網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，用于監(jiān)控網(wǎng)板曝光機的曝光裝置的工作狀態(tài)，包括：設定曝光裝置的曝光參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程，并透過持續(xù)偵測所述曝光裝置中的光學元件的即時光功率（mW），俾于分析所述偵測到的即時光功率（mW）值與所述曝光參數(shù)值不吻合，即可依據(jù)設定的異常處理操作流程執(zhí)行相應的操作，從而達到可在后續(xù)輕易篩選出曝光不良品并分析導致曝光不良的原因的目的，同時還能透過控制所述曝光裝置自動調(diào)整工作狀態(tài)，以減少曝光不良品的產(chǎn)生，從而提高生產(chǎn)效率。
【專利說明】網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及網(wǎng)板制造領域，特別是涉及一種可改善網(wǎng)板曝光質(zhì)量的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)。
【背景技術】
[0002]隨著電路板微型化以及功能強化的發(fā)展下，對于線路板的圖形導線的寬度及其線距的要求亦越來越高，而于電路板的整體制造過程中，電路板的曝光程序又是其中至關重要的一個步驟。
[0003]然而，于現(xiàn)有生產(chǎn)工業(yè)中，PCB板經(jīng)常由于曝光度掌握不夠精準，而導致PCB板的導電性及美觀性受到影響，因而如何克服上述缺陷，即為本實用新型待解決的技術課題。
實用新型內(nèi)容
[0004]鑒于上述先前技術之種種問題，本實用新型之目的在于提供一種網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，可全程監(jiān)控網(wǎng)板曝光機的曝光裝置的工作狀態(tài)，以輕易篩選出曝光不良品并分析產(chǎn)生曝光不良之原因。
[0005]本實用新型之另一目的在于提供一種網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，可控制所述曝光裝置自動調(diào)整工作狀態(tài)，以確保產(chǎn)品之曝光質(zhì)量，并延長機臺零部件之工作壽命。
[0006]為達到上述目的以及其他目的，本實用新型提供一種網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，應用于具有曝光裝置的網(wǎng)板曝光機，用于監(jiān)控所述網(wǎng)板曝光機的曝光裝置的工作狀態(tài)，所述系統(tǒng)包括:曝光監(jiān)控模塊，其設于網(wǎng)板曝光機中，所述曝光監(jiān)控模塊具有:曝光參數(shù)設定單元，用于提供設定所述曝光裝置的曝光參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程；曝光偵測器，與所述網(wǎng)板曝光機的曝光裝置鄰近設置，且所述曝光裝置還具有光學元件，所述曝光偵測器用于持續(xù)地偵測所述光學元件的即時光功率(mW)，并輸出所偵測的即時光功率(mW)值；曝光分析單元，與所述曝光偵測器電性連接，用于收集所述曝光偵測器所輸出的所述光學元件的即時光功率(mW)值，并于分析所述輸出的即時光功率(mW)值與所述曝光參數(shù)設定單元所設定的曝光參數(shù)值不吻合時，輸出異常信號；以及異常處理模塊，其設于所述網(wǎng)板曝光機中，并與所述曝光裝置電性連接，于接收到所述曝光分析單元所輸出的異常信號時，依據(jù)所述設定的異常處理操作流程執(zhí)行相應的操作。
[0007]較佳地，藉由所述曝光參數(shù)設定單元所設定的異常處理操作流程至少包括:輸出警報信號、調(diào)整所述光學元件的工作狀態(tài)以及令所述網(wǎng)板曝光機停止操作的所組群組之其
中一者。
[0008]較佳地，所述系統(tǒng)還包括:記錄模塊，記錄所述網(wǎng)板曝光機對網(wǎng)板進行曝光的曝光處理信息，且其還于所述曝光分析單元輸出異常信號時，記錄所述輸出的異常信號所對應的曝光作業(yè)數(shù)據(jù)。其中，所述曝光作業(yè)數(shù)據(jù)包括:輸出所述異常信號的時間及在輸出所述異常信號時間下的光學元件的光功率(mW)值所組群組之其中一者。
[0009]較佳地，所述系統(tǒng)中的曝光參數(shù)設定單元還提供客制化標準作業(yè)程序(SOP)測光功能的設定，用以供用戶設定其所欲輸入的光能量值(mj)，以在曝光作業(yè)時，所述曝光分析單元依據(jù)用戶所設定的光能量值，以線性處理方式來控制累積光能量。此外，所述曝光參數(shù)設定單元還提供二次曝光的功能設定，且所述光學元件的光路徑中設有一可動式濾片，所述曝光分析單元依據(jù)曝光參數(shù)設定單元所設定的二次曝光的功能，于曝光作業(yè)中，使光學元件提供預定波長，待一預定時間后，控制所述濾片的移動來調(diào)整所述光學元件所提供的所述預定波長，而達到以單一波長進行多重波長的曝光。
