投影的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及投影機(jī)。提供能夠?qū)煽啃缘南陆颠M(jìn)行抑制的投影機(jī)。投影機(jī)具備：光源裝置；外裝殼體，其具有來(lái)自所述光源裝置的光束可以通過(guò)的開(kāi)口部；投影光學(xué)系統(tǒng)，其經(jīng)由所述開(kāi)口部向所述外裝殼體的外部射出所述光束；和檢測(cè)裝置，其對(duì)所述開(kāi)口部的射出側(cè)的所述光束的光路上的異物進(jìn)行檢測(cè)。
【專利說(shuō)明】投影機(jī)
[0001]本申請(qǐng)是于2012年5月28日提交的申請(qǐng)?zhí)枮?01210168935.1、名稱為“投影機(jī)”的專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明涉及投影機(jī)。

【背景技術(shù)】
[0003]在對(duì)從光源射出的光束相應(yīng)于圖像信息進(jìn)行調(diào)制而投影的投影機(jī)中，例如已知如公開(kāi)于下述專利文獻(xiàn)的采用反射型成像光學(xué)系統(tǒng)的投影機(jī)。
[0004]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2011—002650號(hào)公報(bào)
[0005]在專利文獻(xiàn)1記載的投影機(jī)中，以非球面鏡進(jìn)行了反射的投影光在投影機(jī)的外裝殼體具有的開(kāi)口部附近會(huì)聚。若該開(kāi)口部以容易吸收光的異物覆蓋，則例如投影機(jī)的溫度有可能上升。其結(jié)果，投影機(jī)的可靠性有可能下降。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的方式目的在于提供能夠?qū)煽啃缘南陆颠M(jìn)行抑制的投影機(jī)。
[0007]按照本發(fā)明的一個(gè)方式，可提供如下的投影機(jī):具備外裝殼體、投影光學(xué)系統(tǒng)和檢測(cè)裝置，所述外裝殼體具有光可以通過(guò)的開(kāi)口部；所述投影光學(xué)系統(tǒng)配置于所述外裝殼體的內(nèi)部空間，且包括具有對(duì)來(lái)自光源裝置的光束進(jìn)行反射并將其導(dǎo)向所述開(kāi)口部的反射面的反射構(gòu)件，介由所述開(kāi)口部向所述外裝殼體的外部射出所述光束；所述檢測(cè)裝置對(duì)所述開(kāi)口部的射出側(cè)的所述光束的光路上的異物進(jìn)行檢測(cè)。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方式，因?yàn)樵谝酝队肮鈱W(xué)系統(tǒng)的反射構(gòu)件進(jìn)行反射并介由外裝殼體的開(kāi)口部向外裝殼體的外部射出光束的構(gòu)成的投影機(jī)中，設(shè)置有對(duì)該開(kāi)口部的射出側(cè)的光束的光路上的異物進(jìn)行檢測(cè)的檢測(cè)裝置，所以能夠?qū)υ诠饴肥欠翊嬖诋愇镞M(jìn)行把握。因此，在基于檢測(cè)裝置的檢測(cè)結(jié)果，判斷為在光路存在異物的情況下，能夠采取用于對(duì)投影機(jī)的溫度上升進(jìn)行抑制的適當(dāng)?shù)拇胧?。從而，能夠?qū)ν队皺C(jī)的可靠性的下降進(jìn)行抑制。
[0009]所述檢測(cè)裝置也可以構(gòu)成為，包括射出檢測(cè)光的發(fā)光部和可以對(duì)所述檢測(cè)光進(jìn)行受光的受光部。由此，能夠以非接觸方式對(duì)異物的存在與否進(jìn)行檢測(cè)。并且，通過(guò)以光學(xué)性方式對(duì)異物進(jìn)行檢測(cè)，在光路存在異物的情況下，能夠?qū)υ摦愇锼矔r(shí)性地進(jìn)行檢測(cè)。
