抗蝕劑層的薄膜化裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型的課題在于提供一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，在能夠解決分辨性和追隨性的問題的抗蝕劑圖案形成用的抗蝕劑層的薄膜化裝置中，能夠解決以緩慢、不均勻的液流為原因所發(fā)生的基板面內(nèi)抗蝕劑層的薄膜化量變得不均勻的問題。在具備通過薄膜化處理液使抗蝕劑層中的光交聯(lián)樹脂成分膠束化的薄膜化處理單元，和通過膠束除去液將膠束除去的膠束除去處理單元的抗蝕劑層的薄膜化裝置中，其特征在于，膠束除去處理單元具有用于供給膠束除去液的膠束除去液供給噴霧，膠束除去液噴霧朝向單一方向，通過上述抗蝕劑層的薄膜化裝置能夠解決問題。
【專利說明】抗蝕劑層的薄膜化裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本實用新型涉及抗蝕劑層的薄膜化裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著電氣及電子部件的小型化、輕量化、多功能化，對于以回路形成用的干膜抗蝕齊U、焊料抗蝕劑為首的感光性樹脂(感光性材料)，為了對應(yīng)于印刷配線板的高密度化而要求高分辨率。由這些感光性樹脂實現(xiàn)的圖像形成通過在將感光性樹脂曝光后顯影來進行。
[0003]為了對應(yīng)于印刷配線板的小型化、高功能化，感光性樹脂有薄膜化的傾向。在感光性樹脂中有涂敷液體而使用的類型(液狀抗蝕劑)和干膜類型(干膜抗蝕劑)。最近，開發(fā)了15 μ m以下的厚度的干膜抗蝕劑，其產(chǎn)品化正在推進。但是，在這樣的薄的干膜抗蝕劑中，與以往的厚度的抗蝕劑相比，密接性及對凹凸的追隨性不充分，有發(fā)生剝離或空隙等的問題。
[0004]此外，作為用干膜實現(xiàn)高分辨率化的方法，有在曝光前將感光性樹脂上具備的支承膜剝離、不夾著支承膜而曝光的方法。在此情況下，也有使光學(xué)工具(光掩模)直接密接在感光性樹脂上的情況。但是，由于感光性樹脂通常具有某種程度的粘附性，所以在使光學(xué)工具直接密接在感光性樹脂上而進行曝光的情況下，密接的光學(xué)工具的除去變得困難。此夕卜，由感光性樹脂將光學(xué)工具污染、或者因?qū)⒅С心冸x而感光性樹脂暴露在大氣中的氧中等，光感度容易下降。
[0005]為了改善上述的問題，提出了在使用較厚的感光性樹脂的同時能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率的各種手段。例如，在通過減去法制作導(dǎo)電圖案的方法中，公開了下述導(dǎo)電圖案的形成方法，其特征在于，在絕緣層的單面或兩面上設(shè)置金屬層而成的層疊基板上粘貼干膜抗蝕劑而形成抗蝕劑層后，進行抗蝕劑層的薄膜化工序，接著，進行回路圖案的曝光工序、顯影工序、蝕刻工序(例如參照專利文獻I)。此外，在形成焊料抗蝕劑圖案的方法中，公開了下述焊料抗蝕劑圖案的形成方法，其特征在于，在具有導(dǎo)電性圖案的回路基板上形成由焊料抗蝕劑構(gòu)成的抗蝕劑層后，進行抗蝕劑層的薄膜化工序，接著進行圖案曝光工序，再次進行抗蝕劑層的薄膜化工序(例如參照專利文獻2及3)。
[0006]此外，在專利文獻4中公開了一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，至少包括四個處理單元:薄膜化處理單元，將形成有抗蝕劑層的基板浸潰(dip)到高濃度的堿性水溶液(薄膜化處理液)中而將抗蝕劑層的成分的膠束先不溶化，使其不易溶解擴散到處理液中；膠束除去處理單元，通過膠束除去液噴霧而將膠束一下子溶解除去；水洗處理單元，將表面用水清洗；干燥處理單元，將水洗水除去。
[0007]對于抗蝕劑層的薄膜化裝置的一部分，使用圖1所示的概略剖視圖進行說明。在薄膜化處理單元11中，從投入口 7投入形成了抗蝕劑層的基板3?；?被運送輥對4在浸潰在浸潰槽2中的薄膜化處理液I中的狀態(tài)下運送，進行抗蝕劑層的薄膜化處理。然后，將基板3向膠束除去處理單元12運送。在膠束除去處理單元12中，對于由運送輥對4運送來的基板3，通過膠束除去液供給管20從膠束除去液用噴嘴21供給膠束除去液噴霧22。將基板3上的抗蝕劑層在薄膜化處理單元11內(nèi)部的浸潰槽2中通過作為高濃度的堿性水溶液的薄膜化處理液1，使抗蝕劑層的成分的膠束對于薄膜化處理液I先不溶化。然后，通過用膠束除去液噴霧22將膠束除去，使抗蝕劑層薄膜化。在專利文獻4中，有“膠束除去通過膠束除去液噴霧22—下子進行是重要的，優(yōu)選的是在一定以上的水壓和流量的條件下迅速地進行”的記述。
[0008]在以往的各種液處理方法及裝置中，作為使用噴霧的供液方法，通常有從固定式或者擺動式的噴霧噴嘴對于基板表面垂直地噴射液體的方法，通過擺頭式的噴霧噴嘴使液體到達基板表面的角度不停變化地噴射液體的方法等。在這些以往的供液方法中，基板上的液流因緩慢且容易變得不均勻。因此，在這些供液方法中，在抗蝕劑層的薄膜化工序中進行了膠束除去處理的情況下，有膠束除去變得不均勻、抗蝕劑層的薄膜化處理量變得不均勻的情況。
[0009]為了解決這種問題，在專利文獻5中，公開了通過使噴霧噴嘴相對于基板運送方向而向直角的寬度方向傾斜，其傾斜角度為30?70度的范圍，改善了基板上的膠束除去液的液流的薄膜化方法。但是，在專利文獻5中，雖然記載了噴霧噴嘴的傾斜角度，但沒有關(guān)于噴霧噴嘴的朝向的記載。因此，僅調(diào)整角度，有發(fā)生相對于基板運送方向正交的右朝向和左朝向的膠束除去液的流動的情況，依然存在基板上的膠束除去液的液流因緩慢而變得不均勻、抗蝕劑層的薄膜化量變得不均勻的情況。
[0010]此外，在圖1所示的抗蝕劑層的薄膜化裝置中，在從經(jīng)過薄膜化處理單元11內(nèi)部的浸潰槽2的出口輥對5的地點到開始由膠束除去處理單元12的膠束除去液噴霧22進行的膠束除去處理之間，僅存在I對邊界部的運送輥對6。圖2是在抗蝕劑層的薄膜化裝置中、邊界部的運送輥對6的放大概略剖視圖。當(dāng)基板3穿過邊界部的運送輥對6之際，邊界部的運送輥對6的上側(cè)輥被抬起基板3的厚度的量，在與下側(cè)輥之間出現(xiàn)間隙24。這里，如果從穿過邊界部的運送輥對6的地點起，將膠束除去液噴霧22向基板3上的抗蝕劑層表面供給，則膠束除去液噴霧22的液流擴散到抗蝕劑層整個表面上，有經(jīng)過在邊界部的運送輥對6的上側(cè)輥與下側(cè)輥之間出現(xiàn)的間隙24向薄膜化處理單元11內(nèi)倒流的情況。在基板3的厚度較大的情況下，由于間隙24也變大，所以倒流的膠束除去液10的量有增加的傾向。如果膠束除去液10倒流到薄膜化處理單元11內(nèi)，作為高濃度的堿性水溶液的薄膜化處理液I與膠束除去液10混合，則薄膜化處理液I的濃度下降，有容易發(fā)生薄膜化處理的處理不均的情況。
[0011 ] 這樣，薄膜化后的抗蝕劑層的厚度變得不均勻，如果在薄膜化后的抗蝕劑層中有厚度薄的部分，則在減去法的導(dǎo)電圖案形成中成為回路的斷線的原因，在焊料抗蝕劑的圖案形成中成為耐候性下降的原因，有哪種都帶來生產(chǎn)的成品率的下降的問題。
[0012]進而，在圖1所示的抗蝕劑層的薄膜化裝置中，在從穿過膠束除去處理單元12內(nèi)部的出口輥對30的地點到開始水洗處理單元31的水洗處理液噴霧37進行水洗處理的之間僅存在一對的邊界部的運送輥對33。薄膜化處理單元11與膠束除去處理單元12的邊界部的運送輥對6也同樣，在基板3通過邊界部的運送輥對33之際，邊界部的運送輥對33的上側(cè)輥被抬起基板3的厚度的量，在與下側(cè)輥之間出現(xiàn)間隙。若膠束除去液噴霧22通過該間隙流入水洗處理單元31內(nèi)，則有水洗處理液32被抗蝕劑層的成分溶解分散后的膠束除去液10污染，薄膜化處理后的清洗效率下降的情況。
