一種顯示基板及顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明實施例涉及顯示器領域，尤其涉及一種顯示基板及顯示裝置，用以減輕配向顯示不均現象。本發(fā)明實施例中，在襯底上設置具有預設摩擦方向的配向層，在走線區(qū)域設置有冗余圖形，在元件區(qū)域設置有元件圖形；沿摩擦方向的任意兩條路徑上，其中任一條路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。如此，沿摩擦方向的任意兩條路徑上的冗余圖形和元件圖形長度之和近似相等；從而使?jié)L輪在沿摩擦方向進入顯示區(qū)域之前，滾輪的不同位置均滾過了長度近似相等的圖形，從而使?jié)L輪上的各個位置產生了形狀相一致的形變，從而提高了摩擦的均勻性，改善了配向顯示不均的情況。
【專利說明】
一種顯示基板及顯示裝置

【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示器領域，尤其涉及一種顯示基板及顯示裝置。

【背景技術】
[0002](11111111-8118181:01—11^111(1 01-781:^1 01鄧1奶，薄膜晶體管液晶不器)是利用施加在液晶層上電場強度的變化，改變液晶分子的扭曲方向，從而控制透光的強弱來顯示圖像的。一般來講，一塊完整的液晶顯示面板必須具有背光模塊、偏光片、界!'陣列基板和彩膜基板以及由它們兩塊基板組成的盒中填充的液晶分子層構成。
[0003]在的制造過程中，在將陣列基板與彩膜基板對合形成顯示模組￠611盒)之后，會有對界!'基板上各個器件的功能進行測試的步驟，即顯示模組虛擬測試
^11-1:1181 1681:) 0 0611 ^11-1:1181 了681: —般包括對了？1'基板上的數據線、掃描線、公共電極線、開關等是否能夠正常工作進行測試。為了實現上述的測試，一般會在基板上的顯示區(qū)域的外圍設計有多個用于檢測的虛擬測試化#，簡稱V”端子。同樣為了后期將集成電路綁定于基板上，也需要在基板上的顯示區(qū)域的外圍設計多個集成電路端子。
[0004]圖1示例性示出了現有技術中一種顯示基板的結構示意圖，如圖1所示，現有技術中在基板上設計有VI端子及集成電路端子，顯示基板包括用于顯示的顯示區(qū)域101，和用于布置元件的元件區(qū)域102，在元件區(qū)域102中布置多種元件，例如多個VI端子103、集成電路端子104等。如圖1所示，各個元件之間相互之間排列不緊密，會形成的空隙105，且空隙105面積較大。由于VI端子103、集成電路端子104等元件是形成于基板上的配向層之前，圖中預設摩擦方向為水平方向106，那么如果當在基板上沿著水平方向106進行涂布配向層時，即進行摩擦工藝時，滾輪掃到各個元件之間相互之間形成的空隙105，會使得絨布滾輪上的絨布保持與空隙105形狀相一致的形變，從而改變了原有絨布上已經配置好的細小的凹槽的形狀，使得掃在空隙105處的絨布上的配向方向與其他部位不同，從而影響摩擦的均勾性從而產生配向顯示不均(見^化叩的情況。
[0005]綜上所述，亟需一種顯示基板及顯示裝置，用以減輕配向顯示不均現象。


【發(fā)明內容】

[0006]本發(fā)明實施例提供一種顯示基板及顯示裝置，用以減輕配向顯示不均現象。
[0007]本發(fā)明實施例提供一種顯不基板，包括:
[0008]襯底基板，襯底基板包括顯示區(qū)域和元件區(qū)域，以及設置在顯示區(qū)域和元件區(qū)域之間且圍繞顯示區(qū)域的走線區(qū)域；
[0009]設置于襯底基板上的配向層，配向層具有預設的摩擦方向；
[0010]設置于襯底基板走線區(qū)域的冗余圖形，設置于襯底基板元件區(qū)域的元件圖形，其中，沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0011]較佳的，閾值為105%。
[0012]較佳的，還包括設置于襯底基板與配向層之間的第一電極層，冗余圖形與第一電極層同層。
[0013]較佳的，第一電極層為像素電極層或者公共電極層。
[0014]較佳的，冗余圖形為多個相互不連通的獨立圖形。
[0015]較佳的，多個相互不連通的獨立圖形為矩形。
[0016]較佳的，獨立圖形包括沿第一方向延伸的第一矩形和沿第二方向延伸的第二矩形，第一矩形與第二矩形間隔排布，其中，第一方向與第二方向垂直。
[0017]較佳的，多個相互不連通的獨立圖形包括至少一個第一鏤空區(qū)域。
[0018]較佳的，多個相互不連通的獨立圖形呈陣列排布或交錯排布。
[0019]較佳的，冗余圖形為全連通圖形。
