基于伽馬輻射源制作光纖光柵的裝置的制造方法
【專利摘要】一種光纖光柵制作技術領域的基于伽馬輻射源制作光纖光柵的裝置，該裝置包括：伽馬輻射源、掩模板、刻寫平臺和光纖繞制器，其中：刻寫平臺為頂部開口的半封閉盒式結構，刻寫平臺開口處設置掩模板，刻寫平臺內部設置有光纖繞制器，伽馬輻射源、掩模板和光纖繞制器從上至下依次相對設置；所述的光纖繞制器包括：光纖盤和位于光纖盤上方左右兩側水平設置的滾軸。本實用新型采用的伽馬輻射源穿透性強，在光纖光柵刻寫時無需剝離和重建涂覆層，避免對光纖強度及損耗造成影響，確保了光纖光柵的穩(wěn)定性；同時伽馬輻射源作用面積大，多條光纖能夠并行排布同時刻寫，便于大規(guī)模批量生產。
【專利說明】
基于伽馬輻射源制作光纖光柵的裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及的是一種光纖光柵制作領域的技術，具體是一種基于伽馬輻射源制作光纖光柵的裝置。
【背景技術】
[0002]光纖光柵具有廣泛的應用。在通信領域，光纖布拉格光柵可作為窄帶濾波器，對光纖色散進行補償;長周期光纖光柵可作為帶阻濾波器。在傳感領域，光纖光柵作為分布式傳感器，可實現(xiàn)對溫度、應變、電流、磁場、位移、輻射劑量等物理量的測量。
[0003]目前的光纖光柵制作技術中一般采用紫外光源作為成柵光源，紫外光可在大部分類型的光纖上不同程度地寫入光柵。由于光纖涂敷層對紫外光的吸收率比較高，直接刻寫會破壞涂敷層，所以刻寫光柵前需要剝離光纖的涂敷層，刻寫結束后再重建涂敷層。上述過程會對光纖光柵的性能產生影響。
[0004]目前的直接寫入法主要通過更換光纖涂覆層材料實現(xiàn)，即采用對紫外光透明的材料作為光纖涂覆層，包括丙稀酸酯涂覆層和General Electric RTV615娃膠涂覆層。該技術更換涂覆層對光纖光柵的機械強度造成不可逆的影響；更換涂覆層使制造效率大幅度降低。
【實用新型內容】
[0005]本實用新型針對現(xiàn)有技術中由于涂覆層的更換或重建導致的光纖光柵的受損，使得其機械性能產生影響的不足，提出了一種基于伽馬輻射源制作光纖光柵的裝置，避免光纖光柵刻寫時需要剝離和重建涂覆層，確保了光纖光柵的穩(wěn)定性，而且能夠實現(xiàn)大規(guī)模批量生產。
[0006]本實用新型是通過以下技術方案實現(xiàn)的，
[0007]本實用新型涉及一種基于伽馬輻射源制作光纖光柵的裝置，包括:伽馬輻射源、掩模板、刻寫平臺和光纖繞制器，其中:刻寫平臺為頂部開口的半封閉盒式結構，刻寫平臺開口處設置掩模板，刻寫平臺內部設置有光纖繞制器，伽馬輻射源、掩模板和光纖繞制器從上至下依次相對設置。
[0008]所述的光纖繞制器包括:光纖盤和位于光纖盤上方左右兩側水平設置的滾軸，其中:光纖盤上的光纖繞過兩根滾軸呈水平狀態(tài)。
[0009]所述的光纖盤為柱狀結構，軸向均布有若干組螺紋狀滑槽。
[0010]所述的滾軸表面光滑。
[0011]技術效果
[0012]與現(xiàn)有技術相比，本實用新型采用的伽馬輻射源穿透性強，在光纖光柵刻寫時無需剝離和重建涂覆層，避免涂覆層剝離和重建對光纖強度及損耗的影響，確保了光纖光柵的穩(wěn)定性；同時伽馬輻射源作用面積大，多條光纖能夠并行排布同時刻寫，便于大規(guī)模批量生產。
【附圖說明】

[0013]圖1為本實用新型制作過程中光纖光柵的折射率變化示意圖；
[0014]圖2為本實用新型裝置的基本結構示意圖；
