之間的第二區(qū)域2，所述彩膜基板上位于第二區(qū)域2的相鄰色阻塊42之間的間距大于所述彩膜基板上位于顯示像素區(qū)3的相鄰色阻塊43之間的間距。
[0031]所述彩膜基板上位于第二區(qū)域2的色阻塊42的高度小于所述彩膜基板上位于第一區(qū)域I的色阻塊41的高度。
[0032]在第二區(qū)域2中，由于相鄰色阻塊42之間的間距比位于顯示像素區(qū)3的相鄰色阻塊43之間的間距大，色阻塊42之間的間隔區(qū)與顯示像素區(qū)3的色阻塊43之間產(chǎn)生交替的高度差，有利于取向膜的擴(kuò)散，而設(shè)置有色阻塊42的地方又能夠防止取向膜擴(kuò)散過快導(dǎo)致邊緣太薄，使取向膜擴(kuò)散地更均勻。根據(jù)像素間距(Pixel pitch)對(duì)色阻塊42之間的間距進(jìn)行優(yōu)化調(diào)整，就可以合理管控取向膜的擴(kuò)散速度。
[0033]位于第一區(qū)域I的色阻塊41可以通過形成R、G、B顏色的三種色阻塊中的任意兩種交疊得到，即所述彩膜基板上位于第一區(qū)域I的色阻塊41的高度為所述彩膜基板上位于顯示像素區(qū)3的色阻塊43的高度的兩倍。
[0034]或者，所述彩膜基板上位于第一區(qū)域I的色阻塊41的高度比所述彩膜基板上位于顯示像素區(qū)3的色阻塊43的高度高2 μ m-3 μ m,以此來控制取向膜在所述彩膜基板邊緣的進(jìn)一步擴(kuò)散，達(dá)到精確控制彩膜基板邊緣區(qū)尺寸的目的。
[0035]所述彩膜基板上位于第二區(qū)域2中的色阻塊42的高度可以是與位于顯示像素區(qū)3的色阻塊43的高度一樣，并且位于第二區(qū)域2中的色阻塊42在第二區(qū)域2內(nèi)均勻分布，即相鄰色阻塊42之間的間隔相等，這樣更有利于設(shè)計(jì)掩膜板的圖案，只需在現(xiàn)有掩膜板的基礎(chǔ)上做很小的變更即可實(shí)現(xiàn)色阻塊42的間隔排布。例如，在原有R、G、B規(guī)則排布的色阻塊陣列的基礎(chǔ)上取消其中一種或者兩種顏色的色阻塊，那么剩下的顏色的色阻塊即可實(shí)現(xiàn)均勻排布。
[0036]進(jìn)一步地，所述彩膜基板上多個(gè)位于第二區(qū)域2的色阻塊42形成一個(gè)色阻塊組，所述色阻塊組在第二區(qū)域2內(nèi)均勻分布，其實(shí)現(xiàn)方式同上所述，在此不再贅述。
[0037]需要說明的是，位于空置像素區(qū)的色阻塊并不實(shí)現(xiàn)顯示功能，因此本發(fā)明中位于第一區(qū)域I和第二區(qū)域2的色阻塊對(duì)顏色沒有要求，可以是R、G、B色阻塊中的任意一種或幾種的排布。
[0038]圖2是依照本發(fā)明一種實(shí)施例的彩膜基板的剖面示意圖，所述彩膜基板包括基板5以及形成在基板5上的黑矩陣6和色阻塊層，所述色阻塊層包括位于第一區(qū)域的色阻塊41、位于第二區(qū)域的色阻塊42以及位于顯示像素區(qū)的色阻塊43。在圖2的實(shí)施例中，位于第一區(qū)域的色阻塊41由任意兩種顏色的色阻塊疊加而成，位于第二區(qū)域的色阻塊42與位于顯示像素區(qū)的色阻塊43高度相同。
[0039]從圖2中可以看出，色阻塊42之間的間隔區(qū)較大，該間隔區(qū)有利于取向膜的擴(kuò)散，而色阻塊42用于防止取向膜擴(kuò)散過快導(dǎo)致邊緣過薄，通過調(diào)節(jié)相鄰色阻塊42之間的間距，就能夠控制取向膜在第二區(qū)域的擴(kuò)散速度。最終利用色阻塊41產(chǎn)生的絕對(duì)高度差阻止取向膜的繼續(xù)擴(kuò)散，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)彩膜基板邊緣區(qū)尺寸的精確管控。
[0040]本發(fā)明還提供了一種顯示面板，所述顯示面板包括本發(fā)明所提供的上述彩膜基板和設(shè)置在所述彩膜基板上的取向?qū)?。所述取向?qū)佑扇∠蚰す袒玫健?br> [0041]本發(fā)明通過對(duì)彩膜基板的空置像素區(qū)的色阻塊進(jìn)行排布設(shè)計(jì)，利用空置像素區(qū)色阻塊與顯示像素區(qū)色阻塊之間的高度差異來精確控制取向膜在彩膜基板邊緣的擴(kuò)散。本發(fā)明只需在原有制作色阻塊的掩膜板上進(jìn)行圖案變更即可，無需額外增加掩膜板，即可解決噴墨方式下取向膜擴(kuò)散管控難的問題。