[0020]較佳的，全連通圖形包括多個第二鏤空區(qū)域。
[0021]較佳的，第二鏤空區(qū)域為矩形，且多個第二鏤空區(qū)域呈陣列排列或交錯排列。
[0022]較佳的，全連通圖形為邊緣不規(guī)則的整面圖形。
[0023]較佳的，冗余圖形接觸公共電極電位。
[0024]較佳的，元件圖形包括虛擬測試VI端子和/或集成電路端子形成的圖形。
[0025]本發(fā)明實施例提供一種顯示裝置，包括如前所述的顯示基板。
[0026]較佳的，還包括彩色濾光片基板，冗余圖形設置于封框膠區(qū)與彩色濾光片基板邊界之間。
[0027]本發(fā)明實施例中，襯底包括顯示區(qū)域和元件區(qū)域，以及設置在顯示區(qū)域和元件區(qū)域之間且圍繞顯示區(qū)域的走線區(qū)域；在襯底上設置具有預設摩擦方向的配向層，在走線區(qū)域設置有冗余圖形，在元件區(qū)域設置有元件圖形；沿摩擦方向的任意兩條路徑上，其中任一條路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0028]由于在顯示區(qū)域和元件區(qū)域之間的走線區(qū)域設置有冗余圖形，因此，滾輪依次滾過元件區(qū)域的元件圖形、走線區(qū)域的冗余圖形，之后進入顯示區(qū)域；進一步由于沿摩擦方向的任意兩條路徑上，其中任一條路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積，因此沿摩擦方向的任意兩條路徑上的冗余圖形和元件圖形長度之和近似相等；從而使?jié)L輪在沿摩擦方向進入顯示區(qū)域之前，滾輪的不同位置經過不同路徑達到顯示區(qū)域時，滾輪的不同位置均滾過了長度近似相等的圖形，從而使?jié)L輪上的各個位置產生了形狀相一致的形變，從而提高了摩擦的均勻性，改善了配向顯示不均的情況。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0029]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡要介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域的普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0030]圖1為現有技術提供的一種顯示基板結構示意圖；
[0031]圖2為本發(fā)明實施例適用的一種顯不基板不意圖；
[0032]圖3為本發(fā)明實施例提供的顯示基板母板的結構示意圖；
[0033]圖4為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的結構示意圖；
[0034]圖5為圖4沿截面“，的剖面圖；
[0035]圖6為本發(fā)明實施例提供的一種冗余圖形的排布方式示意圖；
[0036]圖7為本發(fā)明實施例提供的一種冗余圖形的排布方式示意圖；
[0037]圖8為本發(fā)明實施例提供的一種冗余圖形的排布方式示意圖；
[0038]圖9為本發(fā)明實施例提供的一種冗余圖形的排布方式示意圖；
[0039]圖10為本發(fā)明實施例提供的一種冗余圖形的排布方式示意圖；
[0040]圖11為本發(fā)明實施例提供的一種冗余圖形的排布方式示意圖；
[0041]圖12為本發(fā)明實施例提供的一種冗余圖形的排布方式示意圖；
[0042]圖13為本發(fā)明實施例提供的一種顯示裝置的結構示意圖；
[0043]圖14為圖13沿截面8-8’的剖面結構示意圖。

【具體實施方式】
[0044]為了使本發(fā)明的目的、技術方案及有益效果更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0045]圖2示例性示出了本發(fā)明實施例適用的一種顯示基板示意圖。如圖2所示，顯示基板上包括用于顯示的顯示區(qū)域101，多個像素單元113設置于顯示區(qū)域內，設置在顯示區(qū)域101外圍并用于布置元件的元件區(qū)域102，以及設置在所述顯示區(qū)域101和元件區(qū)域102之間且圍繞所述顯示區(qū)域101的走線區(qū)域108。如圖2所示，位于顯示區(qū)域101的下方和側方，均可設置元件區(qū)域102，兩個元件區(qū)域102均可布置VI端子103、集成電路端子104等。
