本發(fā)明屬于光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種窄帶負(fù)濾光片的制作方法及裝置。

背景技術(shù)：

121.6nm是氫元素的lyman-α(拉曼阿爾法)線，它是太陽(yáng)光譜中最豐富和輻射強(qiáng)度最強(qiáng)的譜線，它在太陽(yáng)和日冕物理中發(fā)揮著非常重要的作用。它形成于太陽(yáng)的色球?qū)樱且环N冷且強(qiáng)烈的輻射譜線，它對(duì)色球?qū)拥臏囟?、等離子體速度和色球?qū)哟艌?chǎng)非常敏感。用它能夠分析許多色球?qū)拥奶卣鳎夯钴S區(qū)域暗條，亮點(diǎn)，靜止區(qū)域暗條，極地光斑。用它還能直觀的對(duì)日冕等離子體進(jìn)行分析判斷，尤其是日冕密度的分布和氣體質(zhì)量分布。

在一個(gè)大范圍和相對(duì)穩(wěn)定的區(qū)域，通過(guò)對(duì)該譜段的全景描繪，人們能夠獲取極地光球區(qū)域上面的磁場(chǎng)線輪廓。而且，人們通過(guò)對(duì)該輻射線強(qiáng)度隨其軸向距離變化的測(cè)量來(lái)確定等離子體的軸向速率和跟蹤太陽(yáng)風(fēng)的加速。綜上所述，121.6nm譜線的探測(cè)對(duì)太陽(yáng)和日冕物理的科學(xué)研究具有非常重要的意義。因此，需要研制萊曼阿爾法日冕儀，對(duì)121.6nm譜線進(jìn)行成像觀測(cè)。由于太陽(yáng)輻射譜線非常寬，所以需要使用窄帶負(fù)濾光片，去除雜光的影響，保證121.6nm觀測(cè)譜線的純度。換言之，121.6nm負(fù)濾光片帶寬要窄，在121.6nm處具有較高的反射率，帶外的反射率要進(jìn)行有效的抑制。另外，需要說(shuō)明的是，負(fù)濾光片，又稱notch濾光片，它是一種反射式濾光片。

acton公司制備了al/mgf2/os多層膜，在121.6nm獲得了51％的反射率，帶寬15nm。park研究小組制備了laf3/mgf2多層膜，使用兩快反射鏡，在121.6nm處獲得了27％的反射率，帶寬6nm。他們給出了一階周期多層膜的設(shè)計(jì)結(jié)果。

為了滿足我國(guó)拉曼阿爾法日冕儀研制的需要，需要研發(fā)具有較高的反射率，較低帶寬，以對(duì)帶外波紋得到了有效的抑制。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種窄帶負(fù)濾光片的制作方法。

第一方面，提供一種窄帶負(fù)濾光片的制作方法，所述方法包括：

獲取所需窄帶負(fù)濾光片對(duì)應(yīng)的中心波長(zhǎng)；

根據(jù)所述中心波長(zhǎng)在基底上進(jìn)行膜厚調(diào)制得到第一窄帶負(fù)濾光片；

對(duì)完成膜厚調(diào)制的第一窄帶負(fù)濾光片進(jìn)行振幅裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片。

可選地，所述獲取所需窄帶負(fù)濾光片對(duì)應(yīng)的中心波長(zhǎng)，包括：

使用一階exp指數(shù)衰減法擬合光學(xué)常數(shù)，根據(jù)預(yù)設(shè)第一關(guān)系確定中心波長(zhǎng)為202nm，所述第一關(guān)系為：

其中，σm,n是高階截止帶(波數(shù)，nm^-1)，σ0是一階反射帶，m和n是整數(shù)，δnl是低折射率材料的折射率變化，δnh是高折射率材料的折射率變化，nl0是參考波長(zhǎng)處低折射率材料的折射率，nh0是參考波長(zhǎng)處高折射率材料的折射率，fm是調(diào)制頻率。