[0010]較佳地，所述系統(tǒng)還設有數(shù)據(jù)傳輸接口，藉由所述數(shù)據(jù)傳輸接口供用戶近端或遠程設定所述曝光裝置的曝光參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程。
[0011]較佳地，所述網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)還包括:真空監(jiān)控模塊，用于偵測所述曝光裝置的曝光室內(nèi)的真空壓力值，所述真空監(jiān)控模塊具有:真空參數(shù)設定單元，用于提供設定所述曝光室內(nèi)的真空參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程；壓力傳感器，用于感測所述曝光室內(nèi)的真空壓力，并輸出所感測的真空壓力值；以及真空分析單元，其與該壓力傳感器電性連接，用于接收所述壓力傳感器所輸出的真空壓力值，并于分析所述輸出的真空壓力值與所述真空參數(shù)設定單元所設定的真空參數(shù)值不吻合時，輸出異常信號。較佳地，所述異常處理模塊還包括:于接收到所述真空分析單元所輸出的異常信號時，依據(jù)所述真空參數(shù)設定單元所設定的異常處理操作流程執(zhí)行相應的操作。再者，所述異常處理模塊判定在一預定時間真空壓力無法到達所設定的真空參數(shù)值時，停止曝光作業(yè)及發(fā)出警報狀態(tài)消息。
[0012]較佳地，所述系統(tǒng)還包括:溫度監(jiān)控模塊，其具有:溫度參數(shù)設定單元，用于提供設定所述曝光裝置內(nèi)的光學元件的工作溫度參數(shù)值；散熱單元，設于所述曝光裝置上，用于調(diào)降所述光學元件的工作溫度；溫度傳感器，用于感測所述光學元件當前的工作溫度，并輸出所感測到的工作溫度值；以及溫控單元，與該散熱單元及溫度傳感器電性連接，用于接收所述溫度傳感器所輸出的工作溫度值，并于分析所述輸出的工作溫度值高于所述溫度參數(shù)設定單元所設定的工作溫度參數(shù)值時，啟動所述散熱單元對所述光學元件實施降溫操作。
[0013]較佳地，所述系統(tǒng)還包括與所述溫控單元電性連接的接觸式溫度傳感器以及與所述溫控單元電性連接的玻璃臺面散熱單元，該玻璃臺面散熱單元鄰近于該曝光玻璃臺面玻璃設置，且所述接觸式溫度傳感器接觸于所述曝光玻璃臺面，用以感測曝光玻璃臺面的溫度，當所述溫控單元分析出所述接觸式溫度傳感器所輸出的溫度值高于所述溫度參數(shù)設定單元所設定的工作溫度參數(shù)值時，啟動所述網(wǎng)板曝光機內(nèi)的散熱單元對所述曝光玻璃臺面實施降溫操作。此外，所述異常處理模塊判定在一預定時間下未能使所述曝光玻璃臺面溫度降溫時，停止曝光作業(yè)及發(fā)出警報狀態(tài)消息。
[0014]相較于現(xiàn)有技術，本實用新型可偵測網(wǎng)板曝光機的曝光裝置的工作狀態(tài)，俾于分析機臺運作發(fā)生異常時輸出警示信號，故可輕易找出在機臺曝光不良情況下生產(chǎn)出的不良品。再者，本實用新型還可于偵測機臺曝光裝置產(chǎn)生曝光不良的問題時，透過默認的異常處理操作流程控制機臺的曝光裝置自動調(diào)整工作狀態(tài)，以減少曝光不良品的產(chǎn)生。還有，本實用新型更可供用戶于網(wǎng)板曝光機本端、近端或遠程的輸入方式來設定曝光作業(yè)所需的參數(shù)，提高了曝光作業(yè)的便利性。另外，因應用戶的使用需求可供用戶自行設定所需的燈管光能量值(mj)，提供一種客制化的標準作業(yè)程序的功能設定。
【專利附圖】
【附圖說明】[0015]圖1用以說明本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)的第一實施例系統(tǒng)架構圖。
[0016]圖2用以說明本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)的第二實施例系統(tǒng)架構圖。
[0017]圖3用以說明本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)的第三實施例系統(tǒng)架構圖。
[0018]圖4用以說明本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)的第四實施例系統(tǒng)架構圖。
[0019]圖5為應用所述圖1的系統(tǒng)架構圖所執(zhí)行的曝光監(jiān)控運作流程圖。
[0020]圖6為應用所述圖3的系統(tǒng)架構圖所執(zhí)行的真空監(jiān)控運作流程圖。
[0021]圖7為應用所述圖4的系統(tǒng)架構圖所執(zhí)行的溫度監(jiān)控運作流程圖。
[0022]組件標號說明
[0023]100, 100A, 100B, 100C網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)
[0024]110曝光監(jiān)控模塊
[0025]111曝光參數(shù)設定單元
[0026]113曝光偵測器
[0027]115曝光分析單元
[0028]120異常處理模塊
[0029]130記錄 模塊
[0030]150真空監(jiān)控模塊
[0031]151真空參數(shù)設定單元
[0032]153壓力傳感器
[0033]155真空分析單元
[0034]160溫度監(jiān)控模塊