[0046]具體實施中，滾輪進行沿著摩擦方向進行涂布配向層之前，多個顯示基板是制作在一起的，即大張的顯示基板母板，圖3示例性示出了顯示基板母板的結構示意圖。如圖3所示，滾輪涂布配向層的摩擦方向可為水平方向106，也可為垂直方向107，但無論摩擦方向為水平方向106還是垂直方向107，滾輪均會經過元件區(qū)域102進入顯示區(qū)域101。因此，本發(fā)明實施例對具體摩擦方向不做限制，摩擦方向可沿任意路徑。本發(fā)明實施例中以摩擦方向沿水平方向106為例、并以單獨一個顯示基板為例進行說明。
[0047]基于圖2和圖3所不的一種顯不基板不意圖架構，圖4不出了本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板，針對每個獨立的顯示基板，包括:
[0048]襯底基板109，襯底包括顯示區(qū)域101和元件區(qū)域102，以及設置在顯示區(qū)域101和元件區(qū)域102之間且圍繞顯示區(qū)域101的走線區(qū)域108 ；
[0049]設置于襯底基板109上的配向層110，配向層具有預設的摩擦方向，本發(fā)明實施例中以圖4中所示的水平方向106為例進行介紹；
[0050]設置于襯底基板走線區(qū)域108的冗余圖形111，設置于襯底基板元件區(qū)域102的元件圖形112，其中，沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形111和元件圖形112沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0051]由于在顯示區(qū)域101和元件區(qū)域102之間的走線區(qū)域108設置有冗余圖形111，因此，滾輪在沿著預設摩擦方向，即水平方向106進行涂布配向層110時，需依次滾過元件區(qū)域102的元件圖形112、走線區(qū)域108的冗余圖形111，之后進入顯示區(qū)域101，具體來說，進入顯示區(qū)域101的過程是先經過封框膠區(qū)116的邊界，之后進入顯示區(qū)域101。
[0052]具體來說，沿摩擦方向的任意兩條路徑上，其中任一條路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積，為了更好的說明此關系，現假設沿摩擦方向的任意兩條路徑上，任一條路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和為第一路徑總和，另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和為第二路徑總和，由于要求其中任一條路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積，因此可得出下述兩個公式，本發(fā)明實施例要求滿足公式:
[0053]第一路徑總和彡第二路徑總和X閾值
[0054]可見，第一路徑總和與第二路徑總和近似相等，且第一路徑總和與第二路徑總和相差的值都在一定范圍之內，即沿摩擦方向的任意兩條路徑上的冗余圖形和元件圖形沿所述摩擦方向上的長度之和近似相等。如此，從而使?jié)L輪在沿摩擦方向進入顯示區(qū)域之前，滾輪的不同位置經過不同路徑達到顯示區(qū)域時，滾輪的不同位置均滾過了長度近似相等的圖形，從而使?jié)L輪上的各個位置產生了形狀相一致的形變，從而提高了配向摩擦的均勻性，改善了配向摩擦顯示不均的情況。
[0055]較佳的，閾值為105%，本領域技術人員可知，為了進一步提高配向摩擦的均勻性，可將閾值設置的更小，在100%與105%之間。另一方面，若由于機械本身誤差的原因，或因為工藝流程原因，閾值很難達到105%時，也可將該閾值適當提高。
[0056]通過上述描述可知，在平行于配向方向上，如圖4所示，冗余圖形111設置于走線區(qū)域108，且為了滿足沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形111和元件圖形112沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積，較佳的，可將冗余圖形111設置于沿摩擦方向上的元件區(qū)域102的元件圖形112與顯示區(qū)域101之間，