[0010]所述檢測(cè)裝置也可以構(gòu)成為，配置于所述開(kāi)口部的周圍的至少一部分。由此，能夠?qū)﹂_(kāi)口部的射出側(cè)的異物良好地進(jìn)行檢測(cè)。
[0011]所述檢測(cè)裝置也可以構(gòu)成為，包括相對(duì)于所述開(kāi)口部的中心配置于一方側(cè)的第1檢測(cè)裝置和配置于另一方側(cè)的第2檢測(cè)裝置。由此，能夠利用至少2個(gè)檢測(cè)裝置而擴(kuò)大檢測(cè)區(qū)域，能夠?qū)Ξ愇锪己玫剡M(jìn)行檢測(cè)。
[0012]所述檢測(cè)裝置也可以構(gòu)成為，沿所述開(kāi)口部的尺寸較短方向而配置。由此，能夠縮短成為無(wú)法對(duì)異物進(jìn)行檢測(cè)的范圍的各檢測(cè)裝置之間的距離，能夠?qū)Ξ愇锪己玫剡M(jìn)行檢測(cè)。
[0013]所述檢測(cè)裝置也可以構(gòu)成為，配置于所述內(nèi)部空間。由此，由于從配置于內(nèi)部空間的投影部照射的檢測(cè)光擴(kuò)展，能夠擴(kuò)大可以對(duì)異物進(jìn)行檢測(cè)的檢測(cè)區(qū)域。并且，因?yàn)闄z測(cè)裝置配置于投影機(jī)的內(nèi)部，所以難以受到塵埃等的影響。
[0014]按照本發(fā)明的另一個(gè)方式，可提供如下的投影機(jī):具備:光源裝置；外裝殼體，其具有來(lái)自所述光源裝置的光束可以通過(guò)的開(kāi)口部；投影光學(xué)系統(tǒng)，其經(jīng)由所述開(kāi)口部向所述外裝殼體的外部射出所述光束；和檢測(cè)裝置，其對(duì)所述開(kāi)口部的射出側(cè)的所述光束的光路上的異物進(jìn)行檢測(cè)。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1是表示投影機(jī)的設(shè)置例的圖。
[0016]圖2是表示第1實(shí)施方式涉及的投影機(jī)的一例的立體圖。
[0017]圖3是表示第1實(shí)施方式涉及的投影機(jī)的一部分的圖。
[0018]圖4是表示第1實(shí)施方式涉及的檢測(cè)裝置的一例的圖。
[0019]圖5是表示第1實(shí)施方式涉及的投影機(jī)的工作的一例的圖。
[0020]圖6是表示第2實(shí)施方式涉及的投影機(jī)的一部分的圖。
[0021〕 圖7是表示投影機(jī)的設(shè)置例的圖。
[0022]符號(hào)的說(shuō)明
[0023]1…投影機(jī),2…外裝殼體，4…開(kāi)口部，5…透射構(gòu)件，7…投影光學(xué)系統(tǒng)，9…反射構(gòu)件，40…檢測(cè)裝置，41…投影部，42…受光部，3？…內(nèi)部空間。

【具體實(shí)施方式】
[0024](第1實(shí)施方式)
[0025]以下，關(guān)于本發(fā)明的第1實(shí)施方式基于附圖進(jìn)行說(shuō)明。圖1及圖2是表示本實(shí)施方式涉及的投影機(jī)1的一例的圖。在圖1及圖2中，投影機(jī)1具備構(gòu)成該投影機(jī)1的外裝的外裝殼體2。外裝殼體2例如為合成樹脂制。外裝殼體2具有頂面部2八、底面部28、側(cè)面部2(:和側(cè)面部20。投影機(jī)1將頂面部2八朝向上下左右都可以進(jìn)行投影。在本實(shí)施方式中，以投影機(jī)1使頂面部2八朝向上方而設(shè)置的狀態(tài)為例進(jìn)行說(shuō)明。投影機(jī)1向屏幕％照射投影光將圖像投影到該屏幕
