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      真空減壓干燥設(shè)備的制作方法

      文檔序號(hào):2719690閱讀:173來(lái)源:國(guó)知局
      真空減壓干燥設(shè)備的制作方法
      【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種真空減壓干燥設(shè)備,涉及顯示器制造【技術(shù)領(lǐng)域】,能夠提高彩膜基板的生產(chǎn)效率。所述真空減壓干燥設(shè)備,包括上蓋和底座,所述上蓋與所述底座之間形成腔室;所述腔室中設(shè)置有可開合的擋板,所述擋板在閉合時(shí)將所述腔室分隔為上腔室和下腔室;所述上腔室中設(shè)置有朝向所述下腔室的攝像頭和光源,所述下腔室壁上設(shè)置有抽氣口。
      【專利說明】真空減壓干燥設(shè)備
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及顯示器件制造【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其涉及一種真空減壓干燥設(shè)備。
      【背景技術(shù)】
      [0002]在液晶顯示器的彩膜基板生產(chǎn)過程中,真空減壓干燥(VacuumDry,簡(jiǎn)稱V⑶)和亮度不均Mura區(qū)域檢測(cè)是兩道重要的工序。具體地,首先進(jìn)行V⑶工序,將基板放入V⑶設(shè)備內(nèi)進(jìn)行干燥處理;在VCD工序結(jié)束后由機(jī)械手將基板從VCD設(shè)備中取出并放置在傳送帶上,Mura檢測(cè)設(shè)備在基板傳送過程中對(duì)基板進(jìn)行圖像捕捉,之后對(duì)捕捉到的基板圖像進(jìn)行檢測(cè)。然而,上述V⑶和Mura區(qū)域檢測(cè)的過程復(fù)雜,使得彩膜基板的生產(chǎn)效率較低。
      實(shí)用新型內(nèi)容
      [0003]本實(shí)用新型提供一種真空減壓干燥設(shè)備,能夠提高液晶顯示器的彩膜基板的生產(chǎn)效率
      [0004]為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:
      [0005]提供一種真空減壓干燥設(shè)備,包括:
      [0006]上蓋和底座,所述上蓋與所述底座之間形成腔室;
      [0007]所述腔室中設(shè)置有可開合的擋板,所述擋板在閉合時(shí)將所述腔室分隔為上腔室和下腔室;
      [0008]所述上腔室中設(shè)置有朝向所述下腔室的攝像頭和光源;
      [0009]所述下腔室壁上設(shè)置有抽氣口。
      [0010]具體地,所述抽氣口設(shè)置于所述下腔室的側(cè)壁上。
      [0011]具體地,所述光源為面光源。
      [0012]進(jìn)一步地,所述可開合的擋板包括多個(gè)單元板,當(dāng)所述擋板閉合時(shí),所述多個(gè)單元板拉伸為板狀結(jié)構(gòu),當(dāng)所述擋板打開時(shí),所述多個(gè)單元板收縮至相互重疊。
      [0013]具體地,所述下腔室的底部設(shè)置有多個(gè)支撐針。
      [0014]具體地,所述上蓋和底座周圍設(shè)置有不透光的圍欄。
      [0015]具體地,所述擋板和所述抽氣口設(shè)置于所述上蓋上。
      [0016]具體地,上述真空減壓干燥設(shè)備還包括:連接于所述攝像頭的亮度不均檢測(cè)裝置。
      [0017]本實(shí)用新型提供的真空減壓干燥設(shè)備,將連接Mura檢測(cè)單元的攝像頭設(shè)置于真空減壓干燥設(shè)備的上蓋內(nèi)部上腔室內(nèi),將VCD設(shè)備和Mura檢測(cè)設(shè)備結(jié)合在一起,在對(duì)基板進(jìn)行真空減壓干燥處理后攝像頭能夠直接對(duì)基板拍照獲取圖片進(jìn)行Mura檢測(cè),不再需要機(jī)械手將基板從V⑶設(shè)備取出并放置于傳送帶上,也不再需要傳送帶在Mura檢測(cè)過程中傳送基板,能夠降低成本,節(jié)約時(shí)間,提高生產(chǎn)效率。