[0057]較佳的，在垂直于配向層的方向上，冗余圖形的具體位置如圖5所示，圖5示例性示出了圖4實施例沿截面八-八’的剖面圖，從圖中可看出，該顯示基板包括襯底基板109、配向層110，以及設置于襯底基板109與配向層110之間的第一電極層202，還包括冗余圖形111、元件圖形112，較佳的，冗余圖形111與第一電極層202同層。元件圖形112也與第一電極層202同層。第一電極層應為最靠近配向層110的一層，進而由于冗余圖形111和元件圖形112與第一電極層同層，因此冗余圖形111和元件圖形112也最靠近配向層110，此時，當滾輪依次滾過元件圖形112、冗余圖形111之后，滾輪上各處形變基本保持一致，此時滾輪進入配向層110區(qū)域，在配向層上進行摩擦工藝時，提高了配向摩擦的均勻性，改善了配向摩擦顯示不均的情況。
[0058]較佳的，第一電極層為像素電極層或者公共電極層。在邊緣場開關技術(辦1叩6^161(1 3界11x111118，簡稱？巧)或者平面轉換3界11x111118，簡稱1？幻中，第一電極層為公共電極層或者像素電極層；但是在扭曲向列簡稱型中，通常使用柵極電極層作為公共電極層，用于存儲電容，此時柵極電極層是最靠近襯底基底電極層，因此使用像素電極層作為第一電極層。
[0059]具體實施中，元件圖形包括VI端子和/或集成電路端子形成的圖形，這些圖形均是由導電材料制成，例如可用納米銦錫金屬氧化物(匕也皿XIII 0x1(168，簡稱110)制成。較佳的，使用導電材料制作冗余圖形，如110等制成。
[0060]下面詳細介紹冗余圖形的各種可能出現的形狀，本發(fā)明實施例中，只要冗余圖形和元件圖形滿足以下條件即可:沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。對于冗余圖形的具體形狀不做強制性限定。
[0061]較佳的，基于圖4中所示的元件圖形，可以對冗余圖形進行任意設置，圖6示例性示出了一種冗余圖形的排布方式，如圖6所示，冗余圖形在垂直方向107上的尺寸應大于顯示區(qū)域101上沿垂直方向107的尺寸，以使?jié)L輪上需要經過顯示區(qū)域的位置均經過該冗余圖形。
[0062]較佳的，冗余圖形可為多個相互不連通的獨立圖形，即多個圖形之間沒有連接。如圖6所示，冗余圖形305為兩個相互不連通的獨立圖形，其中一個為多邊形，另一個為矩形，此時經過不同路徑，如圖6中第一路徑301、第二路徑302、第三路徑303、第四路徑304，所經過的元件圖形112與冗余圖形305的長度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0063]較佳的，冗余圖形與元件圖形的邊界處應對齊，如圖6中的第一路徑301，經過元件圖形中元件306的下邊界，同時也經過冗余圖形中圖案308的上邊界307。下述幾種冗余圖形的不同形狀中，冗余圖形中的小圖像的邊界均應與元件圖形中的小圖像的邊界對齊，以便保證經過邊界的路徑所經過的元件圖形與冗余圖形的長度總和也滿足條件:沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0064]較佳的，多個相互不連通的獨立圖形為矩形。圖7示例性示出了一種冗余圖形的排布方式，如圖7所示，冗余圖形406由多個相互不連通的獨立矩形組成，獨立矩形407、獨立矩形408、獨立矩形409、獨立矩形410、獨立矩形411、獨立矩形412、獨立矩形413、獨立矩形414、獨立矩形415、獨立矩形416之間均互不連通，相互之間獨立。獨立矩形之間可相互間隔排布，如獨立矩形407與獨立矩形408之間間隔一段距離；獨立矩形之間可錯開排布，也可對齊排布，如獨立矩形407與獨立矩形408的左右邊界對齊排布，而獨立矩形407與獨立矩形414則錯開排布。各個獨立圖形進行排布時，上下邊界應對齊，如獨立矩形408的上邊界與獨立矩形414的下邊界應對齊。如圖7中第一路徑401、第二路徑402、第三路徑403、第四路徑404、第五路徑405，所經過的元件圖形112與冗余圖形406的長度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0065]較佳的，獨立圖形包括沿第一方向延伸的第一矩形和沿第二方向延伸的第二矩形，第一矩形與第二矩形間隔排布，其中，第一方向與第二方向垂直。如圖8所示，第一方向114為水平方向，第二方向115為與第一方向114垂直的垂直方向，較佳的，第一方向114平行于摩擦方向106。圖8示例性示出了一種冗余圖形的排布方式，冗余圖形506由多個相互不連通的獨立圖形組成，如圖8中所示，獨立矩形507、獨立矩形508、獨立矩形509、獨立矩形510、獨立矩形511、獨立矩形512、獨立矩形513、獨立矩形514、獨立矩形515之間均互不連通，相互之間獨立。獨立圖形包括沿第一方向114延伸的第一矩形和沿第二方向115延伸的第二矩形，第一方向114為水平方向，矩形在第一方向114上延伸，即為該矩形長邊延伸方向與第一方向114平行，如獨立矩形507、獨立矩形508、獨立矩形509、獨立矩形510，均為長邊延伸方向與第一方向114平行的第一矩形。