[0026]頂面部2纟具有第1傾斜面2纟1及第2傾斜面2纟2。在第1傾斜面2纟1，形成凹部3。
[0027]外裝殼體2在頂面部2八具有光可以通過(guò)的矩形的開(kāi)口部4及投影開(kāi)口部30。開(kāi)口部4形成于凹部3的上端，投影開(kāi)口部30形成于凹部3的底部。在本實(shí)施方式中，在投影開(kāi)口部30，配置光可以通過(guò)的透射構(gòu)件5。在開(kāi)口部4，雖然未配置透射構(gòu)件，但是也可以配置。
[0028]側(cè)面部2(:具有縫隙狀的吸氣開(kāi)口部201。在吸氣開(kāi)口部201的內(nèi)側(cè)，設(shè)置空氣過(guò)濾器及吸氣風(fēng)扇。吸氣風(fēng)扇介由吸氣開(kāi)口部201及空氣過(guò)濾器，向外裝殼體2的內(nèi)部空間3？，導(dǎo)入用于對(duì)裝置主體進(jìn)行冷卻的冷卻空氣。
[0029]投影機(jī)1具有配置于外裝殼體2的內(nèi)部空間3？的光學(xué)單兀6。光學(xué)單兀6包括光源裝置、包括對(duì)從光源裝置射出的光束進(jìn)行調(diào)制的液晶面板等的光調(diào)制裝置61及對(duì)來(lái)自光調(diào)制裝置61的光束？[進(jìn)行投影的投影光學(xué)系統(tǒng)7等。再有，光學(xué)單元6的投影光學(xué)系統(tǒng)7以外的構(gòu)成因?yàn)榭稍诟鞣N一般性的投影機(jī)中使用所以將具體性的說(shuō)明進(jìn)行省略，并在以下，關(guān)于投影光學(xué)系統(tǒng)7進(jìn)行說(shuō)明。
[0030]圖3是示意性地表示投影光學(xué)系統(tǒng)7的一部分的剖視圖。投影光學(xué)系統(tǒng)7具有介由光調(diào)制裝置61的來(lái)自光源裝置的光束？[所入射的多個(gè)透鏡8、具有對(duì)來(lái)自透鏡8的光束進(jìn)行反射的反射面9八的反射構(gòu)件9和對(duì)透鏡8及反射構(gòu)件9進(jìn)行收置的收置構(gòu)件10。
[0031]在本實(shí)施方式中，反射面9八包括凹面，反射構(gòu)件9為非球面鏡。在以下的說(shuō)明中，將反射構(gòu)件9適當(dāng)?shù)胤Q為非球面鏡9。
[0032]反射面9八為非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的自由曲面形狀的反射面。在本實(shí)施方式中，非球面鏡9在投影光學(xué)系統(tǒng)7中的光路最下游配置為，反射面9八朝向斜上方。非球面鏡9對(duì)通過(guò)多個(gè)透鏡8導(dǎo)引的光束進(jìn)行反射，使其折返到斜上方側(cè)并廣角化。
[0033]投影開(kāi)口部30及開(kāi)口部4能夠使以非球面鏡9進(jìn)行了反射的光通過(guò)。投影開(kāi)口部30及開(kāi)口部4配置于收置構(gòu)件10的上方側(cè)。投影光學(xué)系統(tǒng)7以如下方式設(shè)置于外裝殼體2的內(nèi)部空間3？:使得以非球面鏡9進(jìn)行了反射的光？[在收置構(gòu)件10的上方側(cè)能夠通過(guò)投影開(kāi)口部30及開(kāi)口部4。非球面鏡9(反射面9八)對(duì)來(lái)自透鏡8的光束？[進(jìn)行反射，將其導(dǎo)向投影開(kāi)口部30及開(kāi)口部4。來(lái)自反射構(gòu)件9的光束？[在通過(guò)投影開(kāi)口部30之后，通過(guò)開(kāi)口部4。來(lái)自反射構(gòu)件9的光束？[介由投影開(kāi)口部30及開(kāi)口部4，射出到外裝殼體2的外部空間。
