本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜版及其制備方法。

背景技術(shù)：

光刻技術(shù)目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體顯示領(lǐng)域，在光刻技術(shù)的曝光工序中需要用掩膜版，光線透過掩膜版對光敏材料進行曝光，而掩膜版是光刻工藝制程中所使用的圖形母版，由不透光的遮光薄膜在透明玻璃基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。

目前，掩膜版的制作工藝是在玻璃基板上鍍鉻，然后通過涂膠、曝光、顯影、烘烤、刻蝕、剝離等工序形成圖形后最后貼上保護薄膜來保護掩膜圖形；這種掩膜版有以下缺點：1.保護薄膜表面易沾上灰塵顆粒，產(chǎn)生Repeat(重復(fù))性不良；2.保護薄膜表面若沾上灰塵顆粒不易清洗(不能水洗，不能擦)，目前條件下，只能利用氣槍或者IPA(異丙醇)浸泡清洗掩膜版的背面，掩膜版貼有保護薄膜的一面是無法浸泡的，若用氣槍吹掃清洗灰塵顆粒易劃傷或在氣槍吹掃清洗的時候易吹破；出現(xiàn)以上問題只有返廠重貼，成本較高，而且影響生產(chǎn)。因此，提供一種方便清洗的掩膜版顯得尤為必要。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種掩膜版及其制備方法，該掩膜版采用玻璃保護掩模圖形，方便清洗，減少重復(fù)性不良，提高產(chǎn)品良率，降低成本。

為達到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案：

一種掩膜版，包括前板，所述前板包括襯底以及形成于所述襯底上的掩模圖形，還包括與所述前板相對設(shè)置的后板，所述后板與前板之間通過密封膠密封且固定連接，所述后板包括玻璃基板以及形成在所述玻璃基板上的間隙物，所述間隙物設(shè)置在所述后板上與所述前板相對的表面，且沿所述后板上與所述掩模圖形周邊相對的位置均勻設(shè)置，用于支撐所述前板。

在上述掩膜版中，掩模圖形位于襯底和玻璃基板之間，且襯底和玻璃基板之間通過密封膠密封，間隙物設(shè)置在掩模圖形的周邊以支撐前板能夠減少外物對掩模圖形的污染，保護掩模圖形，延長掩膜版的使用時間，同時，采用玻璃基板代替現(xiàn)有技術(shù)中的薄膜，方便清洗，在清洗過程中減少對掩模圖形的損傷，減少了重復(fù)性不良，提高產(chǎn)品品質(zhì)以及掩膜版維修所帶來的損失。

因此，上述掩膜版采用玻璃保護掩模圖形，方便清洗，減少重復(fù)性不良，提高產(chǎn)品良率，降低成本。

優(yōu)選地，所述間隙物的材料為光阻材料。

優(yōu)選地，所述密封材料為封框膠，所述封框膠涂覆在所述玻璃基板的周邊。

優(yōu)選地，所述掩模圖形的材料為鉻。

優(yōu)選地，所述后板和前板之間通過密封膠固化后固定連接。

一種如上述技術(shù)方案任一項所述的掩膜版的制備方法，包括：

在襯底上形成掩模圖形以構(gòu)成前板；

在玻璃基板上形成間隙物以構(gòu)成后板；

在所述后板的周邊涂覆密封膠；

將所述前板和后板對合并使密封膠固化以粘合所述前板和后板。

優(yōu)選地，當所述掩模圖形的材料為金屬材料時，所述在襯底基板上形成掩膜圖形以構(gòu)成前板包括：

在襯底的表面濺射一層金屬膜；

在所述金屬膜上涂覆光刻膠，并通過構(gòu)圖工藝形成掩膜圖形。

優(yōu)選地，所述在玻璃基板上形成間隙物以構(gòu)成后板包括：

在玻璃基板上涂覆光刻膠，并通過光刻工藝形成間隙物。

優(yōu)選地，所述將所述前板和后板對合并使密封膠固化以粘合所述前板和后板包括：

對合所述前板和后板；

高溫烘烤所述密封膠；

密封膠固化以粘合所述前板和后板。

附圖說明

圖1為本發(fā)明提供的一種掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明提供的一種掩膜版的前板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明提供的一種掩膜版的后板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明提供的一種掩膜版的制備方法的流程圖。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

如圖1、圖2以及圖3所示，一種掩膜版，包括前板，前板包括襯底5以及形成于襯底5上的掩模圖形1，還包括與前板相對設(shè)置的后板，后板與前板之間通過密封膠密封且固定連接，后板包括玻璃基板4以及形成在玻璃基板4上的間隙物3，間隙物3設(shè)置在后板上與前板相對的表面，且沿后板上與掩模圖形1周邊相對的位置均勻設(shè)置，用于支撐前板。