[0035]161溫度參數(shù)設定單元
[0036]163散熱單元
[0037]165溫度傳感器
[0038]167溫控單元
[0039]200, 200A, 200B, 200C 網(wǎng)板曝光機
[0040]201網(wǎng)板
[0041]210曝光裝置
[0042]211光學元件
[0043]300信息處理設備
[0044]SlOl ~S107步驟
[0045]S201 ~S207步驟
[0046]S301 ~S305步驟
【具體實施方式】
[0047]以下由特定的具體實施例說明本實用新型的實施方式，熟悉此技術的人士可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點及功效。
[0048]請參閱圖1，其系本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)的第一實施例系統(tǒng)架構圖，本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)100應用于具有曝光裝置210的網(wǎng)板曝光機200，用于監(jiān)控所述網(wǎng)板曝光機200的曝光裝置210的工作狀態(tài)，如圖1所示，所述系統(tǒng)100包括:曝光監(jiān)控模塊110及異常處理模塊120。
[0049]曝光監(jiān)控模塊110具有曝光參數(shù)設定單元111、曝光偵測器113及曝光分析單元115。
[0050]曝光參數(shù)設定單元111用于提供人機操作接口，供用戶針對所述網(wǎng)板曝光機200的曝光裝置210設定相應的曝光參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程，于本實施例中，所述異常處理操作流程的設定是指當所述系統(tǒng)100偵測到曝光裝置210的曝光值與所述設定的參數(shù)值不吻合時，針對所述網(wǎng)板曝光機200所執(zhí)行的一系列后續(xù)處理操作，其中，所述后續(xù)處理操作可包括:輸出警報信號、調(diào)整所述曝光裝置210的工作狀態(tài)以及令所述網(wǎng)板曝光機200停止曝光操作的所組群組的其中一者(請容后續(xù)詳述)。需說明的是，所述曝光參數(shù)設定單元111所提供的人機操作接口更包括:操作權限的控制功能，藉此以有效保護特定網(wǎng)板的曝光參數(shù)的信息安全，亦能避免人員誤操作的異常情事發(fā)生。
[0051]曝光偵測器113系與該網(wǎng)板曝光機200之曝光裝置210鄰近設置，其中，所述曝光裝置210中復設置有光學元件211 (例如燈管)，所述曝光偵測器113用于偵測所述光學元件211的光功率(mW)，并輸出所偵測的光功率(mW)值。最佳實施例中，所述曝光偵測器113在曝光過程中持續(xù)地偵測所述光學元件211的即時光功率(mW)，并輸出所偵測的即時光功率(mW)值。
[0052]曝光分析單元115用于收集所述曝光偵測器113所輸出的光學元件211的即時光功率(mW)值，分析所述輸出的即時光功率(mW)值是否與使用者藉由所述曝光參數(shù)設定單元111所設定的曝光參數(shù)值相吻合，并于分析上述兩者不吻合時即輸出異常信號。
[0053]異常處理模塊120與該曝光裝置210電性連接，用于當接收到所述曝光分析單元115所輸出的異常信號時，依據(jù)前述藉由所述曝光參數(shù)設定單元111所設定的異常處理操作流程執(zhí)行相應的操作，例如，若所述曝光分析單元115分析所述輸出的即時光功率(mW)值與所述曝光參數(shù)值的偏差系處于允許范圍內(nèi)時，所述異常處理模塊120則可僅輸出一警報信號以提醒操作人員注意；若所述曝光分析單元115分析于一時間段內(nèi)所持續(xù)收集到的即時光功率(mW)值均相較于曝光參數(shù)值偏弱時，可判斷所述光學元件211開始發(fā)生老化現(xiàn)象，此時可令所述異常處理模塊120自動調(diào)整所述光學元件211的工作狀態(tài)，例如，控制所述光學元件211適當延長曝光時間以進行曝光補償，以使實際的曝光度仍能符合所述曝光參數(shù)值的設定要求，再者，若所述曝光分析單元115分析所述輸出的即時光功率(mW)值與所述曝光參數(shù)值的偏差持續(xù)地超過警戒范圍時，則可初步判斷為所述光學元件211已經(jīng)老化且需更換，即令所述異常處理模塊120強制所述網(wǎng)板曝光機200停止曝光操作。因此可知，即使燈管會隨著使用時間及環(huán)境變化產(chǎn)生光功率(mW)改變，但藉由本實用新型對燈管的實時偵測，在燈管光功率(mW)改變時，用戶可得到即時光功率(mW)變化數(shù)據(jù)。