[0034]投影開(kāi)口部30形成于以非球面鏡9的反射面9八進(jìn)行了反射的光束會(huì)聚的聚光點(diǎn)？的附近。通過(guò)將投影開(kāi)口部30設(shè)置于聚光點(diǎn)？的附近，能夠減小投影開(kāi)口部30的面積。
[0035]在本實(shí)施方式中，投影機(jī)1具備對(duì)介由投影開(kāi)口部30 (透射構(gòu)件5)及開(kāi)口部4射出到外裝殼體2的外部空間的光束(投影光的光路上的異物進(jìn)行檢測(cè)的檢測(cè)裝置40。檢測(cè)裝置40對(duì)開(kāi)口部4的射出側(cè)的光束的光路上的異物進(jìn)行檢測(cè)。
[0036]在本實(shí)施方式中，檢測(cè)裝置40配置于外裝殼體2。檢測(cè)裝置40包括沿開(kāi)口部4的尺寸較短方向相對(duì)于開(kāi)口部4的中心配置于斜面2八2側(cè)(一方側(cè))的第1檢測(cè)裝置40八和配置于斜面2八1側(cè)(另一方側(cè))的第2檢測(cè)裝置408。檢測(cè)裝置40 (40八、408)在開(kāi)口部4的射出側(cè)，配置于光束的光路的外側(cè)。在本實(shí)施方式中，檢測(cè)裝置40八與檢測(cè)裝置408為相同規(guī)格的裝置。
[0037]在本實(shí)施方式中，檢測(cè)裝置40射出檢測(cè)光1。檢測(cè)裝置40利用檢測(cè)光1，對(duì)異物光學(xué)性地進(jìn)行檢測(cè)。第1檢測(cè)裝置40八向外部空間中的光束(投影光的光路照射檢測(cè)光3匕對(duì)該光束的光路上的異物進(jìn)行檢測(cè)。第2檢測(cè)裝置408對(duì)斜面2八1上的異物進(jìn)行檢測(cè)。還有，第2檢測(cè)裝置408既可以將檢測(cè)光1照射到光束的光路，也可以不照射。
[0038]作為異物，例如可例示紙、片材等。如此的異物假定為相對(duì)于開(kāi)口部4為長(zhǎng)條狀。如此的異物如示于圖3地，可考慮在斜面2八1與斜面2八2之間橫向配置的情況。通過(guò)將檢測(cè)裝置408配置于斜面2八1上，也可以進(jìn)行橫向配置于斜面2八1與斜面2八2之間的異物的檢測(cè)。
[0039]圖4是表示檢測(cè)裝置40的一例的圖。檢測(cè)裝置40具有射出檢測(cè)光1的發(fā)光部41和可以對(duì)檢測(cè)光1進(jìn)行受光的受光部42。發(fā)光部41與受光部42并排地配置。
[0040]在本實(shí)施方式中，檢測(cè)裝置40為紅外線反射型的光學(xué)傳感器。檢測(cè)裝置40作為檢測(cè)光31射出紅外光。
[0041]在檢測(cè)光1的光路存在異物的情況下，從發(fā)光部41射出的檢測(cè)光1照射到異物。照射到異物的檢測(cè)光31的至少一部分以該異物進(jìn)行反射。以該異物進(jìn)行了反射的檢測(cè)光1的至少一部分入射到受光部42。受光部42對(duì)來(lái)自該異物的檢測(cè)光1進(jìn)行受光。另一方面，在檢測(cè)光31的光路不存在異物的情況下，從發(fā)光部41射出的檢測(cè)光31不被受光部42受光。如此地，檢測(cè)裝置40根據(jù)從發(fā)光部41射出的檢測(cè)光1是否被受光部42受光，能夠?qū)υ诠獾墓饴肥欠翊嬖诋愇镞M(jìn)行檢測(cè)。
[0042]還有，在本實(shí)施方式中，檢測(cè)裝置40不僅能夠?qū)Ξ愇锏拇嬖谂c否而且還能夠?qū)κ芄獠?2與異物的距離進(jìn)行檢測(cè)。檢測(cè)裝置40基于檢測(cè)光1相對(duì)于受光部42的入射位置，對(duì)受光部42與異物的距離進(jìn)行檢測(cè)。