[0013]專利文獻1:國際公開第2009/096438號手冊，[0014]專利文獻2:日本特開2011 - 192692號公報，
[0015]專利文獻3:國際公開第2012/043201號手冊，
[0016]專利文獻4:日本特開2012 - 27299號公報，
[0017]專利文獻5:日本特開2012 - 59755號公報。
實用新型內(nèi)容
[0018]本實用新型的課題是提供一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，在能夠解決分辨性和追隨性的問題的抗蝕劑圖案形成用的抗蝕劑層的薄膜化裝置中，能夠解決以緩慢、不均勻的液流為原因所發(fā)生的基板面內(nèi)抗蝕劑層的薄膜化量變得不均勻的問題。
[0019]此外，提供一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，能夠防止膠束除去液倒流到薄膜化處理單元中、與薄膜化處理液混合而薄膜化處理液的濃度下降，解決抗蝕劑層的薄膜化處理量變得不均勻的問題。
[0020]進而，提供一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，能夠解決膠束除去液流入水洗處理單元、水洗處理液被抗蝕劑層的成分溶解分散后的膠束除去液汚染、薄膜化處理后的清洗效率下降的問題。
[0021 ] 本實用新型者們發(fā)現(xiàn)，通過下述技術(shù)方案，能夠解決這些課題。
[0022](I) 一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，具備通過薄膜化處理液使抗蝕劑層中的光交聯(lián)性樹脂成分膠束化的薄膜化處理單元，和通過膠束除去液將膠束除去的膠束除去處理單元，其特征在于，膠束除去處理單元具有用于供給膠束除去液的膠束除去液供給噴霧，膠束除去液噴霧朝向單一方向。
[0023]( 2 )如上述(I)所記載的抗蝕劑層的薄膜化裝置，在膠束除去液噴霧的噴射方向的下游側(cè)設(shè)有膠束除去液回收用的排放部。
[0024](3)如上述(2)所記載的抗蝕劑層的薄膜化裝置，膠束除去液回收用的排放部設(shè)置在膠束除去處理單元中相對于運送方向最前列和最后列的膠束除去液噴霧的噴射方向的下游側(cè)。
[0025]根據(jù)本實用新型，能夠提供一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，在能夠解決分辨性和追隨性的問題的抗蝕劑圖案形成用的抗蝕劑層的薄膜化裝置中，能夠解決以緩慢、不均勻的液流為原因所發(fā)生的基板面內(nèi)抗蝕劑層的薄膜化量變得不均勻的問題。
[0026]此外，能夠提供一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，能夠防止膠束除去液向薄膜化處理單元倒流，與薄膜化處理液混合而薄膜化處理液的濃度下降，解決抗蝕劑層的薄膜化量變得不均勻的問題。
[0027]進而，能夠提供一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，能夠解決膠束除去液流入水洗處理單元，水洗處理液被抗蝕劑層的成分溶解分散后的膠束除去液污染，薄膜化處理后的清洗效率下降的問題。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0028]圖1是表示抗蝕劑層的薄膜化裝置的一部分的概略剖視圖；
[0029]圖2是抗蝕劑層的薄膜化裝置中邊界部的運送輥對的放大概略剖視圖；
[0030]圖3是表示本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置的一例的概略圖；[0031]圖4是表示本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置的一例的概略圖；
[0032]圖5是表示本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置的一例的概略圖；
[0033]圖6是表示本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置的一例的概略圖；
[0034]圖7是表示本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置的一例的概略圖；
[0035]圖8是在本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置中、表示膠束除去液的液流的一例的概略圖；
[0036]圖9是在本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置中、表示膠束除去液噴霧的配置例的概略圖；
[0037]圖10是在本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置中、表示排放部的配置例的概略圖；
[0038]圖11是在本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置中、表示排放部的一例的概略圖；
[0039]圖12是在本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置中、表示排放部的一例的概略圖；
[0040]圖13是在本實用新型之外的抗蝕劑層的薄膜化裝置中、表示膠束除去液噴霧的配置例的概略圖；
[0041]圖14是在本實用新型之外的抗蝕劑層的薄膜化裝置中、表示膠束除去液噴霧的配置例的概略圖；
[0042]圖15是在本實用新型之外的抗蝕劑層的薄膜化裝置中、表示膠束除去液噴霧的配置例的概略圖。
[0043]附圖標(biāo)記說明:
[0044]1:薄膜化處理液，2:浸潰槽，3:基板，4:運送輥，5:浸潰槽的出口輥，6:邊界部的運送輥(筆直型)，7:投入口，10:膠束除去液，11:薄膜化處理單元，12:膠束除去處理單元，
13:薄膜化處理液貯藏容器，14:薄膜化處理液吸入口，15:薄膜化處理液供給管，16:薄膜化處理液回收管，17:薄膜化處理液排放管，18:膠束除去液貯藏容器，19:膠束除去液吸入口，20:膠束除去液供給管，21:膠束除去液用噴嘴，22:膠束除去液噴霧(充圓錐型)，23:膠束除去液排放管，24:間隙，30:膠束除去處理單元的出口輥(筆直型)，31:水洗處理單元，32:水洗處理液，33:邊界部的運送輥，34:水洗處理液吸入口，35:水洗處理液供給管，36:水洗處理液用噴嘴，37:水洗處理液噴霧(扇形類型)，38:運送輥軸的軸承側(cè)板，39:排放部，40:膠束除去液的流動方向，41:運送輥(環(huán)型)，42:飛散的膠束除去液的流動方向，43:噴霧的噴射方向，44:基板的運送方向，45:相對于基板的垂線，46:噴霧噴嘴的中心線，47:傾斜角度。
【具體實施方式】
[0045]在說明本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置之前，對抗蝕劑層的薄膜化工序進行說明。
[0046]<抗蝕劑層的薄膜化工程>
[0047]薄膜化處理液進行的抗蝕劑層的薄膜化工序是包括通過薄膜化處理液將抗蝕劑層中的成分的膠束先不溶化、使其不易溶解擴散到處理液中的薄膜化處理，和通過膠束除去液噴霧一下子將膠束溶解除去的膠束除去處理的工序。進而還可以包括將沒有完全除去的抗蝕劑層表面或殘留附著的薄膜化處理液及膠束除去液通過水洗沖洗的水洗處理、將水洗水除去的干燥處理。