第二方向115為垂直方向，矩形在第二方向115上延伸，即為該矩形長邊延伸方向與第二方向平行。獨立矩形511、獨立矩形512均為長邊延伸方向與第二方向115平行的第二矩形。第一矩形與第二矩形間隔排布，如第一矩形中的獨立矩形510與第二矩形中的獨立矩形511之間間隔分布，第一矩形中的獨立矩形相互之間間隔分布，如獨立矩形507、獨立矩形508間隔分布。第二矩形相互之間間隔分布，如獨立矩形511、獨立矩形512之間間隔分布。第一方向114與第二方向115垂直。各個獨立矩形之間的間隔可相等，也可不等。如沿第二方向115獨立矩形507與獨立矩形508之間的間隔、獨立矩形508與獨立矩形509之間的間隔、獨立矩形509與獨立矩形510之間的間隔均相等，獨立矩形509與獨立矩形510之間的間隔、獨立矩形510與獨立矩形511之間的間隔互不相同。如圖8中第一路徑501、第二路徑502、第三路徑503、第四路徑504、第五路徑505，所經過的元件圖形112與冗余圖形506的長度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0066]較佳的，多個相互不連通的獨立圖形包括至少一個第一鏤空區(qū)域。如圖9所示，圖9示例性示出了一種冗余圖形的排布方式，冗余圖形606多個相互不連通的獨立圖形組成，如獨立圖形607、獨立圖形608、獨立圖形609、獨立圖形610、獨立圖形611、獨立圖形612。獨立圖形之間無連接。其中獨立圖形包括至少一個第一鏤空區(qū)域，如獨立圖形607為鏤空區(qū)域，鏤空圖案可為整齊排布，也可錯開排布。如圖9中第一路徑601、第二路徑602、第三路徑603、均經過了第一鏤空區(qū)域。如圖9中第一路徑601、第二路徑602、第三路徑603、第四路徑604、第五路徑605，所經過的元件圖形112與冗余圖形606的長度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0067]較佳的，多個相互不連通的獨立圖形呈陣列排布或交錯排布。獨立圖形可為任意形狀，本實施例中假設獨立圖形為矩形，本領域技術人員可知，該獨立圖形也可為三角形等其它形狀。如圖7中冗余圖形406所示，獨立矩形407、獨立矩形408、獨立矩形409獨立矩形410呈陣列排布。各個圖形之間也可交錯排布，如獨立矩形407、獨立矩形414、獨立矩形408、獨立矩形415之間均為交錯排布。多個相互不連通的獨立圖形也任意排列。
[0068]較佳的，冗余圖形為全連通圖形。如圖10所示，圖形707為一個全連通圖形，四周邊緣部分可為不規(guī)則形狀。較佳的，全連通圖形707中的邊界應與元件圖形的邊界對齊，如全連通圖形707中的邊界708與元件圖形709的下邊界對齊。圖10示例性示出了一種冗余圖形的排布方式，冗余圖形706由一個全連通圖形707組成。如圖10中第一路徑701、第二路徑702、第三路徑703、第四路徑704，所經過的元件圖形112與冗余圖形706的長度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0069]較佳的，全連通圖形包括多個第二鏤空區(qū)域。如圖11所示，圖11示例性示出了一種冗余圖形的排布方式，冗余圖形806包括多個第二鏤空區(qū)域。冗余圖形806包括全連通圖形807，以及多個獨立圖形，如獨立圖形812、獨立圖形813、獨立圖形814。全連通圖形807中包括多個第二鏤空區(qū)域，如第二鏤空區(qū)域808、第二鏤空區(qū)域809、第二鏤空區(qū)域810、第二鏤空區(qū)域811。多個第二鏤空區(qū)域可對齊排布，也可交錯排布，如第二第二鏤空區(qū)域808、第二鏤空區(qū)域809、第二鏤空區(qū)域810、第二鏤空區(qū)域811的左右邊界均對齊。如圖11中第一路徑801、第二路徑802、第三路徑803、第四路徑804、第五路徑805，所經過的元件圖形112與冗余圖形806的長度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0070]較佳的，如圖12所示，圖12示例性示出了一種冗余圖形的排布方式，冗余圖形906包括多個第二鏤空區(qū)域，第二鏤空區(qū)域為矩形，且多個第二鏤空區(qū)域呈陣列排列或交錯排列。