在上述掩膜版中，掩模圖形1位于襯底5和玻璃基板4之間，且襯底5和玻璃基板4之間通過密封膠密封，間隙物3設(shè)置在掩模圖形1的周邊以支撐前板能夠減少外物對掩模圖形1的污染，保護掩模圖形1，延長掩膜版的使用時間，同時，采用玻璃基板4代替現(xiàn)有技術(shù)中的薄膜，方便清洗，在清洗過程中減少對掩模圖形1的損傷，減少了重復(fù)性不良，提高產(chǎn)品品質(zhì)以及掩膜版維修所帶來的損失。

因此，上述掩膜版采用玻璃保護掩模圖形1，方便清洗，減少重復(fù)性不良，提高產(chǎn)品良率，降低成本。

一種優(yōu)選實施方式中，間隙物3的材料可以為光阻材料。根據(jù)掩膜版的具體實際情況選擇合適的間隔物材料，常見的間隔物可以選擇光阻材料，在后板上涂覆一層光阻材料，然后通過光刻工藝形成間隔物以支撐前板。

一種優(yōu)選實施方式中，密封材料可以為封框膠2，封框膠2涂覆在玻璃基板4的周邊。根據(jù)掩膜版的具體實際情況選擇合適的密封材料，常見的密封材料可以選擇封框膠2，以將前板和后板密封，在玻璃基板4的周邊涂覆一層封框膠2，然后將前板和后板對合，通過高溫烘烤將封框膠2固化以使得前后板粘合在一起，進而能夠減少外物對掩模圖形1的污染，保護掩模圖形1，延長掩膜版的使用時間，同時，采用玻璃基板4代替現(xiàn)有技術(shù)中的薄膜，方便清洗，在清洗過程中減少對掩模圖形1的損傷，減少了重復(fù)性不良，提高產(chǎn)品品質(zhì)以及掩膜版維修所帶來的損失。

一種優(yōu)選實施方式中，掩模圖形1的材料可以為鉻，掩模圖形1的材料為金屬材料，根據(jù)掩膜版的具體實際情況，掩模圖形1的材料可以為鉻，也可以為其他金屬材料。

一種優(yōu)選實施方式中，后板和前板之間通過密封膠固化后固定連接，在將前板和后板對合以后，通過高溫烘烤將密封膠內(nèi)的環(huán)氧樹脂在催化劑的作用下固化，從而將前后板粘合在一起。

如圖4所示，一種如上述技術(shù)方案任一項的掩膜版的制備方法，包括：

步驟S201，在襯底5上形成掩模圖形1以構(gòu)成前板；

步驟S202，在玻璃基板4上形成間隙物3以構(gòu)成后板；

步驟S203，在后板的周邊涂覆密封膠；

步驟S204，將前板和后板對合并使密封膠固化以粘合前板和后板。

在上述掩膜版的制備方法中，通過步驟S201形成前板，前板上形成有掩模圖形1；通過步驟S202形成后板，后板上形成有間隙物3；通過步驟S203以及步驟S204將前板和后板密封固定，以使掩模圖形1位于襯底5和玻璃基板4形成的密封空間內(nèi)，以減少外物對掩模圖形1的污染，保護掩模圖形1，延長掩膜版的使用時間，同時，采用玻璃基板4代替現(xiàn)有技術(shù)中的薄膜，方便清洗，在清洗過程中減少對掩模圖形1的損傷，減少了重復(fù)性不良，提高產(chǎn)品品質(zhì)以及掩膜版維修所帶來的損失。

一種優(yōu)選實施方式中，當掩模圖形1的材料為金屬材料時，在襯底5基板上形成掩膜圖形以構(gòu)成前板包括：

在襯底5的表面濺射一層金屬膜；

在金屬膜上涂覆光刻膠，并通過構(gòu)圖工藝形成掩膜圖形。

將襯底5的表面濺射一層金屬膜，上述金屬膜可以為鉻膜，也可以為其他金屬膜，然后通過光刻、烘烤、刻蝕、剝離等構(gòu)圖工藝將需要的掩模圖形1制作在基板表面。

一種優(yōu)選實施方式中，在玻璃基板4上形成間隙物3以構(gòu)成后板包括：

在玻璃基板4上涂覆光刻膠，并通過光刻工藝形成間隙物3。

在玻璃基板4上涂覆光刻膠，然后通過光刻工藝制作成間隙物3以保證在前后板對合時支撐前板。

一種優(yōu)選實施方式中，將前板和后板對合并使密封膠固化以粘合前板和后板包括：

對合前板和后板；

高溫烘烤密封膠；

密封膠固化以粘合前板和后板。

在玻璃表面周邊涂覆一圈密封膠，然后將前后板對合，通過高溫烘烤將密封膠內(nèi)的環(huán)氧樹脂在催化劑的作用下固化，從而將前后板粘合在一起。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明實施例進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。