[0048](i)薄膜化處理
[0049]薄膜化處理液進行的薄膜化處理也可以使用葉片處理、噴霧處理、擦刷、刮削等的方法，但優(yōu)選的是通過浸潰處理進行。在浸潰處理中，將形成有抗蝕劑層的基板浸潰(dip)到薄膜化處理液中。浸潰處理以外的處理方法有容易在堿性水溶液中產(chǎn)生氣泡、該產(chǎn)生的氣泡在薄膜化處理中附著在抗蝕劑層表面上、膜厚變得不均勻的情況。在使用噴霧處理等的情況下，必須使噴霧壓盡可能小，以便不產(chǎn)生氣泡。
[0050]以抗蝕劑層形成后的厚度和抗蝕劑層薄膜化的量決定薄膜化后的抗蝕劑層的厚度。此外，能夠在0.01?500 μ m的范圍中自由地調(diào)整抗蝕劑層的薄膜化量。
[0051](ii)抗蝕劑
[0052]作為抗蝕劑能夠使用堿性顯影型的抗蝕劑。此外，無論是液狀抗蝕劑還是干膜抗蝕劑，只要是能夠通過高濃度的堿性水溶液(薄膜化處理液)薄膜化、且能夠借助作為比薄膜化處理液還低濃度的堿性水溶液的顯影液而顯影的抗蝕劑則可以使用任意的抗蝕劑。堿性顯影型的抗蝕劑包含光交聯(lián)性樹脂成分。光交聯(lián)性樹脂成分例如含有從堿性可溶性樹月旨、光聚合性化合物中選擇出的至少一種，進而含有光聚合引發(fā)劑等。此外也可以含有環(huán)氧化合物、環(huán)氧樹脂、熱硬化劑、無機填充物等。
[0053]作為堿性可溶性樹脂，可以舉出例如丙烯酸系樹脂、甲基丙烯系樹脂、苯乙烯系樹月旨、環(huán)氧系樹脂、酰胺系樹脂、酰胺環(huán)氧系樹脂、醇酸系樹脂、酚醛系樹脂的有機高分子。作為堿可溶性樹脂，優(yōu)選聚合(自由基聚合等)具有乙烯性不飽和雙鍵的單體(聚合性單體)而得到的樹脂。這些向堿性水溶液可溶的聚合體既可以單獨使用，也可以組合兩種以上使用。
[0054]作為具有乙烯性不飽和雙鍵的單體，例如可以舉出苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯、ρ-甲基苯乙烯、ρ-乙基苯乙烯、ρ-甲氧基苯乙烯、ρ-乙氧基苯乙烯、ρ-氯苯乙烯、P-溴苯乙烯等的苯乙烯衍生物；雙丙酮丙烯酰胺等的丙烯酰胺；丙烯腈；乙烯-η- 丁基醚等的乙烯醇的酯類；(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸四氫糠醇酯、(甲基)丙烯酸二甲氨基酯、(甲基)丙烯酸二乙胺基乙醇酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、2，2，2_三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2，2，3，3_四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、α-溴(甲基)丙烯酸、α-氯(甲基)丙烯酸、呋喃基(甲基)丙烯酸、苯乙烯基(甲基)丙烯酸等的(甲基)丙烯酸單酯；馬來酸、馬來酸無水物、馬來酸單甲基、馬來酸單乙基、馬來酸單異丙基等的馬來酸系單體；富馬酸酸、肉桂酸、α -氰化肉桂酸、衣康酸、巴豆酸、丙炔酸等。
[0055]作為光聚合性化合物，可以舉出例如令多價乙醇與α，β-不飽和羥酸反應(yīng)而得到的化合物；雙酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物；令縮水甘油基含有化合物與α，β -不飽和羥酸反應(yīng)而得到的化合物；在分子內(nèi)具有尿烷鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物等的尿烷單體；壬基苯氧基聚乙烯烴基丙烯酸酯；Υ-氯-β-羥丙基-β '-(甲基)丙烯酰氧乙基-ο-酞酸酯、β-羥烷基-(甲基)丙烯酰氧烷基-ο-酞酸酯等的酞酸系化合物；(甲基)丙烯酸烷基酯、Ε0、Ρ0變性壬苯基(甲基)丙烯酸酯等。這里，EO及PO表示乙烯氧化物及丙烯氧化物，EO變性后的化合物是具有乙烯氧化物基的塊構(gòu)造的化合物，PO變性后的化合物是具有丙烯氧化物基的塊構(gòu)造的化合物。這些光聚合性化合物可以單獨使用，或者也可以組合兩種以上地使用。
[0056]作為光聚合引發(fā)劑，可以舉出二苯甲酮、N，N'-四甲基-4,4' _ 二氨基二苯甲酮(米氏酮)、N，N'-四乙基-4，4' -二氨基二苯甲酮、4-甲氧基-4' -二甲氨基二苯酮、2-苯-2-二甲氨基-1- (4-嗎啉基苯基)-丁酮-1、2-甲基-1- [4-(甲硫基)苯]-2-嗎啉基-丙酮-1等的芳香族酮；2-乙基蒽醌、菲醌、2-tert-叔丁基蒽醌、八甲基蒽醌、1，2_苯蒽醌、2，3-苯蒽醌、2-苯蒽醌、2，3-二苯蒽醌、1-氯蒽醌、2-甲基蒽醌、1，4_萘醌、9，10-菲醌、2-甲基-1，4-萘醌、2，3_ 二甲基蒽醌等的醌類；安息香甲基醚、安息香乙醚、安息香苯醚等的安息香醚化合物；安息香、甲基安息香、乙基安息香等的安息香化合物；苯偶酰二甲基縮酮等的苯甲基衍生物；2-(0-氯苯)-4, 5- 二苯咪唑二聚體、2-(0-氯苯)-4, 5- 二(甲氧基苯)咪唑二聚體、2- (ο-氟苯基)-4，5-二苯咪唑二聚體，2- (ο-甲氧基苯)_4，5-二苯咪唑二聚體、2-(p-甲氧基苯)-4，5-二苯咪唑二聚體等的2，4，5-三芳基咪唑二聚體；9_苯基吖啶、1，7-雙(9，9'-吖啶)庚烷等的吖衍生物；2，4，6-三甲基苯甲酰-二苯基-氧化膦、雙(2，4，6-三甲基苯甲酰)-苯基氧化膦等的酰基氧化膦化合物；1，2_辛烷二酮1- [4-(苯硫基)苯基]-2- (O-苯甲酰肟)、乙酮1- [9-乙基-6- (2-甲基苯甲酰)-9H-咔唑-3-基]-1- (O-乙?；?等的肟酯；氧基苯乙酸2- [2-氧代-2-苯基乙酰氧基乙氧基]乙酯、氧基苯乙酸2- (2-羥乙氧基)乙酯等的羥基苯乙酸酯；雙(η5-2，4-環(huán)戊二烯-1-基)-雙(2，6_ 二氟代-3- (IH-吡咯-1-基)-苯基)鈦等的茂鈦化合物；Ν-苯甘氨酸、N-苯甘氨酸衍生物、香豆素系化合物等。上述2，4，5-三芳基咪唑二聚體中的兩個2，4，5-三芳基咪唑的芳基的置換基可以是相同且對稱的化合物，也可以是不同而非對稱的化合物。此外，也可以如二乙基噻噸酮和對二甲氨基苯甲酸的組合那樣將噻噸酮系化合物和叔胺化合物組合。這些單獨地、或者組合兩種以上地使用。
[0057]環(huán)氧化合物及環(huán)氧樹脂有時作為硬化劑使用。令使其與堿性可溶性樹脂的羧酸反應(yīng)從而交聯(lián)，實現(xiàn)耐熱性及耐藥性的特性的提高，但由于羧酸和環(huán)氧在常溫下也發(fā)生反應(yīng)，所以保存穩(wěn)定性差，堿性顯影型的焊料抗蝕劑一般多采用在使用前混合的2液性的形態(tài)。有時也使用無機填充物，舉出可以例如滑石、硫酸鋇、二氧化硅等。
[0058]在基板的表面形成抗蝕劑層的方法任意方法都可以，例如可以舉出絲網(wǎng)印刷法、輥涂層法、噴霧法、浸潰法、幕式涂敷法、條碼法、氣刀法、熱熔法、雕刻滾筒涂層法、刷毛涂刷法、膠印印刷法。干膜抗蝕劑的情況下，優(yōu)選使用層疊法。
[0059](iii)基板
[0060]作為基板，能夠舉出印刷配線板用基板、引線框架用基板；加工印刷配線板用基板及引線框架用基板而得到的回路基板。
[0061]作為印刷配線板用基板，例如可以舉出撓性基板、剛性基板。
[0062]撓性基板的絕緣層的厚度為5?125 μ m，在其兩面或者單面設(shè)置I?35 μ m的金屬層而成為層疊基板，可撓性大。絕緣層的材料通常使用聚酰亞胺、聚酰胺、聚苯硫醚、聚對苯二甲酸乙二醇脂、液晶聚合物等。在絕緣層上具有金屬層的材料可以使用通過下述等的方法制造的材料:利用粘合劑貼合的粘合法、在金屬箔上涂敷樹脂液的鑄造法、在利用濺鍍及蒸鍍法形成在樹脂薄膜上的厚度數(shù)nm的薄的導(dǎo)電層(種子層)上利用電鍍形成金屬層的濺射/電鍍法，利用熱沖壓而貼付的層疊法等的任意一個。作為金屬層的金屬能夠使用銅、鋁、銀、鎳、鉻、或者這些的合金等的任意金屬，但一般為銅。