如圖12中所示，冗余圖形906包括多個第二鏤空區(qū)域，如第二鏤空區(qū)域907、第二鏤空區(qū)域908、第二鏤空區(qū)域909、第二鏤空區(qū)域910、第二鏤空區(qū)域911、第二鏤空區(qū)域912、第二鏤空區(qū)域913、第二鏤空區(qū)域914、第二鏤空區(qū)域915、第二鏤空區(qū)域916、第二鏤空區(qū)域917。還可包括獨立圖形918、獨立圖形919、獨立圖形920。多個第二鏤空區(qū)域呈陣列排列，如第二鏤空區(qū)域908、第二鏤空區(qū)域910、第二鏤空區(qū)域911的左右邊界均對齊，呈陣列排布。第二鏤空區(qū)域907、第二鏤空區(qū)域909、第二鏤空區(qū)域912、第二鏤空區(qū)域912、第二鏤空區(qū)域914、第二鏤空區(qū)域915、第二鏤空區(qū)域916、第二鏤空區(qū)域917成交錯排列。如圖12中第一路徑901、第二路徑902、第三路徑903、第四路徑904、第五路徑905，所經過的元件圖形112與冗余圖形906的長度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0071]較佳的，全連通圖形為邊緣不規(guī)則的整面圖形，如圖10所示，圖10示例性示出了一種冗余圖形的排布方式，冗余圖形706由一個全連通圖形707組成，全連通圖形707為邊緣不規(guī)則的整面圖形。如圖10中第一路徑701、第二路徑702、第三路徑703、第四路徑704、第五路徑705，所經過的元件圖形112與冗余圖形706的長度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0072]較佳的，冗余圖形由一個全連通圖形組成時，由于冗余圖形為全連通圖形時，與滾輪摩擦會產生較多的靜電，因此較佳的，需將冗余圖形接觸公共電極電位，以便于將由于與冗余圖形摩擦而使?jié)L輪上產生的靜電導入大地。
[0073]通過上述論述可知，本發(fā)明實施例中，由于在顯示區(qū)域和元件區(qū)域之間的走線區(qū)域設置有冗余圖形，因此，滾輪依次滾過元件區(qū)域的元件圖形、走線區(qū)域的冗余圖形，之后進入顯示區(qū)域；進一步由于沿摩擦方向的任意兩條路徑上，其中任一條路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積，因此沿摩擦方向的任意兩條路徑上的冗余圖形和元件圖形長度之和近似相等；從而使?jié)L輪在沿摩擦方向進入顯示區(qū)域之前，滾輪的不同位置經過不同路徑達到顯示區(qū)域時，滾輪的不同位置均滾過了長度近似相等的圖形，從而使?jié)L輪上的各個位置產生了形狀相一致的形變，從而提高了配向摩擦的均勻性，改善了配向摩擦顯示不均的情況。
[0074]圖13示例性示出了一種顯示裝置的結構示意圖，圖14為圖13沿截面8-8’的剖面結構示意圖。
[0075]基于相同構思，本發(fā)明實施例還提供一種顯示裝置，如圖13、圖14所示，包括上述內容所論述的顯示基板，從圖13、圖14中可看出，配向層預設摩擦方向為水平方向106，該顯示基板包括襯底基板1004、配向層1003，以及設置于襯底基板1004與配向層1003之間的第一電極層1006，還包括冗余圖形1002、元件圖形1005，較佳的，冗余圖形1002與第一電極層1006同層。顯示基板和冗余圖形的特性與上述論述內容一致，在此不再贅述。
[0076]較佳的，如13、圖14所示，該顯示裝置還包括彩色濾光片基板1001，以及封框膠區(qū)1009，較佳的，冗余圖形1002設置于封框膠區(qū)1009與彩色濾光片基板1001邊界之間。此時，冗余圖形可被彩色濾光片基板1001封裝并保護起來。
[0077]從上述內容可以看出:本發(fā)明實施例中，襯底包括顯示區(qū)域和元件區(qū)域，以及設置在顯示區(qū)域和元件區(qū)域之間且圍繞顯示區(qū)域的走線區(qū)域；在襯底上設置具有預設摩擦方向的配向層，在走線區(qū)域設置有冗余圖形，在元件區(qū)域設置有元件圖形；沿摩擦方向的任意兩條路徑上，其中任一條路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
[0078]由于在顯示區(qū)域和元件區(qū)域之間的走線區(qū)域設置有冗余圖形，因此，滾輪依次滾過元件區(qū)域的元件圖形、走線區(qū)域的冗余圖形，之后進入顯示區(qū)域；進一步由于沿摩擦方向的任意兩條路徑上，其中任一條路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上冗余圖形和元件圖形沿摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積，因此沿摩擦方向的任意兩條路徑上的冗余圖形和元件圖形長度之和近似相等；從而使?jié)L輪在沿摩擦方向進入顯示區(qū)域之前，滾輪的不同位置經過不同路徑達到顯示區(qū)域時，滾輪的不同位置均滾過了長度近似相等的圖形，從而使?jié)L輪上的各個位置產生了形狀相一致的形變，從而提高了配向摩擦的均勻性，改善了配向摩擦顯示不均的情況。