[0054]在此須特別補充說明的是，前述曝光參數(shù)設定單元111除可供用戶設定所需的曝光時間以及累積光能量(mj)等曝光參數(shù)值外，更提供二次曝光的功能設定。前述所謂二次曝光的功能，是指曝光監(jiān)控模塊110會依據(jù)所述二次曝光的功能設定，控制曝光裝置210在曝光過程中提供兩種光波長，具體而言，因特定網(wǎng)板的涂布材料，其在單一波段進行曝光后，會使所述網(wǎng)板曝光后的線徑邊際不平整，而這種不平整的線徑邊際，易導致不良的電氣特性，例如兩條接近的導線間易產(chǎn)生短路，而本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)即可解決此種問題，詳而言的，本實用新型的曝光裝置210中，于所述光學元件211的光路徑中設有一可動式濾片(在此未予以圖式)，當所述光學元件211為一提供高波長的燈管時，即所述高波長作為第一次曝光的光波段，然，將所述濾片移動到所述光學元件211進行曝光作業(yè)的光路徑中，使所述光學元件211光路徑的波長改變，而所述改變后的波長將作為第二次曝光的光波段。因此，所述曝光分析單元111依據(jù)曝光參數(shù)設定單元111所設定的二次曝光的功能，控制所述濾片的移動，而達到使用單一波長燈管進行多重波長的曝光，而解決前述網(wǎng)板曝光后的線徑邊際不平整的問題。另外，為突顯本實用新型網(wǎng)板曝光的效果，可在所述光學元件211的出光路徑上設置一凸透鏡(在此未予以圖示)，以使穿過的光線均勻發(fā)散，令光線的行進方向趨于一致。
[0055]再者，現(xiàn)有的網(wǎng)板印刷機對于燈管光能量檢測方式，用戶大多是采用外接式的光能量檢測儀進行燈管檢測，因應此檢測方式，本實用新型網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)100更提供一種客制化標準作業(yè)程序(SOP)測光功能的設定，具體而言，用戶在使用外接式的光能量檢測儀量測出本端光學元件211的光能量值(mj)后，可透過所述曝光參數(shù)設定單元111進一步設定所述用戶其所量測到的光能量值(mj)，即表示用戶開啟客制化標準作業(yè)程序測光功能的設定，以在曝光作業(yè)時，所述曝光分析單元115依據(jù)用戶所設定的光能量值，以線性處理方式來控制累積光能量，即累積光能量(mj) =曝光時間*累積光功率(mW)，藉由前述需求參數(shù)的設定，來達到有效管理網(wǎng)板及燈管質(zhì)量管控。
[0056]還有要再補充說明的一點是，本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)還設有輸出入接口(在此未予以圖標)，例如包括按鍵或鍵盤的輸入單元以及顯示屏幕等，以供用戶設定所述曝光裝置的曝光參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程，然，除了可藉由網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)本端的輸出入接口進行用戶設定外，所述網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)還設有數(shù)據(jù)傳輸接口(在此未予以圖示)，用以外接例如計算機裝置般的信息處理設備(在此未予以圖標)，依據(jù)所述數(shù)據(jù)傳輸接口的傳輸通信規(guī)格，所述信息處理設備相較于網(wǎng)板曝光機200可以是近端設備或遠程設備，因此，藉由所述數(shù)據(jù)傳輸接口可近端或遠程設定所述曝光裝置的曝光參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程。
[0057]請參閱圖2，其用以說明本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)的第二實施例系統(tǒng)架構圖。所述第二實施例與前述第一實施例的系統(tǒng)架構大致相同，差異僅在于所述第二實施例的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)100A更包括:記錄模塊130，為避免重復敘述，以下僅就與前述差異之處進行具體說明。于本實施例中，記錄模塊130用以記錄所述網(wǎng)板曝光機200A對網(wǎng)板201進行曝光的曝光處理信息，所述曝光處理信息可包括:曝光組別數(shù)據(jù)、曝光參數(shù)以及曝光時間等數(shù)據(jù)，更甚者，于所述曝光分析單元115輸出異常信號時，還可進一步記錄出所述輸出的異常信號所對應的曝光作業(yè)數(shù)據(jù)，所述曝光作業(yè)數(shù)據(jù)例如:在輸出所述異常信號時間下的光學元件211的光功率(mW)值及/或輸出所述異常信號的時間(也就是輸出所述異常信號的時間及在輸出所述異常信號時間下的光學元件的光功率(mW)值所組群組之其中一者)，且所述曝光作業(yè)數(shù)據(jù)更可包括:輸出所述異常信號時間下所述網(wǎng)板曝光機200A所曝光的網(wǎng)板201的組別識別數(shù)據(jù)(例如第幾組別以及其為所述幾組別的第幾個網(wǎng)板)；再者，所述記錄模塊130所生成的所有曝光處理信息或曝光作業(yè)數(shù)據(jù)可加載到信息處理設備300中儲存，以供相關人員進行后續(xù)追蹤或查核等處理。
[0058]補充說明的是，所述信息處理設備300可例如為與所述網(wǎng)板曝光機200A電性連接的計算機設備，且所述計算機設備可透過網(wǎng)絡系統(tǒng)與遠程的另一個電子設備連接，俾供位于遠程的管理人員針對所曝光出的網(wǎng)板201進行質(zhì)量的回溯及管控。具體而言，遠程管理人員可透過所儲存的曝光作業(yè)數(shù)據(jù)，以取得發(fā)生所述異常信號時間下所曝光的網(wǎng)板201，查詢所述曝光時間所對應的異常信息，進而找出所述網(wǎng)板201產(chǎn)生瑕疵的原因為何，例如:電壓波動、光學元件老化等原因，因此，本實用新型可輕易找出在在光學元件211的即時光功率(mW)值產(chǎn)生波動的時段下所曝光出的印刷電路不良品。