[0063]剛性基板可以舉出下述層疊基板:在紙基材或者玻璃基材上層疊浸潰了環(huán)氧樹脂或者酚醛樹脂等的絕緣性基板而作為絕緣層，在其單面或者兩面載置金屬箔，通過加熱及加壓進行層疊而設(shè)置金屬層。此外，可以舉出在內(nèi)層配線圖案加工后層疊預(yù)成形料、金屬箔等而制作的多層用的密封板、具有貫通孔及非貫通孔的多層板。根據(jù)厚度為60 μ m?3.2mm且作為印刷配線板的最終使用形態(tài)而選定其材質(zhì)和厚度。作為金屬層的材料可以舉出銅、鋁、銀、金等，但一般為銅。這些印刷配線板用基板的例子記載于《印刷回路技術(shù)便覽-第二版-》((社)印刷回路學(xué)會編，1987年刊，日刊工業(yè)新聞社發(fā)刊)及《多層印刷回路手冊》(J.A.Scarlett編，1992年刊，(株)近代化學(xué)社發(fā)刊)。
[0064]作為引線框架用基板能夠舉出鐵鎳合金、銅系合金等的基板。
[0065]回路基板是在絕緣性基板上形成有用于連接半導(dǎo)體芯片等的電子部件的連接焊盤的基板。連接焊盤由銅等金屬構(gòu)成。此外，在回路基板上也可以形成導(dǎo)體配線。制作回路基板的方法例如可以舉出減去法、半添加法、添加法。在減去法中，例如在上述的印刷配線板用基板上形成蝕刻抗蝕劑圖案，進行曝光工序、顯影工序、蝕刻工序、抗蝕劑剝離工序而制作回路基板。
[0066]以下，對本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置詳細地進行說明。
[0067]<抗蝕劑層的薄膜化裝置>
[0068]圖3?圖7是表示本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置(以下有時簡稱為「薄膜化裝置」)的一例的概略圖，是從上方觀察薄膜化裝置的附圖。本實用新型的薄膜化裝置是具備通過薄膜化處理液I使抗蝕劑層中的成分膠束化的薄膜化處理單元11，通過膠束除去液噴霧22將膠束除去的膠束除去處理單元12，及通過水洗處理液噴霧37清洗抗蝕劑層表面的水洗處理單元31的抗蝕劑層的薄膜化裝置。
[0069]首先使用圖1對現(xiàn)有技術(shù)中的薄膜化裝置與本實用新型的薄膜化裝置中共同的構(gòu)造部分進行說明。在薄膜化處理單元11中，從投入口 7投入的形成有抗蝕劑層的基板3被運送輥對4在浸潰在浸潰槽2中的薄膜化處理液I中的狀態(tài)下運送，穿過浸潰槽2的出口輥對5。通過這些處理，將基板3上的抗蝕劑層中的成分用薄膜化處理液I膠束化，使該膠束相對于薄膜化處理液I不溶化。
[0070]薄膜化處理液I被薄膜化處理液供給用泵(未圖示)從薄膜化處理液貯藏容器13中的薄膜化處理液吸入口 14吸入，經(jīng)過薄膜化處理液供給管15向浸潰槽2供給。供給到浸潰槽2中的薄膜化處理液I溢流，經(jīng)過薄膜化處理液回收管16由薄膜化處理液貯藏容器13回收。這樣，薄膜化處理液I在浸潰槽2與薄膜化處理貯藏容器13之間循環(huán)。從薄膜化處理液排放管17將剩余的薄膜化處理液I排出。
[0071]作為在作為薄膜化處理液I使用的堿性水溶液中使用的堿性化合物，例如可以舉出鋰、鈉或者鉀等的堿金屬硅酸鹽、堿金屬氫氧化物、堿金屬磷酸鹽、堿金屬碳酸鹽、銨磷酸鹽、銨碳酸鹽等的無機堿性化合物；單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、甲基胺、二甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、環(huán)己胺、四甲基氫氧化銨(TMAH)、四乙基氫氧化銨、三甲基-2-羥乙基氫氧化銨(膽堿，Choline)等的有機堿性化合物。這些堿性化合物既可以單獨使用，也可以作為混合物使用。在作為薄膜化處理液I的媒體的水中，可以使用自來水、工業(yè)用水、純水等，但特別優(yōu)選的是使用純水。
[0072]堿性化合物的含有量能夠在0.1質(zhì)量％以上50質(zhì)量％以下地使用。此外,為了令抗蝕劑層表面更均勻地薄膜化,也可以在薄膜化處理液I中添加硫酸鹽、亞硫酸鹽。作為硫酸鹽或亞硫酸鹽，可以舉出鋰、鈉或者鉀等的堿金屬硫酸鹽或亞硫酸鹽、鎂、鈣等的堿土類金屬硫酸鹽或者亞硫酸鹽。
[0073]作為薄膜化處理液I的堿性化合物，在這些之中，特別優(yōu)選的是使用含有從堿金屬碳酸鹽、堿金屬磷酸鹽、堿金屬氫氧化物、堿金屬硅酸鹽中選擇的無機堿性化合物、從TMAH、膽堿中選擇的有機堿性化合物。這些堿性化合物既可以單獨使用，也可以作為混合物使用。此外，堿性化合物的含有量是5?25質(zhì)量％的堿性水溶液由于能夠使表面更均勻地薄膜化，所以能夠優(yōu)選地使用。在堿性化合物的含有量不到5質(zhì)量％時，薄膜化的處理中有時會容易發(fā)生不均。此外，如果超過25質(zhì)量％，則容易引起堿性化合物的析出，有時液體的經(jīng)時穩(wěn)定性、作業(yè)性變差。更優(yōu)選堿性化合物的含有量為7?17質(zhì)量％，更加優(yōu)選為8?13質(zhì)量％。作為薄膜化處理液I使用的堿性水溶液的pH優(yōu)選的是10以上。此外，也可以適當(dāng)添加界面活性劑、消泡劑、溶劑等。
[0074]作為薄膜化處理液I使用的堿性水溶液的溫度優(yōu)選的是15?35°C，更優(yōu)選的是20?30°C。如果溫度過低，則有堿性化合物向抗蝕劑層的滲透速度變慢的情況，需要長時間才能薄膜化出希望的厚度。另一方面，如果溫度過高，則由于在堿性化合物向抗蝕劑層的滲透的同時進行溶解擴散，有容易在面內(nèi)發(fā)生膜厚不均的情況。
[0075]在膠束除去處理單元12中，在薄膜化處理單元11中將使抗蝕劑層對于薄膜化處理液I不溶化的基板3通過運送輥對4運送。對于運送來的基板3，通過膠束除去液噴霧22供給膠束除去液10，將抗蝕劑層的成分的膠束一下子溶解除去。
[0076]膠束除去液10用膠束除去液供給用泵(未圖示)從膠束除去液貯藏容器18中的膠束除去液吸入口 19吸入，經(jīng)過膠束除去液供給管20從膠束除去液用噴嘴21作為膠束除去液噴霧22噴射。膠束除去液噴霧22在從基板3上流下后，由膠束除去液貯藏容器18回收。這樣，膠束除去液10在膠束除去處理單元12內(nèi)循環(huán)。從膠束除去液排放管23將剩余量的膠束除去液10排出。
[0077]作為膠束除去液10，也可以使用水，但優(yōu)選的是使用比薄膜化處理液I稀的含有堿性化合物的PH5?10的水溶液。通過膠束除去液10，將由薄膜化處理液不溶化的抗蝕劑層的成分的膠束再分散而除去。作為在膠束除去液10中使用的水,可以使用自來水、工業(yè)用水、純水等，但特別優(yōu)選的是使用純水。在膠束除去液10的pH不到5的情況下，有抗蝕劑層的成分凝聚而成為不溶性的淤渣、附著在薄膜化后的抗蝕劑層表面上的情況。另一方面，在膠束除去液10的pH超過10的情況下，有抗蝕劑層過度地溶解擴散、在面內(nèi)薄膜化的抗蝕劑層的厚度變得不均勻而形成處理不均的情況。此外，膠束除去液10可以使用硫酸、磷酸、鹽酸等調(diào)整pH。
[0078]膠束除去處理中的膠束除去液噴霧22的條件(溫度、噴霧壓、供給流量)可以匹配于薄膜化處理的抗蝕劑層的溶解速度而適當(dāng)調(diào)整。具體而言，處理溫度優(yōu)選的是10?500C，更優(yōu)選的是15?35°C。此外，噴霧壓優(yōu)選的是設(shè)為0.01?0.5MPa，更優(yōu)選的是0.1?