且現(xiàn)有技術(shù)中的動(dòng)態(tài)拍攝過程會(huì)因?yàn)榕臄z過程中的不穩(wěn)定造成圖片所示與基板實(shí)際情況不符合,本實(shí)用新型中進(jìn)行Mura檢測(cè)時(shí)的拍攝的過程為靜態(tài)拍攝,靜態(tài)拍攝能夠使拍攝過程更加穩(wěn)定,避免拍攝到的圖片與基板實(shí)際情況不符合。另外,現(xiàn)有技術(shù)在新型號(hào)的基板首次跑片時(shí)需要人為操作對(duì)光源或攝像頭進(jìn)行調(diào)整以獲取Mura檢測(cè)中的標(biāo)準(zhǔn)畫面,而本實(shí)用新型中進(jìn)行Mura檢測(cè)時(shí)的拍攝的過程為靜態(tài)拍攝,因此即便基板的型號(hào)進(jìn)行了改變,也無(wú)需對(duì)光源或攝像頭進(jìn)行調(diào)整,都能夠得到完整準(zhǔn)確的畫面,從而能夠節(jié)約時(shí)間,提高生產(chǎn)效率。
      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0018]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
      [0019]圖1為本實(shí)用新型中一種真空減壓干燥設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0020]圖2為圖1的真空減壓干燥設(shè)備擋板打開之后的示意圖;
      [0021]圖3為圖1的真空減壓干燥設(shè)備的上蓋內(nèi)部仰視圖;
      [0022]圖4為圖1的真空減壓干燥設(shè)備中的擋板打開時(shí)的示意圖;
      [0023]圖5為圖1的真空減壓干燥設(shè)備中的擋板閉合時(shí)的示意圖;
      [0024]圖6為本實(shí)用新型中另一種真空減壓干燥設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0025]圖7為圖6的真空減壓干燥設(shè)備擋板打開之后的示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0026]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
      [0027]如圖1所示,本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種真空減壓干燥設(shè)備,包括上蓋I和底座2,上蓋I與底座2之間形成腔室4 ;腔室4中設(shè)置有可開合的擋板3,擋板3在閉合時(shí)將腔室分隔為上腔室41和下腔室42 ;上腔室41中設(shè)置有朝向下腔室42的攝像頭5和光源6 ;下腔室42壁上設(shè)置有抽氣口 7。在彩膜基板制造過程中,將基板8放置到底座2上,上蓋I下降至與底座2的上表面接觸,使腔室4密閉,同時(shí)擋板3閉合,將腔室4分隔為上腔室41和下腔室42,此時(shí)基板8位于下腔室42中,下腔室42處于密閉狀態(tài),下腔室42壁上的抽氣口7連接外部的真空泵(圖中未示出),真空泵開始對(duì)密閉的下腔室42進(jìn)行抽真空,由于擋板3處于閉合狀態(tài),在對(duì)基板8進(jìn)行干燥處理的同時(shí)不會(huì)因?yàn)槌檎婵諏?duì)上腔室41中設(shè)置的攝像頭5和光源6造成損害,V⑶過程完成后,如圖2所示,基板8位置不變,上蓋I打開,對(duì)下腔室42進(jìn)行破真空,同時(shí)擋板3打開,上腔室41中的光源6點(diǎn)亮,攝像頭5開始對(duì)基板進(jìn)行拍照,根據(jù)所拍攝的照片對(duì)基板8進(jìn)行Mura檢測(cè)。