[0059]圖3用以說明本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)的第三實施例系統(tǒng)架構圖。所述第三實施例與前述第二實施例的系統(tǒng)架構大致相同，差異僅在于所述第三實施例的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)100B更包括:真空監(jiān)控模塊150，為避免重復敘述，以下僅就與前述差異的處進行具體說明。于本實施例的網(wǎng)絡曝光機200B中，所述真空監(jiān)控模塊150用于偵測所述曝光裝置210的曝光室內(nèi)的真空壓力值以及真空源的真空壓力值，所述真空監(jiān)控模塊150包括:真空參數(shù)設定單元151、壓力傳感器153以及真空分析單元155。真空參數(shù)設定單元151用于提供人機操作接口，俾供用戶針對所述曝光室內(nèi)的真空壓力設定所需的真空參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程。壓力傳感器153用于感測所述曝光室內(nèi)的真空壓力，并輸出所感測的真空壓力值，于本實施例中，所述壓力傳感器153為多個，分別用以感測曝光室的真空壓力以及真空源真空壓力，就前述曝光室的真空壓力而言，所述壓力傳感器可設于所述網(wǎng)板曝光機的操作蓋蓋緣四周的橡膠壓條中或所述操作蓋內(nèi)面上，藉此可感測所述網(wǎng)板曝光機的曝光室中的網(wǎng)板及底片真空數(shù)值以及橡膠壓條氣密性；就前述真空源的真空壓力而言，所述壓力傳感器可設于所述網(wǎng)板曝光機內(nèi)的真空幫浦、真空管路、電磁閥控制單元等，以感測所述網(wǎng)板曝光機內(nèi)的抽真空組件的作動狀態(tài)是否正常。真空分析單元155用于接收所述壓力傳感器153所輸出的真空壓力值，并于分析所述輸出的真空壓力值與所述真空參數(shù)設定單元151所設定的真空參數(shù)值不吻合時，輸出異常信號。俾令異常處理模塊120于接收到所述真空分析單元155所輸出的異常信號時，依據(jù)所述設定的異常處理操作流程執(zhí)行相應的操作，例如:若判定在一預定時間或真空壓力一直無法到達所設定的真空參數(shù)值時，所述異常處理模塊120停止曝光作業(yè)及發(fā)出警報狀態(tài)消息。
[0060]圖4用以說明本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)的第四實施例系統(tǒng)架構圖。所述第四實施例與前述第二實施例的系統(tǒng)架構大致相同，差異僅在于所述第四實施例的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)100C更包括:溫度監(jiān)控模塊160，須提出說明的是，所述溫度監(jiān)控模塊160的應用架構并不限于圖2所示，本實施例中的溫度監(jiān)控模塊160亦可增設于圖3或圖1所示的系統(tǒng)架構中執(zhí)行運作。為避免重復敘述，以下僅就本實施例中的溫度監(jiān)控模塊160進行具體說明。于本實施例的網(wǎng)板曝光機200C中，所述溫度監(jiān)控模塊160還具有溫度參數(shù)設定單元161、鄰近于所述光學元件211設置的散熱單元163、溫度傳感器165、以及溫控單元167。溫度參數(shù)設定單元161用于提供設定所述曝光裝置210內(nèi)的光學元件211的工作溫度參數(shù)值。散熱單元163用于調(diào)降所述光學元件211的工作溫度。溫度傳感器165用于感測所述光學元件211當前的工作溫度，并輸出所感測到的工作溫度值。溫控單元167則用于接收所述溫度傳感器165所輸出的工作溫度值，并于分析所述輸出的工作溫度值高于所述溫度參數(shù)設定單元161所設定的工作溫度參數(shù)值時,啟動所述散熱單元163對所述光學元件211實施降溫操作；此外，若溫控單元167在一預定時間下未能使光學元件211溫度降溫時，所述異常處理模塊120則停止曝光作業(yè)及發(fā)出警報狀態(tài)消息，藉此避免所述光學元件211運作溫度過高，因而可延長所述光學元件211的工作壽命并降低硬件組件更換成本。[0061]再者，在此須特別補充說明的是，本實施例中的被溫度監(jiān)控的對象并不限于曝光裝置210內(nèi)的光學元件211，還可針對曝光玻璃臺面的溫度進行監(jiān)控，具體而言，用以承載底片以及網(wǎng)板的曝光玻璃臺面(在此未予以圖示)因紫外線光的持續(xù)照射下，其溫度會不斷上升，為避免底片在長時間的曝光操作下因所述曝光玻璃臺面溫度過高而發(fā)生變形，本實施例中可于所述曝光玻璃臺面上設置溫度傳感器，最佳實施例中，所述溫度傳感器為一接觸式溫度傳感器，其以觸壓方式與所述曝光玻璃臺面接觸，因此，當所述溫控單元167分析出所述接觸式溫度傳感器所輸出的溫度值高于所述溫度參數(shù)設定單元161所設定的工作溫度參數(shù)值時(此時，所述異常處理模塊120亦可發(fā)出警報狀態(tài)消息通知用戶)，啟動所述網(wǎng)板曝光機200C內(nèi)的散熱單元(與前述用以使所述光學元件211溫度降溫的散熱單元163為不同的對象，也就是說，于網(wǎng)板曝光機200C中，鄰近于所述曝光玻璃臺面設置有至少一個玻璃臺面散熱單元)對所述曝光玻璃臺面實施降溫操作，而其中，更利用二維線性方程式計算出溫度與曝(玻璃臺面溫度變化)的關系，以有效達到底片不會在長時間曝光操作下發(fā)生變形。