[0043]例如，如示于圖4地，在受光部42與異物的距離為第1距離11的情況下，從發(fā)光部41射出而以異物進(jìn)行了反射的檢測(cè)光1入射到受光部42的第1位置？1。在受光部42與異物的距離為比第1距離11長(zhǎng)的第2距離12的情況下，從發(fā)光部41射出而以異物進(jìn)行了反射的檢測(cè)光％入射到與第1位置？1不同的受光部42的第2位置？2。
[0044]還有，檢測(cè)裝置40也可以基于照射到該受光部42的檢測(cè)光1的照度分布，對(duì)受光部42與異物的距離進(jìn)行檢測(cè)。
[0045]如上述地，紙、片材等異物覆蓋開(kāi)口部4地置于頂面部2八的可能性高。在如此的狀態(tài)下，在投影光？[從開(kāi)口部4射出的情況下，例如異物與外裝殼體2的外表面(頂面部2八)之間的空間的溫度有可能上升。其結(jié)果，例如投影機(jī)1的溫度上升，投影機(jī)1的可靠性有可能下降。
[0046]根據(jù)本實(shí)施方式，因?yàn)樵O(shè)置有對(duì)從開(kāi)口部4射出的投影光的光路上的異物進(jìn)行檢測(cè)的檢測(cè)裝置40，所以能夠?qū)υ谠摴饴肥欠翊嬖诋愇镞M(jìn)行把握。因此，在基于檢測(cè)裝置40的檢測(cè)結(jié)果而判斷為在光路存在異物的情況下，能夠采取用于對(duì)投影機(jī)1的溫度上升進(jìn)行抑制的適當(dāng)?shù)拇胧?。例如，在投影機(jī)1中能夠采取進(jìn)行告警顯示等的措施。從而，能夠?qū)ν队皺C(jī)1的可靠性的下降進(jìn)行抑制。
[0047]在本實(shí)施方式中，檢測(cè)裝置40以光學(xué)性方式(非接觸方式)，對(duì)異物的存在與否進(jìn)行檢測(cè)。因此，在異物存在于投影光？[的光路的情況下，能夠?qū)υ摦愇锼矔r(shí)性地進(jìn)行檢測(cè)。從而，例如即使在光路存在異物，也能夠在投影機(jī)1的溫度過(guò)度上升之前，對(duì)該異物快速地進(jìn)行檢測(cè)。
[0048]并且，在本實(shí)施方式中，圖3中，來(lái)自透鏡8的光束(投影光)？[在XX平面內(nèi)行進(jìn)。并且，來(lái)自發(fā)光部41的檢測(cè)光1也在平面內(nèi)行進(jìn)。由此，檢測(cè)裝置40能夠?qū)獾墓饴飞系漠愇锏拇嬖谂c否高精度地進(jìn)行檢測(cè)。
[0049]接下來(lái)，關(guān)于以檢測(cè)裝置40檢測(cè)到異物的情況下的投影機(jī)1的工作的一例進(jìn)行說(shuō)明。如示于圖5地，在投影機(jī)1以高亮度模式射出投影光的情況下，在通過(guò)檢測(cè)裝置40檢測(cè)到異物的情況下(步驟31),使光源裝置的亮度(光源裝置的輸出、光強(qiáng)度)降低，從高亮度模式變更為低亮度模式(步驟32)。
[0050]接下來(lái)，投影機(jī)1使顯示成為黑色畫面(步驟33)。并且，投影機(jī)1與使顯示成為黑色畫面的工作同時(shí)地，發(fā)出告警(步驟34)。作為告警，例如，也可以在成為黑色畫面的屏幕上進(jìn)行告警顯示。并且，在投影機(jī)1具有警報(bào)裝置(蜂鳴器等)的情況下，也可以使該警報(bào)裝置工作。并且，在投影機(jī)1具有發(fā)光裝置([￡0等)的情況下，也可以使該發(fā)光裝置工作。
[0051]通過(guò)發(fā)出告警，投影機(jī)1的使用者能夠知曉異物存在。因此，通過(guò)取走異物，能夠避免投影機(jī)1溫度上升。
[0052]在從發(fā)出告警起經(jīng)過(guò)預(yù)定時(shí)間之后，投影機(jī)1利用檢測(cè)裝置40對(duì)是否去除異物進(jìn)行檢測(cè)(步驟35〉。例如在通過(guò)上述的告警而去除異物的情況下，投影機(jī)1解除告警(步驟86)。并且，在去除異物的情況下，投影機(jī)1解除黑色畫面顯示，并返回到高亮度模式。