0.3MPa。膠束除去液10的供給流量優(yōu)選的是抗蝕劑層每Icm2為0.030?1.0L/min,更優(yōu)選的是0.050?1.0L/min，更加優(yōu)選的是0.10?1.0L/min。如果供給流量是該范圍，則在薄膜化后的抗蝕劑層表面上不會殘留不溶解成分，容易將面內(nèi)大致均勻地不溶化的抗蝕劑層的成分的膠束除去。當(dāng)抗蝕劑層每Icm2的供給流量不到0.030L/min時，有發(fā)生不溶化的抗蝕劑層的成分的溶解不良的情況。另一方面，如果供給流量超過1.0L/min，則為了供給而需要的泵等的部件變得巨大，有需要龐大的裝置的情況。進而，在超過1.0L/min的供給量下，有帶來抗蝕劑層的成分的溶解擴散的效果不再變化的情況。
[0079]在水洗處理單元31中，在膠束除去處理單元12中，抗蝕劑層的成分的膠束被溶解除去后的基板3由運送輥對4運送。對于運送來的基板3，通過水洗處理液噴霧37供給水洗處理液32，基板3被水洗處理。
[0080]在水洗處理單元31中，在膠束除去處理后，進而通過水洗處理沖洗沒有完全除去的抗蝕劑層及殘留附著在抗蝕劑層的表面上的薄膜化處理液及膠束除去液。作為水洗處理的方法，從擴散速度和供液的均勻性這一點考慮優(yōu)選的是噴霧方式，作為水洗水，能夠使用自來水、工業(yè)用水、純水等。其中，優(yōu)選的是使用純水。純水能夠使用一般在工業(yè)使用的純水。
[0081]使用附圖對本實用新型的薄膜化裝置的特征詳細地進行說明。在圖3的薄膜化裝置中，其特征在于，具有運送表面形成有抗蝕劑層的基板3的運送輥對4，在膠束除去處理單元12中，用于供給膠束除去液10的膠束除去液供給噴霧22以朝向單一方向傾斜的狀態(tài)設(shè)置。圖中的箭頭40表示膠束除去液的流動方向。為了使膠束除去液噴霧22的噴射位置容易理解，未圖示本來應(yīng)設(shè)置的上側(cè)的膠束除去液供給管20及膠束除去液用噴嘴21。
[0082]對通過作為本實用新型的特征的「膠束除去液噴霧朝向單一方向」，一邊將單一方向的膠束除去液的液流向抗蝕劑層表面噴霧一邊進行膠束除去處理進行說明。圖9是在本實用新型的薄膜化裝置中、表示膠束除去液噴霧22的配置例的概略圖。圖9 一 I是從薄膜化裝置的上方觀察膠束除去處理單元12內(nèi)部的膠束除去液噴霧22的流動時的狀態(tài)圖。圖9 - 2圖示了從薄膜化裝置的基板運送方向的投入側(cè)觀察時膠束除去液用噴嘴21的設(shè)置狀態(tài)和膠束除去液噴霧22的噴射狀態(tài)。圖中的箭頭44表示基板的運送方向，箭頭43表示膠束除去液噴霧的噴射方向?！竼我环较虻哪z束除去液的液流進行的膠束除去處理」是指「在基板3上流動的膠束除去液10均是以向單一的方向流動的狀態(tài)進行的膠束除去處理」。此夕卜，為了實現(xiàn)在基板3上流動的膠束除去液10均向單一的方向流動的狀態(tài)，可使所有的膠束除去液噴霧22以相同的朝向傾斜。該狀態(tài)在從上方觀察運送中的基板3之際所有的膠束除去液噴霧的噴射方向43朝向相同方向(圖9 -1)。這樣，通過以所有的膠束除去液噴霧22向單一方向傾斜的狀態(tài)進行膠束除去處理，能夠?qū)我环较虻哪z束除去液10的液流向基板3的抗蝕劑層表面噴霧(圖9 - 2)。此外，為了防止膠束除去液10流入進行膠束除去處理的膠束除去處理單元12的上游的設(shè)備(薄膜化處理單元11)或下游的設(shè)備(水洗處理單元31)，膠束除去液噴霧的噴射方向43優(yōu)選的是統(tǒng)一成以與基板的運送方向44正交的右朝向或左朝向傾斜。這樣一來，由于膠束除去液10以單一方向從膠束除去液噴霧的噴射方向43的上游側(cè)向下游側(cè)(膠束除去液的流動方向40)流動，所以能夠解決以緩慢、不均勻的液流為原因所發(fā)生的基板3面內(nèi)抗蝕劑層的薄膜化量變得不均勻的問題。
[0083]在此，在膠束除去處理單元12中，為了更有效地形成從膠束除去液噴霧的噴射方向43的上游側(cè)朝向下游側(cè)的單一方向的液流，優(yōu)選的是使用筆直型的輥作為運送基板3的運送輥4。筆直型的輥重要的是表面沒有凹凸，與抗蝕劑層表面密接。由于抗蝕劑層表面與筆直型的輥密接，所以膠束除去液噴霧22不會在前后列的運送輥4之間無秩序地成為紊流，能夠沿著運送輥4至下游側(cè)形成大流量的直線的液流。作為筆直型的輥的種類，可以舉出橡膠輥、海綿輥、金屬輥、樹脂輥等。其中，優(yōu)選具有良好的橡膠彈性(密封性、恢復(fù)性)、比重較小、輕量、是低硬度到中硬度、因向抗蝕劑層的接觸帶來的沖擊較小、對作為高濃度的堿性水溶液的薄膜化處理液I的耐藥性也良好的烯烴系熱塑性彈性體的輥。作為烯烴系熱塑性彈性體，可以舉出THERMORUN (注冊商標(biāo))。
[0084]噴射膠束除去液噴霧22的膠束除去液用噴嘴21的噴霧圖案是從充圓錐類型(噴霧從噴嘴以圓錐狀噴射，在抗蝕劑層表面形成圓形的噴霧圖案的類型。如果完頂體類型(full — cone type)、扇形類型(扁平型(flat type))、直線狀類型(整體型(solid type))、層狀類型(狹縫型(slit type))等中選擇，則能夠使用與其圖案相對應(yīng)的噴霧噴嘴。在噴霧圖案的流量分布的均勻性這一點上，優(yōu)選均等分布的充圓錐類型或扇形類型的噴霧噴嘴。由于本實用新型中的膠束除去液噴霧22重要的是成為單一方向的液流，所以膠束除去液用噴嘴21優(yōu)選不是擺動式或擺頭式、而是固定式的噴霧噴嘴。并且，優(yōu)選使該固定式的噴霧噴嘴向單一方向傾斜地噴射。另一方面，相對于擺動式或擺頭式，固定式的噴霧噴嘴難以無遺漏地均勻噴射噴霧，在噴霧圖案不重合的部分或緩沖的部分容易出現(xiàn)噴霧壓的強弱的分布。根據(jù)這種觀點，在使用固定式的噴霧噴嘴的情況下，優(yōu)選使用能夠大范圍地噴射的均等分布的充圓錐類型的噴嘴，重要的是根據(jù)噴霧圖案適當(dāng)?shù)貨Q定噴嘴間的距離及自抗蝕劑層表面的距離。此外，在使用固定式的噴霧噴嘴的情況下，優(yōu)選噴霧噴嘴的傾斜角度固定成噴霧圖案始終均等。作為進行固定的方法，只要將膠束除去液用噴嘴21直接以所希望的傾斜角度安裝在膠束除去液供給管20上，則在更換膠束除去液用噴嘴21時不再需要調(diào)整傾斜角度。除此之外，也可以是將傾斜角度能夠調(diào)整的適配器(例如、池內(nèi)公司制、商品名:UT球窩接頭)安裝在膠束除去液供給管20上，在調(diào)整了膠束除去液用噴嘴21的傾斜角度后進行固定的方法。
[0085]在圖4的抗蝕劑層的薄膜化裝置中，其特征在于，在膠束除去處理單元12中，相對于基板3的運送方向，膠束除去液供給管20的膠束除去液用噴嘴21的配置在膠束除去液供給管20的前后列成為鋸齒位置。這樣一來，能夠使基板3的運送方向的垂直方向上的膠束除去液噴霧22的噴射位置均等化。此外，在水洗處理單元31中也同樣，相對于基板3的運送方向，水洗處理液供給管35的水洗處理液用噴嘴36的配置在水洗處理液供給管35的前后列成為鋸齒位置，能夠使基板3的運送方向的垂直方向上的水洗處理液噴霧37的噴射位置均等化。