當然，當所述溫控單元167在啟動所述散熱單元163對所述曝光玻璃臺面實施降溫操作后，仍分析出所述接觸式溫度傳感器所輸出的溫度值仍高于所述溫度參數(shù)設定單元161所設定的工作溫度參數(shù)值時，所述異常處理模塊120可發(fā)出警報狀態(tài)消息通知用戶。
[0062]圖5為應用所述圖1的系統(tǒng)架構圖所執(zhí)行的曝光監(jiān)控運作流程圖。如圖5所示，首先執(zhí)行步驟S101，網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)提供人機操作接口，俾供設定所述曝光裝置的曝光參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程，于本實施例中，所述設定的異常處理操作流程至少包括:輸出警報信號、調(diào)整所述光學元件的工作狀態(tài)以及令所述網(wǎng)板曝光機停止操作的所組群組的其中一者，接著進行步驟S103。
[0063]于步驟S103中，網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)偵測所述曝光裝置中光學元件的即時光功率(mW)，并輸出所偵測的即時光功率(mW)值，接著進行步驟S105。
[0064]于步驟S105中，網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)收集所輸出的即時光功率(mW)值，分析所述輸出的即時光功率(mW)值是否與所述設定的曝光參數(shù)值相吻合，并于分析所述兩者不吻合時，輸出異常信號，接著進行步驟S107。
[0065]于步驟S107中，網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)響應所述輸出的異常信號，并依據(jù)所述設定的異常處理操作流程執(zhí)行相應的操作，具體而言，若分析所述輸出的即時光功率(mW)值與所述曝光參數(shù)值的偏差系處于允許范圍內(nèi)時，則可僅輸出一警報信號以提醒操作人員；若分析于一時間段內(nèi)所持續(xù)收集到的即時光功率(mW)值相較于曝光參數(shù)值偏弱時，則可判斷所述光學元件開始老化，此時可自動調(diào)整所述光學元件的工作狀態(tài)，例如控制所述光學元件適當延長曝光時間進行曝光補償以使實際的曝光度仍能符合所述曝光參數(shù)值的設定要求，若分析所述輸出的即時光功率(mW)值與所述曝光參數(shù)值的偏差系持續(xù)地超過警戒范圍時，則可判斷為所述光學元件211已經(jīng)老化需更換，即強制所述網(wǎng)板曝光機停止曝光操作。
[0066]較佳地，圖1所示本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)100在對曝光裝置210執(zhí)行曝光監(jiān)控的過程中更可執(zhí)行下述步驟:網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)記錄所述輸出的異常信號所對應的曝光作業(yè)數(shù)據(jù)，所述曝光作業(yè)數(shù)據(jù)例如:輸出所述異常信號的時間及/或輸出所述異常信號時間下的光學元件的即時光功率(mW)值；此外，所述網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)100針對所述網(wǎng)板曝光機200所曝光的網(wǎng)板標識一唯一的識別卷標，于所述識別卷標內(nèi)記錄有所述網(wǎng)板對應的曝光時間，藉以提供管理人員針對所曝光出的網(wǎng)板進行質(zhì)量管控，可輕易找出在曝光度不良的情況下所曝光出的印刷電路不良品。
[0067]請繼續(xù)參閱圖6，其為應用所述圖3的系統(tǒng)架構圖所執(zhí)行的真空監(jiān)控運作流程圖。如圖6所示，首先進行步驟S201，設定所述曝光室內(nèi)的真空參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程，接著進行步驟S203。
[0068]于步驟S203中，網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)感測所述曝光室內(nèi)的真空壓力，并輸出所感測的真空壓力值，接著進行步驟S205。
[0069]于步驟S205中，網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)分析所述輸出的真空壓力值與所述設定的真空參數(shù)值是否吻合，并于分析結(jié)果為兩者不吻合時即輸出異常信號，接著進行步驟S207。