[0042]本發(fā)明還提供了一種彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板包括顯示像素區(qū)和位于所述顯示像素區(qū)外圍的空置像素區(qū)，所述空置像素區(qū)包括位于其外圍的第一區(qū)域，所述制作方法包括以下步驟:
[0043]在所述顯示像素區(qū)和所述第一區(qū)域設(shè)置色阻塊，設(shè)置在所述第一區(qū)域的色阻塊的高度大于設(shè)置在所述顯示像素區(qū)的色阻塊的高度。
[0044]在所述第一區(qū)域中，色阻塊的高度比位于所述顯示像素區(qū)的色阻塊的高度高，而且沿所述彩膜基板的邊緣形成長條形的類似擋墻的結(jié)構(gòu)，因此能夠阻擋取向膜繼續(xù)擴(kuò)散，從而精確控制取向膜在彩膜基板邊緣的擴(kuò)散，實(shí)現(xiàn)對(duì)彩膜基板邊緣區(qū)尺寸的精確管控。
[0045]優(yōu)選地，所述空置像素區(qū)還包括位于所述顯示像素區(qū)和所述第一區(qū)域之間的第二區(qū)域，所述制作方法還包括:
[0046]在所述第二區(qū)域內(nèi)設(shè)置色阻塊，設(shè)置在所述第二區(qū)域的相鄰色阻塊之間的間距大于設(shè)置在所述顯示像素區(qū)的相鄰色阻塊之間的間距。
[0047]在所述第二區(qū)域中，色阻塊之間的間隔區(qū)與所述顯示像素區(qū)的色阻塊之間產(chǎn)生交替的高度差，有利于取向膜的擴(kuò)散，而所述第二區(qū)域中設(shè)置有色阻塊的地方又能夠防止取向膜擴(kuò)散過快導(dǎo)致邊緣太薄。根據(jù)像素間距(Pixel pitch)對(duì)所述第二區(qū)域中的色阻塊之間的間距進(jìn)行優(yōu)化調(diào)整，就可以合理控制取向膜的擴(kuò)散速度。
[0048]本發(fā)明中，在所述顯示像素區(qū)、所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域設(shè)置色阻塊采用同一次構(gòu)圖工藝完成，只需對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的掩膜板圖案進(jìn)行變更即可。
[0049]例如，現(xiàn)有技術(shù)中形成R、G、B色阻塊的構(gòu)圖工藝包括三次光刻工藝，每次光刻工藝分別形成其中一種顏色的規(guī)則排布的色阻塊。本發(fā)明中，對(duì)掩膜板上相應(yīng)于空置像素區(qū)位置的圖案進(jìn)行變更，使得在所述第一區(qū)域內(nèi)任意兩種顏色的色阻塊疊加，而在所述第二區(qū)域內(nèi)使其中一種或者兩種顏色的色阻塊缺省。
[0050]或者，對(duì)掩膜板上相應(yīng)于空置像素區(qū)位置的圖案進(jìn)行重新設(shè)計(jì)，使得在所述第一區(qū)域形成任意一種顏色的高度為原來高度兩倍的色阻塊，而在所述第二區(qū)域內(nèi)設(shè)計(jì)某一種顏色的色阻塊按照預(yù)設(shè)的間距排列成矩陣。
[0051]通常，位于所述第二區(qū)域的色阻塊的高度小于位于所述第一區(qū)域的色阻塊的高度。
[0052]優(yōu)選地，所述彩膜基板上位于所述第一區(qū)域的色阻塊的高度為所述彩膜基板上位于所述顯示像素區(qū)的色阻塊的高度的兩倍?；蛘?，所述彩膜基板上位于所述第一區(qū)域的色阻塊的高度比所述彩膜基板上位于所述顯示像素區(qū)的色阻塊的高度高2 μ m-3 μ m。
[0053]優(yōu)選地，所述彩膜基板上位于所述第二區(qū)域的色阻塊在第二區(qū)域內(nèi)均勻分布?；蛘?，所述彩膜基板上多個(gè)位于所述第二區(qū)域的色阻塊形成一個(gè)色阻塊組，所述色阻塊組在第二區(qū)域內(nèi)均勻分布。
[0054]以圖2為例，本發(fā)明提供的彩膜基板的制作方法具體包括以下步驟:
[0055]S1、提供基板5;
[0056]S2、在所述基板上形成黑矩陣6 ;
[0057]S3、在上一步驟的基礎(chǔ)上設(shè)置色阻塊層(包括位于第一區(qū)域的色阻塊41、位于第二區(qū)域的色阻塊42、以及位于顯示像素區(qū)的色阻塊43)；