      [0028]本實(shí)用新型實(shí)施例提供的真空減壓干燥設(shè)備,將連接Mura檢測(cè)單元的攝像頭設(shè)置于真空減壓干燥設(shè)備的上蓋內(nèi)部上腔室內(nèi),將V⑶設(shè)備和Mura檢測(cè)設(shè)備結(jié)合在一起,在對(duì)基板進(jìn)行真空減壓干燥處理后攝像頭能夠直接對(duì)基板拍照獲取圖片進(jìn)行Mura檢測(cè),不再需要機(jī)械手將基板從V⑶設(shè)備取出并放置于傳送帶上,也不再需要傳送帶在Mura檢測(cè)過程中傳送基板,能夠降低成本,節(jié)約時(shí)間,提高生產(chǎn)效率。且現(xiàn)有技術(shù)中的動(dòng)態(tài)拍攝過程會(huì)因?yàn)榕臄z過程中的不穩(wěn)定造成圖片所示與基板實(shí)際情況不符合,本實(shí)施例中進(jìn)行Mura檢測(cè)時(shí)的拍攝的過程為靜態(tài)拍攝,靜態(tài)拍攝能夠使拍攝過程更加穩(wěn)定,避免拍攝到的圖片與基板實(shí)際情況不符合。另外,現(xiàn)有技術(shù)在新型號(hào)的基板首次跑片時(shí)需要人為操作對(duì)光源或攝像頭進(jìn)行調(diào)整以獲取Mura檢測(cè)中的標(biāo)準(zhǔn)畫面,而本實(shí)施例中進(jìn)行Mura檢測(cè)時(shí)的拍攝的過程為靜態(tài)拍攝,因此即便基板的型號(hào)進(jìn)行了改變,也無(wú)需對(duì)光源或攝像頭進(jìn)行調(diào)整,都能夠得到完整準(zhǔn)確的畫面,從而能夠節(jié)約時(shí)間,提高生產(chǎn)效率。
      [0029]具體地,上述真空減壓干燥設(shè)備還包括:連接于攝像頭5的亮度不均Mura檢測(cè)裝置(圖中未示出)。攝像頭5可以將拍到的圖片傳輸至外部連接的Mura檢測(cè)裝置,Mura檢測(cè)裝置根據(jù)所拍攝的照片對(duì)基板8進(jìn)行Mura檢測(cè)。
      [0030]具體地,如圖1所示,抽氣口 7設(shè)置于下腔室42的側(cè)壁上。現(xiàn)有技術(shù)通常將抽氣口設(shè)置于基板上方,抽氣過程中,顆粒容易掉落到基板上。本實(shí)施例將抽氣口 7設(shè)置于下腔室42的側(cè)壁上能夠使掉落到基板8上的顆粒減少。
      [0031]具體地,如圖3所示,光源6可以為面光源。攝像頭5作用為對(duì)基板表面進(jìn)行拍照,獲取平面圖像,因而面光源能夠使攝像頭5在拍照時(shí)得到的圖片效果更好。但上述光源不限于面光源,也可以為其它類型的光源,例如點(diǎn)光源。
      [0032]具體地,可開合的擋板3包括多個(gè)單元板31,如圖4所示,當(dāng)擋板3閉合時(shí),多個(gè)單元板31拉伸為板狀結(jié)構(gòu),如圖5所示,當(dāng)擋板3打開時(shí),多個(gè)單元板31收縮至相互重疊。當(dāng)擋板3打開時(shí),相互重疊的結(jié)構(gòu)在一定程度上可以節(jié)省空間。
      [0033]具體地,如圖1所示,下腔室42的底部設(shè)置有多個(gè)支撐針9,用于放置基板8。
      [0034]具體地,上蓋I和底座2周圍設(shè)置有不透光的圍欄(圖中未示出)。在攝像頭拍照時(shí),圍欄可以遮擋外部的光線,從而使上蓋I和底座2之間形成暗室環(huán)境,減少外部光線的干擾,提聞攝像頭的拍攝精度。
      [0035]優(yōu)選地,如圖2所示,擋板3和抽氣口 7設(shè)置于上蓋I上。如圖6所示,也可以將擋板3和抽氣口 7設(shè)置于底座2上,圖6的真空減壓干燥設(shè)備的工作原理與圖1的真空減壓干燥設(shè)備類似,都是先對(duì)放置于底座中的基板8進(jìn)行真空減壓干燥處理,干燥處理完成之后對(duì)下腔室42破真空,攝像頭5再對(duì)基板8進(jìn)行拍照獲取Mura圖像,不同之處在于,如圖6所示,當(dāng)擋板3和抽氣口 7設(shè)置于底座2上時(shí),如圖7所示,先將上蓋I上升,再將擋板3打開,從而對(duì)下腔室42進(jìn)行破真空。
      [0036]本實(shí)用新型實(shí)施例提供的真空減壓干燥設(shè)備,將連接Mura檢測(cè)單元的攝像頭設(shè)置于真空減壓干燥設(shè)備的上蓋內(nèi)部上腔室內(nèi),將V⑶設(shè)備和Mura檢測(cè)設(shè)備結(jié)合在一起,在對(duì)基板進(jìn)行真空減壓干燥處理后攝像頭能夠直接對(duì)基板拍照獲取圖片進(jìn)行Mura檢測(cè),不再需要機(jī)械手將基板從V⑶設(shè)備取出并放置于傳送帶上,也不再需要傳送帶在Mura檢測(cè)過程中傳送基板,能夠降低成本,節(jié)約時(shí)間,提高生產(chǎn)效率。