[0086]在圖5的抗蝕劑層的薄膜化裝置中，其特征在于，在膠束除去處理單元12中，運送基板3的運送輥對是環(huán)型的運送輥41對。在使用了環(huán)型的運送輥41的情況下，膠束除去液噴霧22在前后列的運送輥41之間在基板3的運送方向上也較多地擴散。因此，與圖3及圖4所示的筆直型的運送輥4相比，大流量的直線的液流不易形成。該缺點能夠通過使用在不損害環(huán)輥的強度及耐久性的范圍內(nèi)環(huán)輥截面為輪輻(spoke)或網(wǎng)孔(mesh)、或者貫通孔敞開的環(huán)輥作為環(huán)型的運送輥41、使從上游側(cè)朝向下游側(cè)的液流以一定量通過而解消。并且在使用了環(huán)型的運送輥41的情況下，在基板3的運送方向的垂直方向上以一定的間隔配置環(huán)輥，在前后列的運送輥41使環(huán)輥的配置為鋸齒位置，則能夠相對于基板3的運送方向使運送輥41的間隔為環(huán)輥的直徑以下。這樣一來，具有防止運送中基板3落下，能夠運送板厚更薄的基板3的優(yōu)點。作為環(huán)型的輥的種類，列舉出橡膠輥、海綿輥、金屬輥、樹脂輥等。其中，除了比重較小、輕量、因向抗蝕劑層的接觸帶來的沖擊較小、對作為高濃度的堿性水溶液的薄膜化處理液I的耐藥性也良好的聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、硬質(zhì)聚氯乙烯、丙烯樹脂(PMMA)、氟樹脂(例如特氟龍(TEFLON，注冊商標(biāo)))等之外，能夠使用烯烴系熱塑性彈性體的輥。作為烯烴系熱塑性彈性體，可以舉出THERMORUN (注冊商標(biāo))。
[0087]在圖6的抗蝕劑層的薄膜化裝置中，其特征在于，在膠束除去處理單元12中，在膠束除去液的流動方向40的下游側(cè)的運送輥軸的軸承側(cè)板38近前設(shè)置有用于強制回收膠束除去液10的排放部39。以與基板3的運送方向正交的朝向噴射的膠束除去液噴霧22沿著圖中的箭頭所示的膠束除去液的流動方向40成為液流地流動，在下游側(cè)從基板3上流下，與下游側(cè)的運送輥軸的軸承側(cè)板38碰撞而向四面八方飛散。膠束除去液10飛散的程度取決于液流的流量和流速，但在薄膜化處理后的膠束除去處理中，液流的流量越多越好，流速越快越好。若上述這種大流量、直線的朝向膠束除去液的流動方向40的液流持續(xù)與運送輥軸的軸承側(cè)板38碰撞，則如圖8所示，飛散的膠束除去液10沿著運送輥軸的軸承側(cè)板38成為液流地流動。在圖8中，箭頭42為飛散的膠束除去液的流動方向。本實用新型所涉及的排放部39不僅用于強制回收箭頭40的液流，也強制回收這種沿著運送輥軸的軸承側(cè)板38流動的箭頭42的液流，這樣一來，膠束除去液10不會向膠束除去處理單元12的外部流入，而是回收到膠束除去液貯藏容器18，膠束除去液10在膠束除去處理單元12內(nèi)循環(huán)。
[0088]在圖7的抗蝕劑層的薄膜化裝置中，其特征在于，在膠束除去處理單元12中，排放部39設(shè)置在最前列與最后列的膠束除去液噴霧22的噴射產(chǎn)生的膠束除去液的流動方向40的下游側(cè)的運送輥軸的軸承側(cè)板38的近前。若最前列的膠束除去液噴霧22流入薄膜化處理單元11內(nèi)，則有與薄膜化處理液I混合，薄膜化處理液I的堿性化合物濃度下降，在抗蝕劑層的成分的膠束化的同時產(chǎn)生溶解擴散，在面內(nèi)薄膜化處理量上發(fā)生離差的情況。此外，若最后列的膠束除去液噴霧22流入水洗處理單元31內(nèi)，則有水洗處理液32被抗蝕劑層的成分溶解分散后的膠束除去液10污染，薄膜化處理后的清洗效率下降的情況。通過設(shè)置在最前列與最后列的膠束除去液噴霧22的噴射產(chǎn)生的膠束除去液的流動方向40的下游側(cè)的排放部39，能夠防止膠束除去液10向膠束除去處理單元12的外部流入。
[0089]此外，膠束除去處理相對于基板的運送方向從前列的膠束除去液噴霧向抗蝕劑層表面供給膠束除去液，一下子進行抗蝕劑層成分的膠束的溶解除去。即、通過前列與后列的膠束除去液噴霧而被溶解除去的抗蝕劑層成分的量不同，在更前列的膠束除去液噴霧中，成為溶解除去后的抗蝕劑層的濃度更高的膠束除去液。在此，通過設(shè)置在最前列的膠束除去液噴霧的噴射產(chǎn)生的膠束除去液的流動方向的下游側(cè)的排放部強制回收高濃度的膠束除去液，并不返回到膠束除去液貯藏容器而作為廢液向裝置之外排出，能夠維持膠束除去處理單元內(nèi)循環(huán)的膠束除去液中的抗蝕劑層成分濃度較低。
[0090]排放部39的形狀如果是能夠強制回收沿著運送輥軸的軸承側(cè)板38成為液流地流動的飛散的膠束除去液10，則能夠自由地決定。例如圖11所示，可以是在膠束除去液噴霧22的液流與運送輥軸的軸承側(cè)板38碰撞的位置承接其液流并封入其中的箱型構(gòu)造?；蛘呷鐖D12所示，為能夠僅在不希望膠束除去液22的液流飛散的方向上避開的口字型構(gòu)造。進而還可以是L字型構(gòu)造。
[0091]作為排放部39的材質(zhì)，能夠使用具有對作為高濃度的堿性水溶液的薄膜化處理液I的耐藥性的各種材料。具體而言，能夠使用聚乙烯、聚丙烯、硬質(zhì)聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、丙烯樹脂(PMMA)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯樹脂(ABS樹脂)、特氟龍(注冊商標(biāo))等合成樹脂、玻璃纖維強化聚丙烯、玻璃纖維強化環(huán)氧樹脂等的纖維強化塑料、鈦、哈司特鎳合金(HASTELL0Y，注冊商標(biāo))等的耐腐蝕性金屬材料等。在它們之中，由于加工較容易，所以優(yōu)選的是使用硬質(zhì)聚氯乙烯、丙烯樹脂(PMMA)。
[0092][實施例]
[0093]以下根據(jù)實施例進一步詳細說明本實用新型，但本實用新型不限定于該實施例。
[0094](實施例1)
[0095]在玻璃基材環(huán)氧樹脂基板(面積51mmX 340mm，銅箔厚度12 μ m，基材厚度0.2mm,三菱瓦斯化學(xué)社(MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.)制，商品名:CCL_E170)上，使用干膜抗蝕劑用層壓裝置而熱壓接干膜抗蝕劑(日立化成工業(yè)社(Hitachi Chemical C0.,Ltd.)制，商品名:RY3625，厚度25 μ m)，形成抗蝕劑層。
[0096]接著，在將干膜抗蝕劑的載體膜剝離后，通過具有具備浸潰槽2的薄膜化處理單元11、和用膠束除去液10將膠束除去的膠束除去處理單元12的抗蝕劑層的薄膜化裝置，使抗蝕劑層薄膜化。