[0079]盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施例，但本領域內的技術人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實施例作出另外的變更和修改。所以，所附權利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實施例以及落入本發(fā)明范圍的所有變更和修改。
[0080]顯然，本領域的技術人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權利要求及其等同技術的范圍之內，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內。
【權利要求】
1.一種顯示基板，其特征在于，包括: 襯底基板，所述襯底基板包括顯示區(qū)域和元件區(qū)域，以及設置在所述顯示區(qū)域和元件區(qū)域之間且圍繞所述顯示區(qū)域的走線區(qū)域； 設置于所述襯底基板上的配向層，所述配向層具有預設的摩擦方向； 設置于所述襯底基板走線區(qū)域的冗余圖形，設置于所述襯底基板元件區(qū)域的元件圖形，其中，沿摩擦方向的任意兩條路徑上，一路徑上所述冗余圖形和元件圖形沿所述摩擦方向上的長度之和不大于另一路徑上所述冗余圖形和元件圖形沿所述摩擦方向上的長度之和與閾值的乘積。
2.如權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述閾值為105%。
3.如權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，還包括設置于所述襯底基板與所述配向層之間的第一電極層，所述冗余圖形與所述第一電極層同層。
4.如權利要求3所述的顯示基板，其特征在于，所述第一電極層為像素電極層或者公共電極層。
5.如權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述冗余圖形為多個相互不連通的獨立圖形。
6.如權利要求5所述的顯示基板，其特征在于，多個相互不連通的所述獨立圖形為矩形。
7.如權利要求5所述的顯示基板，其特征在于，所述獨立圖形包括沿第一方向延伸的第一矩形和沿第二方向延伸的第二矩形，所述第一矩形與所述第二矩形間隔排布，其中，所述第一方向與所述第二方向垂直。
8.如權利要求5所述的顯示基板，其特征在于，多個相互不連通的所述獨立圖形包括至少一個第一鏤空區(qū)域。
9.如權利要求5所述的顯示基板，其特征在于，多個相互不連通的所述獨立圖形呈陣列排布或交錯排布。
10.如權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述冗余圖形為全連通圖形。
11.如權利要求10所述的顯示基板，其特征在于，所述全連通圖形包括多個第二鏤空區(qū)域。
12.如權利要求11所述的顯示基板，其特征在于，所述第二鏤空區(qū)域為矩形，且多個所述第二鏤空區(qū)域呈陣列排列或交錯排列。
13.如權利要求10所述的顯示基板，其特征在于，所述全連通圖形為邊緣不規(guī)則的整面圖形。
14.如權利要求10所述的顯示基板，其特征在于，所述冗余圖形接觸公共電極電位。
15.如權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述元件圖形包括虛擬測試VT端子和/或集成電路端子形成的圖形。
16.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1至15所述的顯示基板。
17.如權利要求16所述的顯示裝置，其特征在于，還包括彩色濾光片基板，所述冗余圖形設置于所述封框膠區(qū)與彩色濾光片基板邊界之間。
【文檔編號】G02F1/1337GK104483780SQ201410790742
【公開日】2015年4月1日 申請日期:2014年12月17日 優(yōu)先權日:2014年12月17日
【發(fā)明者】席克瑞, 汪梅林, 李峻, 張新彥 申請人:上海中航光電子有限公司, 天馬微電子股份有限公司