[0058]其中，位于顯示像素區(qū)的色阻塊43實(shí)現(xiàn)R、G、B顯示功能，位于第二區(qū)域的色阻塊42實(shí)現(xiàn)控制取向膜擴(kuò)散速度的功能，位于第一區(qū)域的色阻塊41實(shí)現(xiàn)阻擋取向膜繼續(xù)擴(kuò)散的功能，以此達(dá)到對(duì)彩膜基板邊緣區(qū)尺寸的精確管控，有利于窄邊框產(chǎn)品的設(shè)計(jì)。而且，本發(fā)明只需在原有制作色阻塊的掩膜板上進(jìn)行圖案變更即可，無需額外增加掩膜板，即可解決噴墨方式下取向膜擴(kuò)散管控難的問題。
[0059]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種彩膜基板，包括顯示像素區(qū)和位于所述顯示像素區(qū)外圍的空置像素區(qū)，其特征在于，所述空置像素區(qū)包括位于其外圍的第一區(qū)域，所述彩膜基板上位于所述第一區(qū)域的色阻塊的高度大于所述彩膜基板上位于所述顯示像素區(qū)的色阻塊的高度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一區(qū)域中包括四個(gè)色阻塊，四個(gè)所述色阻塊分別對(duì)應(yīng)于所述彩膜基板的四條邊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述空置像素區(qū)還包括位于所述顯示像素區(qū)和所述第一區(qū)域之間的第二區(qū)域，所述彩膜基板上位于所述第二區(qū)域的相鄰色阻塊之間的間距大于所述彩膜基板上位于所述顯示像素區(qū)的相鄰色阻塊之間的間距。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板上位于所述第二區(qū)域的色阻塊的高度小于所述彩膜基板上位于所述第一區(qū)域的色阻塊的高度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板上位于所述第一區(qū)域的色阻塊的高度為所述彩膜基板上位于所述顯示像素區(qū)的色阻塊的高度的兩倍。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板上位于所述第二區(qū)域的色阻塊在第二區(qū)域內(nèi)均勻分布。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板上多個(gè)位于所述第二區(qū)域的色阻塊形成一個(gè)色阻塊組，所述色阻塊組在第二區(qū)域內(nèi)均勻分布。
8.—種顯示面板，其特征在于，包括權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的彩膜基板，所述彩膜基板上設(shè)置有取向膜。
9.一種彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板包括顯示像素區(qū)和位于所述顯示像素區(qū)外圍的空置像素區(qū)，其特征在于，所述空置像素區(qū)包括位于其外圍的第一區(qū)域，所述制作方法包括以下步驟: 在所述顯示像素區(qū)和所述第一區(qū)域設(shè)置色阻塊，設(shè)置在所述第一區(qū)域的色阻塊的高度大于設(shè)置在所述顯示像素區(qū)的色阻塊的高度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述空置像素區(qū)還包括位于所述顯示像素區(qū)和所述第一區(qū)域之間的第二區(qū)域，所述制作方法還包括: 在所述第二區(qū)域設(shè)置色阻塊，設(shè)置在所述第二區(qū)域的相鄰色阻塊之間的間距大于設(shè)置在所述顯示像素區(qū)的相鄰色阻塊之間的間距； 其中，在所述顯示像素區(qū)、所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域設(shè)置色阻塊采用同一次構(gòu)圖工藝完成。
【文檔編號(hào)】G02F1/1337GK104166270SQ201410369949
【公開日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2014年7月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月30日
【發(fā)明者】李偉, 袁洪亮, 王凱旋, 解會(huì)杰 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司