[0097]如圖9 -1 (從裝置的上方觀察膠束除去處理單元12內(nèi)部的膠束除去液噴霧22的情況下的設(shè)置狀態(tài))及圖9 - 2 (從裝置的基板運送方向的上游側(cè)觀察時的設(shè)置狀態(tài))所示，在膠束除去處理單元12中，所有的膠束除去液噴霧22均相對于基板的運送方向44向右側(cè)傾斜40度地設(shè)置。即、膠束除去液噴霧22均朝向單一方向，在圖9 一 2中，由相對于基板的垂線45和噴霧噴嘴的中心線46形成的傾斜角度47為40度。
[0098]作為薄膜化處理液I (堿性水溶液)而使用10質(zhì)量％的碳酸鈉水溶液(液溫度25°C)，以薄膜化處理單元11的浸潰槽2中的浸潰處理時間為30秒的方式進行薄膜化處理。然后，在膠束除去處理單元12中，作為膠束除去液10而使用含有碳酸納的pH = 8的水溶液(液溫度25°C )，從膠束除去液用噴嘴21向基板3供給膠束除去液噴霧22，將不溶化的膠束除去，使抗蝕劑層薄膜化。抗蝕劑層每Icm2的膠束除去液的供給流量為0.2L/min、噴霧壓為0.2MPa。之后進行水洗處理及干燥處理。
[0099]在水洗處理及干燥處理后，將抗蝕劑層的薄膜化部的厚度測量10個點，最大值是
13.0 μ m，最小值是11.0ym,平均厚度是12.0μπι。此外，利用光學(xué)顯微鏡觀察薄膜化后的抗蝕劑層的表面，確認是沒有處理不均的平滑的薄膜化面。
[0100](實施例2)
[0101]除了在膠束除去液的流動方向40的下游側(cè)的運送輥軸的軸承側(cè)板38的近前設(shè)置有用于強制回收膠束除去液10的排放部39 (厚度為5mm的透明丙烯樹脂板制)之外，以與實施例1相同的方法使抗蝕劑層薄膜化。圖10是從基板運送方向的上游側(cè)觀察抗蝕劑層的薄膜化裝置時的排放部39的設(shè)置狀態(tài)的概略圖。如圖10所示，在膠束除去處理單元12中，所有的膠束除去液噴霧22均相對于基板的運送方向44向右側(cè)傾斜40度地設(shè)置，并朝向單一方向。設(shè)置在膠束除去液噴霧22的下游側(cè)的箱型構(gòu)造的排放部39強制回收來自膠束除去液噴霧22的液流。
[0102]在水洗處理及干燥處理后，將抗蝕劑層的薄膜化部的厚度測量10個點，最大值是
13.0 μ m，最小值是11.0ym,平均厚度是12.0μπι。此外，利用光學(xué)顯微鏡觀察薄膜化后的抗蝕劑層的表面，確認是沒有處理不均的平滑的薄膜化面。
[0103](實施例3)
[0104]在膠束除去處理單元12中，除了在最前列與最后列的膠束除去液噴霧22的噴射產(chǎn)生的膠束除去液的流動方向40的下游側(cè)的運送輥軸的軸承側(cè)板38近前設(shè)置有用于強制回收膠束除去液10的排放部39 (厚度為5mm的透明丙烯樹脂板制)之外，以與實施例1相同的方法使抗蝕劑層薄膜化。如圖10所示，在膠束除去處理單元12中，所有的膠束除去液噴霧22均相對于基板的運送方向44向右側(cè)傾斜40度地設(shè)置，并朝向單一方向。設(shè)置在膠束除去液噴霧22的下游側(cè)的箱型構(gòu)造的排放部39強制回收來自最前列與最后列的膠束除去液噴霧22的液流。
[0105]在水洗處理及干燥處理后，將抗蝕劑層的薄膜化部的厚度測量10個點，最大值是
13.0 μ m，最小值是11.0ym,平均厚度是12.0μπι。此外，利用光學(xué)顯微鏡觀察薄膜化后的抗蝕劑層的表面，確認是沒有處理不均的平滑的薄膜化面。
[0106](實施例4?6)
[0107]除了對膠束除去處理單元12中的膠束除去液的噴霧處理是抗蝕劑層每Icm2的膠束除去液的供給流量為1.0L/min、噴霧壓為0.3MPa以外，以與實施例1?3相同的方法使抗蝕劑層薄膜化。
[0108]在水洗處理及干燥處理后，將抗蝕劑層的薄膜化部的厚度測量10個點，最大值是12.5 μ m，最小值是11.5 μ m，平均厚度是12.0ym。此外，利用光學(xué)顯微鏡觀察薄膜化后的抗蝕劑層的表面，確認是沒有處理不均的平滑的薄膜化面。
[0109](實施例7)
[0110]為了調(diào)查連續(xù)地進行了薄膜化的情況下的穩(wěn)定性，除了連續(xù)10片進行了處理之夕卜，以與實施例4相同的方法使抗蝕劑層薄膜化。
[0111]在水洗處理及干燥處理后，將抗蝕劑層的薄膜化部的厚度測量10個點，最大值是15.0 μ m，最小值是11.0ym,平均厚度是13.0μπι。此外，利用光學(xué)顯微鏡觀察薄膜化后的抗蝕劑層的表面，確認是沒有處理不均的平滑的薄膜化面。但是，在沒有抗蝕劑層的基板的銅表面上發(fā)現(xiàn)了起因于薄膜化處理后的水洗不足的銅的氧化(變色)。
[0112](實施例8)
[0113]為了調(diào)查連續(xù)地進行了薄膜化的情況下的穩(wěn)定性，除了連續(xù)10片進行了處理之夕卜，以與實施例5相同的方法使抗蝕劑層薄膜化。
[0114]在水洗處理及干燥處理后，將抗蝕劑層的薄膜化部的厚度測量10個點，最大值是12.5 μ m，最小值是11.5 μ m，平均厚度是12.0ym。此外，利用光學(xué)顯微鏡觀察薄膜化后的抗蝕劑層的表面，確認是沒有處理不均的平滑的薄膜化面。此外，在沒有抗蝕劑層的基板的銅表面上未發(fā)現(xiàn)銅的氧化(變色)。
[0115](實施例9)
[0116]為了調(diào)查連續(xù)薄膜化處理的穩(wěn)定性，除了連續(xù)10片進行了處理之外，以與實施例6相同的方法使抗蝕劑層薄膜化。
[0117]在水洗處理及干燥處理后，將抗蝕劑層的薄膜化部的厚度測量10個點，最大值是12.5 μ m，最小值是11.5 μ m，平均厚度是12.0ym。此外，利用光學(xué)顯微鏡觀察薄膜化后的抗蝕劑層的表面，確認是沒有處理不均的平滑的薄膜化面。此外，在沒有抗蝕劑層的基板的銅表面上未發(fā)現(xiàn)銅的氧化(變色)。
[0118](比較例I)
[0119]在玻璃基材環(huán)氧樹脂基板(面積510mmX 340mm，銅箔厚度12 μ m，基材厚度0.2mm，三菱瓦斯化學(xué)社(MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.)制，商品名:CCL_E170)上，使用干膜抗蝕劑用層壓裝置而熱壓接干膜抗蝕劑(日立化成工業(yè)社(Hitachi Chemical C0.,Ltd.)制，商品名:RY3625，厚度25 μ m)，形成抗蝕劑層。
[0120]接著，在將干膜抗蝕劑的載體膜剝離后，通過具有具備浸潰槽2的薄膜化處理單元11、和用膠束除去液10將膠束除去的膠束除去處理單元12的抗蝕劑層的薄膜化裝置，使抗蝕劑層薄膜化。
[0121]圖13是在抗蝕劑層的薄膜化裝置中、表示膠束除去液噴霧的配置例的概略圖，表示從基板的運送方向的上游側(cè)觀察時的膠束除去液噴霧22的設(shè)置狀態(tài)。在膠束除去處理單元12中，所有的膠束除去液噴霧22均相對于基板表面垂直地設(shè)置，相對于基板的垂線45和噴霧噴嘴的中心線46重合。