[0070]于步驟S207中，響應所述輸出的異常信號，并依據(jù)所述設定的異常處理操作流程執(zhí)行相應的操作。
[0071]接著，請參閱圖7，其為應用圖4的系統(tǒng)架構圖所執(zhí)行的溫度監(jiān)控運作流程圖。如圖7所示，首先進行步驟S301，設定所述曝光裝置內(nèi)的光學元件的工作溫度參數(shù)值，接著進行步驟S303。
[0072]于步驟S303中，網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)感測所述光學元件當前的工作溫度，并輸出所感測到的工作溫度值，接著進行步驟S305。
[0073]于步驟S305中，網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)接收所述輸出的工作溫度值，并于分析所述輸出的工作溫度值高于所述設定的工作溫度參數(shù)值時，啟動設于所述曝光裝置上的散熱單元，以針對所述光學元件實施降溫操作，以防止所述光學元件的運作溫度過高而損壞。
[0074]綜上所述，本實用新型的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)透過全程偵測網(wǎng)板曝光機的曝光裝置的工作狀態(tài)，包括:光學元件的即時光功率(mW)值及當前工作溫度，以及曝光室的真空壓力值，俾于分析上述各項工作指標與預設的工作參數(shù)值不吻合時，可實時發(fā)出警信以提醒操作人員，更可依據(jù)默認的異常操作處理流程來控制機臺上各零部件自動調(diào)整工作狀態(tài)，以減少曝光不良品的產(chǎn)生，亦能延長機臺零部件的工作壽命，藉以降低生產(chǎn)成本。
[0075]上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效，而非用于限制本實用新型。任何熟悉此技術的人士皆可在不違背本實用新型的精神及范疇下，對上述實施例進行修飾或改變。因此，舉凡所屬【技術領域】中具有通常知識者在未脫離本實用新型所揭示的精神與技術思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應由本實用新型的權利要求所涵蓋。
【權利要求】
1.一種網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，應用于具有曝光裝置的網(wǎng)板曝光機，用于監(jiān)控所述網(wǎng)板曝光機的曝光裝置的工作狀態(tài)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括: 曝光監(jiān)控模塊，其設于網(wǎng)板曝光機中，所述曝光監(jiān)控模塊具有: 曝光參數(shù)設定單元，用于提供設定所述曝光裝置的曝光參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程； 曝光偵測器，與所述網(wǎng)板曝光機的曝光裝置鄰近設置，且所述曝光裝置還具有光學元件，所述曝光偵測器用于持續(xù)地偵測所述光學元件的即時光功率，并輸出所偵測的即時光功率值；及 曝光分析單元，與所述曝光偵測器電性連接，用于收集所述曝光偵測器所輸出的所述光學元件的即時光功率值，并于分析所述輸出的即時光功率值與所述曝光參數(shù)設定單元所設定的曝光參數(shù)值不吻合時，輸出異常信號；以及 異常處理模塊，其設于所述網(wǎng)板曝光機中，并與所述曝光裝置電性連接，于接收到所述曝光分析單元所輸出的異常信號時，依據(jù)所述設定的異常處理操作流程執(zhí)行相應的操作。
2.根據(jù)權利要求1所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，藉由所述曝光參數(shù)設定單元所設定的異常處理操作流程至少包括:輸出警報信號、調(diào)整所述光學元件的工作狀態(tài)以及令所述網(wǎng)板曝光機停止操作的所組群組之其中一者。
3.根據(jù)權利要求1所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，還包括:記錄模塊，用以記錄所述網(wǎng)板曝光機對網(wǎng)板進行曝光的曝光處理信息。
4.根據(jù)權利要求3所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，所述記錄模塊還于所述曝光分析單元輸出異常信號時，記錄所述輸出的異常信號所對應的曝光作業(yè)數(shù)據(jù)，所述曝光作業(yè)數(shù)據(jù)包括:輸出所述異常信號的時間及在輸出所述異常信號時間下的光學元件的光功率值所組群組之其中一者。
5.根據(jù)權利要求1所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，所述曝光參數(shù)設定單元還提供客制化標準作業(yè)程序測光功能的設定，用以供用戶設定其所欲輸入的光能量值，以在曝光作業(yè)時，所述曝光分析單元依據(jù)用戶所設定的光能量值，以線性處理方式來控制累積光能量。