且現(xiàn)有技術(shù)中的動(dòng)態(tài)拍攝過程會(huì)因?yàn)榕臄z過程中的不穩(wěn)定造成圖片所示與基板實(shí)際情況不符合,本實(shí)施例中進(jìn)行Mura檢測(cè)時(shí)的拍攝的過程為靜態(tài)拍攝,靜態(tài)拍攝能夠使拍攝過程更加穩(wěn)定,避免拍攝到的圖片與基板實(shí)際情況不符合。另外,現(xiàn)有技術(shù)在新型號(hào)的基板首次跑片時(shí)需要人為操作對(duì)光源或攝像頭進(jìn)行調(diào)整以獲取Mura檢測(cè)中的標(biāo)準(zhǔn)畫面,而本實(shí)施例中進(jìn)行Mura檢測(cè)時(shí)的拍攝的過程為靜態(tài)拍攝,因此即便基板的型號(hào)進(jìn)行了改變,也無(wú)需對(duì)光源或攝像頭進(jìn)行調(diào)整,都能夠得到完整準(zhǔn)確的畫面,從而能夠節(jié)約時(shí)間,提高生產(chǎn)效率。抽氣口設(shè)置于下腔室側(cè)壁上能夠使抽氣中掉落到基板上的顆粒減少。通過擋板包括多個(gè)單元板的設(shè)置使擋板在打開時(shí)相互重疊的部分可以節(jié)省空間。
      [0037]以上所述,僅為本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】,但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此,本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
      【權(quán)利要求】
      1.一種真空減壓干燥設(shè)備,其特征在于,包括: 上蓋和底座,所述上蓋與所述底座之間形成腔室; 所述腔室中設(shè)置有可開合的擋板,所述擋板在閉合時(shí)將所述腔室分隔為上腔室和下腔室; 所述上腔室中設(shè)置有朝向所述下腔室的攝像頭和光源; 所述下腔室壁上設(shè)置有抽氣口。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空減壓干燥設(shè)備,其特征在于, 所述抽氣口設(shè)置于所述下腔室的側(cè)壁上。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空減壓干燥設(shè)備,其特征在于, 所述光源為面光源。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空減壓干燥設(shè)備,其特征在于, 所述可開合的擋板包括多個(gè)單元板,當(dāng)所述擋板閉合時(shí),所述多個(gè)單元板拉伸為板狀結(jié)構(gòu),當(dāng)所述擋板打開時(shí),所述多個(gè)單元板收縮至相互重疊。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空減壓干燥設(shè)備,其特征在于, 所述下腔室的底部設(shè)置有多個(gè)支撐針。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空減壓干燥設(shè)備,其特征在于, 所述上蓋和底座周圍設(shè)置有不透光的圍欄。
      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空減壓干燥設(shè)備,其特征在于, 所述擋板和所述抽氣口設(shè)置于所述上蓋上。
      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空減壓干燥設(shè)備,其特征在于,還包括: 連接于所述攝像頭的亮度不均檢測(cè)裝置。
      【文檔編號(hào)】G02F1/1333GK203811942SQ201420226569
      【公開日】2014年9月3日 申請(qǐng)日期:2014年5月5日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月5日
      【發(fā)明者】郭楊辰, 汪棟 申請(qǐng)人:北京京東方顯示技術(shù)有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
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