[0015]圖3為本實用新型裝置中部分機構的結構示意圖，其中:(a)為主視圖，(b)為側視圖；
[0016]圖4為光纖盤結構不意圖；
[0017]圖中:伽馬輻射源1、掩模板2、刻寫平臺3、光纖繞制器4、光纖盤5、光纖6、滾軸7。
【具體實施方式】
[0018]下面對本實用新型的實施例作詳細說明，本實施例在以本實用新型技術方案為前提下進行實施，給出了詳細的實施方式和具體的操作過程，但本實用新型的保護范圍不限于下述的實施例。
[0019]實施例1
[0020]如圖2和圖3所示，本實施例涉及一種基于伽馬輻射源制作光纖光柵的裝置，包括:伽馬輻射源1、掩模板2、刻寫平臺3和光纖繞制器4，其中:刻寫平臺3為頂部開口的半封閉盒式結構，刻寫平臺3開口處設置掩模板2，刻寫平臺4內部設置有光纖繞制器4，伽馬輻射源1、掩模板2和光纖繞制器4從上至下依次相對設置；
[0021]所述的光纖繞制器4包括:光纖盤5和位于光纖盤5上方左右兩側水平設置的滾軸7，光纖盤5上的光纖6繞過兩根滾軸7呈水平狀態(tài)。
[0022]優(yōu)選地，所述的伽馬輻射源I為鈷-60;所述的伽馬輻射源I的高度可調，從而改變輻射強度，控制刻寫效果和效率。
[0023]所述的掩模板2可根據刻寫要求進行更換，滿足光纖光柵參數要求。
[0024]所述的刻寫平臺3采用輻射阻隔材料。
[0025]所述的光纖繞制器4可通過改變繞制方式產生不同的光柵陣列。
[0026]所述的光纖盤5為柱狀結構，軸向均布有若干組螺紋狀滑槽，如圖4所示。
[0027]所述的滾軸7表面光滑。
[0028]本實施例涉及上述裝置的光纖光柵的制造方法，將光纖6裝入光纖繞制器4中，通過改變繞制方式產生不同的光柵陣列;然后進行伽馬射線輻射處理，輻射結束后在室溫下退火，由于光纖本身存在細微的差異，退火后需對光纖光柵進行校準和篩選;如圖1所示，輻射結束后的退火過程中，光纖折射率逐步下降，穩(wěn)定后，受折射部分折射率略高于刻寫前。
[0029]所述的退火時間為2-5天。
【主權項】
1.一種基于伽馬輻射源制作光纖光柵的裝置，其特征在于，包括:伽馬輻射源、掩模板、刻寫平臺和光纖繞制器，其中:刻寫平臺為頂部開口的半封閉盒式結構，刻寫平臺開口處設置掩模板，刻寫平臺內部設置有光纖繞制器，伽馬輻射源、掩模板和光纖繞制器從上至下依次相對設置； 所述的光纖繞制器包括:光纖盤和位于光纖盤上方左右兩側水平設置的滾軸，其中:光纖盤上的光纖繞過兩根滾軸呈水平狀態(tài)。2.根據權利要求1所述的基于伽馬輻射源制作光纖光柵的裝置，其特征是，所述的伽馬輻射源的高度可調，從而改變輻射強度以控制刻寫效果和效率。3.據權利要求1所述的基于伽馬輻射源制作光纖光柵的裝置，其特征是，所述的刻寫平臺采用輻射阻隔材料。4.據權利要求1所述的基于伽馬輻射源制作光纖光柵的裝置，其特征是，所述的光纖盤為柱狀結構，軸向均布有若干組螺紋狀滑槽。
【文檔編號】G02B6/02GK205691812SQ201620548119
【公開日】2016年11月16日
【申請日】2016年6月7日 公開號201620548119.7, CN 201620548119, CN 205691812 U, CN 205691812U, CN-U-205691812, CN201620548119, CN201620548119.7, CN205691812 U, CN205691812U
【發(fā)明人】何祖源, 馬麟, 徐陽, 姜壽林
【申請人】上海交通大學