[0053]另一方面，在盡管發(fā)出告警卻未去除異物的情況下，在從發(fā)出告警起經(jīng)過(guò)預(yù)定時(shí)間之后，投影機(jī)1停止光源裝置的工作(步驟37)。
[0054]還有，雖然在本實(shí)施方式中，在開(kāi)口部4的周圍配置2個(gè)檢測(cè)裝置40八、408，但是檢測(cè)裝置40也可以為1個(gè)。例如，也可以配置第1檢測(cè)裝置40八而省略第2檢測(cè)裝置408。還有，在檢測(cè)裝置40為1個(gè)的情況下，也可以在開(kāi)口部4的周圍的至少一部分(任意的位置)，配置該檢測(cè)裝置40。
[0055]并且，也可以在開(kāi)口部4的周圍配置多個(gè)檢測(cè)裝置40。例如，也可以在開(kāi)口部4的周圍配置3個(gè)以上的檢測(cè)裝置40。在檢測(cè)裝置40為多個(gè)的情況下，只要至少一個(gè)檢測(cè)裝置40將檢測(cè)光1照射到光束的光路即可，其他檢測(cè)裝置40也可以對(duì)開(kāi)口部4的周圍的異物進(jìn)行檢測(cè)。
[0056]并且，第1檢測(cè)裝置40八與第2檢測(cè)裝置408雖然沿投影開(kāi)口部30的尺寸較短方向而配置，但是也可以沿尺寸較長(zhǎng)方向而配置。
[0057](第2實(shí)施方式)
[0058]接下來(lái)，關(guān)于第2實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。在以下的說(shuō)明中，關(guān)于與上述的實(shí)施方式相同或等同的構(gòu)成部分附加相同的符號(hào)，并將其說(shuō)明進(jìn)行簡(jiǎn)化或者省略。
[0059]圖6表示第2實(shí)施方式涉及的投影機(jī)1的一例。在本實(shí)施方式中，檢測(cè)裝置40配置于內(nèi)部空間3？?jī)?nèi)的投影光學(xué)系統(tǒng)7。檢測(cè)裝置40在內(nèi)部空間3？中，配置于光束的光路的外側(cè)。在本實(shí)施方式中，檢測(cè)裝置40配置為，面向透鏡8與非球面鏡9之間的光束的光路。
[0060]在本實(shí)施方式中，檢測(cè)裝置40介由投影開(kāi)口部30(透射構(gòu)件5),向開(kāi)口部4的射出側(cè)的光束(投影光的光路照射檢測(cè)光3匕對(duì)該光的光路上的異物進(jìn)行檢測(cè)。
[0061]在異物存在于光束？I的光路上的情況下，從發(fā)光部41射出的檢測(cè)光3[介由投影開(kāi)口部30(透射構(gòu)件5)照射到異物。照射到異物的檢測(cè)光1的至少一部分以該異物進(jìn)行反射。以異物進(jìn)行了反射的檢測(cè)光31的至少一部分介由投影開(kāi)口部30(透射構(gòu)件5)入射到受光部42。受光部42對(duì)來(lái)自該異物的檢測(cè)光31進(jìn)行受光。
[0062]在異物不存在于光束的光路的情況下，從發(fā)光部41射出的檢測(cè)光3[介由投影開(kāi)口部30(透射構(gòu)件5)射出到外部空間。該檢測(cè)光1不被受光部42受光。
[0063]在本實(shí)施方式中，檢測(cè)裝置40配置于離開(kāi)開(kāi)口部4的內(nèi)部空間3？?jī)?nèi)的投影光學(xué)系統(tǒng)7。因?yàn)槟軌虼_保開(kāi)口部4與檢測(cè)裝置40的距離，所以來(lái)自檢測(cè)裝置40的檢測(cè)光1朝向開(kāi)口部4擴(kuò)展地行進(jìn)，能夠以一個(gè)檢測(cè)裝置40進(jìn)行寬的范圍的檢測(cè)。并且，因?yàn)闄z測(cè)裝置40配置于投影機(jī)1的內(nèi)部，所以難以受到塵埃等的影響。