[0122]作為薄膜化處理液I (堿性水溶液)而使用10質(zhì)量％的碳酸納水溶液(液溫度25°C)，以薄膜化處理單元11的浸潰槽2中的浸潰處理時間為30秒的方式進行薄膜化處理。然后，在膠束除去處理單元12中，作為膠束除去液10而使用含有碳酸納的pH = 8的水溶液(液溫度25°C )，從膠束除去液用噴嘴21向基板3供給膠束除去液噴霧22，將不溶化的膠束除去，使抗蝕劑層薄膜化?？刮g劑層每Icm2的膠束除去液的供給流量為0.2L/min、噴霧壓為0.2MPa。之后進行水洗處理及干燥處理。
[0123]在水洗處理及干燥處理后，將抗蝕劑層的薄膜化部的厚度測量10個點，最大值是14.0 μ m,最小值是8.0 μ m,平均厚度是11.0 μ m。此外,利用光學(xué)顯微鏡觀察薄膜化后的抗蝕劑層的表面，在與膠束除去液噴霧22的設(shè)置間隔相同的位置發(fā)生了起因于膠束除去液10的液流不好的處理不均。
[0124](比較例2)
[0125]在玻璃基材環(huán)氧樹脂基板(面積510_X340mm，銅箔厚度12 μ m，基材厚度0.2mm,三菱瓦斯化學(xué)社(MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.)制，商品名:CCL_E170)上，使用干膜抗蝕劑用層壓裝置而熱壓接干膜抗蝕劑(日立化成工業(yè)社(Hitachi Chemical C0.,Ltd.)制，商品名:RY3625，厚度25 μ m)，形成抗蝕劑層。
[0126]接著，在將干膜抗蝕劑的載體膜剝離后，通過具有具備浸潰槽2的薄膜化處理單元11、和用膠束除去液10將膠束除去的膠束除去處理單元12的抗蝕劑層的薄膜化裝置，使抗蝕劑層薄膜化。
[0127]圖14是在抗蝕劑層的薄膜化裝置中、表示膠束除去液噴霧的配置例的概略圖。圖
14-1是從薄膜化裝置的上方觀察膠束除去處理單元12內(nèi)部的膠束除去液噴霧22的流動時的狀態(tài)圖。圖14 一 2圖示了從薄膜化裝置的基板運送方向的上游側(cè)觀察時的膠束除去液用噴嘴21的設(shè)置狀態(tài)和膠束除去液噴霧22的噴射狀態(tài)。在膠束除去處理單元12中，膠束除去液噴霧22中相對于基板的運送方向44右半部分的膠束除去液噴霧22相對于基板的運送方向44向左側(cè)傾斜40度地設(shè)置。此外，相對于基板的運送方向44左半部分的膠束除去液噴霧22相對于基板的運送方向44向右側(cè)傾斜40度地設(shè)置。即、在圖14 一 2中，由相對于基板的垂線45和噴霧噴嘴的中心線46形成的傾斜角度47為40度，膠束除去液噴霧22在相對于基板的運送方向44正交的方向上朝向中心地傾斜。
[0128]作為薄膜化處理液I (堿性水溶液)而使用10質(zhì)量％的碳酸納水溶液(液溫度25°C)，以薄膜化處理單元11的浸潰槽2中的浸潰處理時間為30秒的方式進行薄膜化處理。然后，在膠束除去處理單元12中，作為膠束除去液10而使用含有碳酸納的pH = 8的水溶液(液溫度25°C )，從膠束除去液用噴嘴21向基板3供給膠束除去液噴霧22，將不溶化的膠束除去，使抗蝕劑層薄膜化?？刮g劑層每Icm2的膠束除去液的供給流量為0.2L/min,噴霧壓為0.2MPa。之后進行水洗處理及干燥處理。
[0129]在水洗處理及干燥處理后，將抗蝕劑層的薄膜化部的厚度測量10個點，最大值是
14.0 μ m,最小值是6.0 μ m,平均厚度是9.0 μ m。此外,利用光學(xué)顯微鏡觀察薄膜化后的抗蝕劑層的表面，在相對于基板的運送方向的中央部和兩端部發(fā)生了起因于膠束除去液10的液流不好的處理不均。
[0130](比較例3)
[0131]在玻璃基材環(huán)氧樹脂基板(面積510mmX 340mm，銅箔厚度12 μ m，基材厚度0.2mm，三菱瓦斯化學(xué)社(MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.)制，商品名:CCL_E170)上，使用干膜抗蝕劑用層壓裝置而熱壓接干膜抗蝕劑(日立化成工業(yè)社(Hitachi Chemical C0.,Ltd.)制，商品名:RY3625，厚度25 μ m)，形成抗蝕劑層。
[0132]接著，在將干膜抗蝕劑的載體膜剝離后，通過具有具備浸潰槽2的薄膜化處理單元11、和用膠束除去液10將膠束除去的膠束除去處理單元12的抗蝕劑層的薄膜化裝置，使抗蝕劑層薄膜化。
[0133]圖15是在抗蝕劑層的薄膜化裝置中、表示膠束除去液噴霧的配置例的概略圖，是從薄膜化裝置的上方觀察膠束除去處理單元12內(nèi)部的膠束除去液噴霧22的流動時的狀態(tài)圖。在膠束除去處理單元12中，膠束除去液噴霧22中從基板的運送方向44的上游側(cè)開始奇數(shù)列的膠束除去液噴霧22相對于基板的運送方向44向左側(cè)傾斜40度地設(shè)置，從基板的運送方向44的上游側(cè)開始偶數(shù)列的膠束除去液噴霧22相對于基板的運送方向44向右側(cè)傾斜40度地設(shè)置。即、在圖15中，膠束除去液噴霧22相對于基板的運送方向44逐列交互地向左右方向傾斜。
[0134]作為薄膜化處理液I (堿性水溶液)而使用10質(zhì)量％的碳酸納水溶液(液溫度25°C)，以薄膜化處理單元11的浸潰槽2中的浸潰處理時間為30秒的方式進行薄膜化處理。然后，在膠束除去處理單元12中，作為膠束除去液10而使用含有碳酸納的pH = 8的水溶液(液溫度25°C )，從膠束除去液用噴嘴21向基板3供給膠束除去液噴霧22，將不溶化的膠束除去，使抗蝕劑層薄膜化?？刮g劑層每Icm2的膠束除去液的供給流量為0.2L/min,噴霧壓為0.2MPa。之后進行水洗處理及干燥處理。
[0135]在水洗處理及干燥處理后，將抗蝕劑層的薄膜化部的厚度測量10個點，最大值是
14.0 μ m,最小值是8.0 μ m,平均厚度是11.0 μ m。此外,利用光學(xué)顯微鏡觀察薄膜化后的抗蝕劑層的表面，在與膠束除去液噴霧22的設(shè)置間隔相同的位置，發(fā)生了起因于膠束除去液10的液流不好的處理不均。
[0136]本實用新型的抗蝕劑層的薄膜化裝置能夠用于印刷配線板及引線框的回路基板的制作、或具備倒裝片連接用的連接焊盤的組裝基板的制作中形成抗蝕劑圖案的用途。
【權(quán)利要求】
1.一種抗蝕劑層的薄膜化裝置，具備通過薄膜化處理液使抗蝕劑層中的光交聯(lián)性樹脂成分膠束化的薄膜化處理單元，和通過膠束除去液將膠束除去的膠束除去處理單元，其特征在于，膠束除去處理單元具有用于供給膠束除去液的膠束除去液供給噴霧，膠束除去液噴霧朝向單一方向。
2.如權(quán)利要求1所述的抗蝕劑層的薄膜化裝置，其特征在于，在膠束除去液噴霧的噴射方向的下游側(cè)設(shè)有膠束除去液回收用的排放部。
3.如權(quán)利要求2所述的薄膜化裝置，其特征在于，膠束除去液回收用的排放部設(shè)置在膠束除去處理單元中相對于運送方向最前列和最后列的膠束除去液噴霧的噴射方向的下游側(cè)。
【文檔編號】G03F7/30GK203825368SQ201420075013
【公開日】2014年9月10日 申請日期:2014年2月21日 優(yōu)先權(quán)日:2013年2月22日
【發(fā)明者】豐田裕二, 后閑寬彥, 川合宣行, 中川邦弘 申請人:三菱制紙株式會社