6.根據(jù)權利要求1或5所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，所述曝光參數(shù)設定單元還提供二次曝光的功能設定，且所述光學元件的光路徑中設有一可動式濾片，所述曝光分析單元依據(jù)曝光參數(shù)設定單元所設定的二次曝光的功能，于曝光作業(yè)中，使光學元件提供預定波長，待一預定時間后，控制所述濾片的移動來調(diào)整所述光學元件所提供的所述預定波長，而達到以單一波長進行多重波長的曝光。
7.根據(jù)權利要求1所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，其還設有數(shù)據(jù)傳輸接口，藉由所述數(shù)據(jù)傳輸接口供用戶近端或遠程設定所述曝光裝置的曝光參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程。
8.根據(jù)權利要求第I所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，所述光學元件的出光路徑上設置一凸透鏡，以使穿過的光線均勻發(fā)散。
9.根據(jù)權利要求1所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，還包括:真空監(jiān)控模塊，所述真空監(jiān)控模塊具有: 真空參數(shù)設定單元，用于提供設定所述曝光室內(nèi)的真空參數(shù)值及其對應的異常處理操作流程； 壓力傳感器，用于感測所述曝光室內(nèi)的真空壓力，并輸出所感測的真空壓力值；以及 真空分析單元，其與該壓力傳感器電性連接，用于接收所述壓力傳感器所輸出的真空壓力值，并于分析所述輸出的真空壓力值與所述真空參數(shù)設定單元所設定的真空參數(shù)值不吻合時，輸出異常信號。
10.根據(jù)權利要求9所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，所述異常處理模塊還包括:于接收到所述真空分析單元所輸出的異常信號時，依據(jù)所述真空參數(shù)設定單元所設定的異常處理操作流程執(zhí)行相應的操作。
11.根據(jù)權利要求10所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，所述壓力傳感器為多個，且分別設于所述網(wǎng)板曝光機的曝光室及真空源中，分別用以感測所述網(wǎng)板曝光機內(nèi)的真空幫浦真空度、設于所述網(wǎng)板曝光機的曝光室中的網(wǎng)板、底片真空數(shù)值以及橡膠壓條氣密性以及設于網(wǎng)板曝光機內(nèi)的抽真空組件的狀態(tài)。
12.根據(jù)權利要求9所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，所述異常處理模塊判定在一預定時間真空壓力無法到達所設定的真空參數(shù)值時，停止曝光作業(yè)及發(fā)出警報狀態(tài)消息。
13.根據(jù)權利要求1所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，還包括:溫度監(jiān)控模塊，其具有: 溫度參數(shù)設定單元，用于提供設定所述曝光裝置內(nèi)的光學元件的工作溫度參數(shù)值； 散熱單元，鄰近于所述光學元件設置，用于調(diào)降所述光學元件的工作溫度； 溫度傳感器，用于感測所述光學元件當前的工作溫度，并輸出所感測到的工作溫度值；以及 溫控單元，與該散熱單元及溫度傳感器電性連接，用于接收所述溫度傳感器所輸出的工作溫度值，并于分析所述輸出的工作溫度值高于所述溫度參數(shù)設定單元所設定的工作溫度參數(shù)值時，啟動所述散熱單元對所述光學元件實施降溫操作。
14.根據(jù)權利要求13所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，所述異常處理模塊判定在一預定時間下未能使所述光學元件溫度降溫時，停止曝光作業(yè)及發(fā)出警報狀態(tài)消息。
15.根據(jù)權利要求13所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，還包括:與所述溫控單元電性連接的接觸式溫度傳感器以及與所述溫控單元電性連接的玻璃臺面散熱單元，該玻璃臺面散熱單元鄰近于該曝光玻璃臺面玻璃設置，且所述接觸式溫度傳感器接觸于所述曝光玻璃臺面，用以感測曝光玻璃臺面的溫度，當所述溫控單元分析出所述接觸式溫度傳感器所輸出的溫度值高于所述溫度參數(shù)設定單元所設定的工作溫度參數(shù)值時，啟動所述玻璃臺面散熱單元對所述曝光玻璃臺面實施降溫操作。
16.根據(jù)權利要求15所述的網(wǎng)板曝光機監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于，所述異常處理模塊判定在一預定時間下未能使所述曝光玻璃臺面溫度降溫時，停止曝光作業(yè)及發(fā)出警報狀態(tài)消息。
【文檔編號】G03F7/20GK203786464SQ201420109580
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年3月12日 優(yōu)先權日:2014年3月12日
【發(fā)明者】詹文清, 羅志雄 申請人:旺昌機械工業(yè)(昆山)有限公司