[0064]在本實(shí)施方式中,來(lái)自發(fā)光部41的檢測(cè)光31的射出方向相對(duì)于設(shè)置面基本垂直。還有，來(lái)自發(fā)光部41的檢測(cè)光1的射出方向也可以在相對(duì)于設(shè)置面的法線為±45度以內(nèi)的范圍而確定。
[0065]并且，在本實(shí)施方式中，圖6中，來(lái)自透鏡8的光束(投影光)？1也在XX平面內(nèi)行進(jìn)。并且，來(lái)自發(fā)光部41的檢測(cè)光1也在XX平面內(nèi)行進(jìn)。由此，檢測(cè)裝置40能夠?qū)?？I的光路上的異物的存在與否高精度地進(jìn)行檢測(cè)。
[0066]還有，雖然在上述的第1、第2實(shí)施方式中，投影機(jī)1在使頂面部2八(投影開(kāi)口部30)朝向上方的狀態(tài)下使用，但是也可以如示于圖7地，在朝向下方的狀態(tài)下使用。在圖7中，投影機(jī)1通過(guò)支持機(jī)構(gòu)50支持為，頂面部2八(開(kāi)口部4)朝向下方。
[0067]并且，雖然在上述的第1、第2實(shí)施方式中，檢測(cè)裝置40利用射出的檢測(cè)光3匕對(duì)異物光學(xué)性地進(jìn)行檢測(cè)，但是，既可以采用通過(guò)超聲波對(duì)異物進(jìn)行檢測(cè)的檢測(cè)裝置，也可以采用通過(guò)拍攝的圖像對(duì)異物進(jìn)行檢測(cè)的檢測(cè)裝置。
【權(quán)利要求】
1.一種投影機(jī)，其特征在于，具備: 光源裝置； 外裝殼體，其具有來(lái)自所述光源裝置的光束可以通過(guò)的開(kāi)口部； 投影光學(xué)系統(tǒng)，其經(jīng)由所述開(kāi)口部向所述外裝殼體的外部射出所述光束；和 檢測(cè)裝置，其對(duì)所述開(kāi)口部的射出側(cè)的所述光束的光路上的異物進(jìn)行檢測(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影機(jī)，其特征在于: 所述檢測(cè)裝置包括射出檢測(cè)光的發(fā)光部和可以對(duì)所述檢測(cè)光進(jìn)行受光的受光部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投影機(jī)，其特征在于: 所述檢測(cè)裝置配置于所述開(kāi)口部的周圍的至少一部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的投影機(jī)，其特征在于: 所述檢測(cè)裝置包括相對(duì)于所述開(kāi)口部的中心配置于一方側(cè)的第I檢測(cè)裝置和配置于另一方側(cè)的第2檢測(cè)裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的投影機(jī)，其特征在于: 所述檢測(cè)裝置檢測(cè)相對(duì)于所述開(kāi)口部為長(zhǎng)條狀的異物。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投影機(jī)，其特征在于: 所述檢測(cè)裝置檢測(cè)所述受光部和異物的距離。
【文檔編號(hào)】G03B21/14GK104391420SQ201410612920
【公開(kāi)日】2015年3月4日 申請(qǐng)日期:2012年5月28日 優(yōu)先權(quán)日:2011年6月6日
【發(fā)明者】小山美佳, 小林靖幸, 大月伸行, 白倉(cāng)清政 申請(qǐng)人:精工愛(ài)普生株式會(huì)社