可選地，所述膜厚調(diào)制，包括：

采用的鍍膜材料是氟化鑭和氟化鎂，基底是熔石英，氟化鑭和氟化鎂交替疊加在基底上，靠近基底側(cè)膜層為氟化鎂，最外層是氟化鑭。

可選地，根據(jù)所述中心波長(zhǎng)在基底上進(jìn)行膜厚調(diào)制得到第一窄帶負(fù)濾光片，包括：

在周期多層膜的一個(gè)周期里，h+l＝0.5λ，根據(jù)第二關(guān)系計(jì)算每層膜的厚度，所述第二關(guān)系為：

t(l)＝tavg[1+kcos(2πfml)]，

其中，h和l分別是高、低折射率材料的光學(xué)厚度，t(l)是第l層膜的光學(xué)厚度，tavg是四分之一波長(zhǎng)膜厚，fm是調(diào)制頻率，這里取fm＝0.5，k是調(diào)制振幅。

可選地，所述對(duì)完成膜厚調(diào)制的第一窄帶負(fù)濾光片進(jìn)行振幅裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，包括：

利用振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片。

可選地，所述利用振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，包括：

利用正旋波函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，此時(shí)為帶寬5nm,在121.6nm處反射率37.6％的窄帶負(fù)濾光片，所述正旋波函數(shù)為：

其中，a(l)是裁剪振幅函數(shù)，f1是調(diào)制頻率，ltot是被裁減的膜層數(shù)量。

可選地，所述利用振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，包括：

利用線性函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，此時(shí)為帶寬5nm,在121.6nm處反射率33.9％的窄帶負(fù)濾光片，所述線性函數(shù)為：

其中，a(l)是裁剪振幅函數(shù)，ltot是被裁減的膜層數(shù)量。

可選地，所述利用振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，包括：

利用五次函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，此時(shí)為帶寬5nm，在121.6nm處反射率，29.9％的窄帶負(fù)濾光片，所述五次函數(shù)為：

a(l)＝10m³-15m⁴+6m⁵

m＝4f1t；

其中，a(l)是裁剪振幅函數(shù)，f1是調(diào)制頻率。

可選地，所述周期多層膜的膜層數(shù)是23層。

第二方面，提供一種窄帶負(fù)濾光片的制作裝置，所述裝置包括：

計(jì)算單元，用于獲取所需窄帶負(fù)濾光片對(duì)應(yīng)的中心波長(zhǎng)；

調(diào)制單元，用于根據(jù)所述中心波長(zhǎng)在基底上進(jìn)行膜厚調(diào)制得到第一窄帶負(fù)濾光片；

裁剪單元，用于對(duì)完成膜厚調(diào)制的第一窄帶負(fù)濾光片進(jìn)行振幅裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片。

從以上技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明實(shí)施例具有以下優(yōu)點(diǎn)：

本發(fā)明提供的窄帶負(fù)濾光片的制作方法及裝置，先獲取所需窄帶負(fù)濾光片對(duì)應(yīng)的中心波長(zhǎng)，根據(jù)所述中心波長(zhǎng)在基底上進(jìn)行膜厚調(diào)制得到第一窄帶負(fù)濾光片，對(duì)完成膜厚調(diào)制的第一窄帶負(fù)濾光片進(jìn)行振幅裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，具有較高的反射率，較低帶寬，對(duì)帶外波紋得到了有效的抑制。進(jìn)一步地，通過(guò)膜厚調(diào)制，初步得到一個(gè)二階121.6nm窄帶負(fù)濾光片，帶寬7nm，在121.6nm處反射率達(dá)到55％；分別通過(guò)正旋波、線性和五次振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)膜厚調(diào)制作進(jìn)一步剪裁，實(shí)現(xiàn)對(duì)帶外波紋的抑制，同時(shí)帶寬減小至5nm。該制作方法簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)的膜系包括交替疊加的氟化鎂和氟化鑭膜層，膜系層數(shù)少于30層，選用的材料為常用的材料，且層數(shù)少，易于制備。

附圖說(shuō)明

圖1a是本發(fā)明實(shí)施例中的窄帶負(fù)濾光片的制作方法的流程圖；

圖1b是本發(fā)明實(shí)施例中的窄帶負(fù)濾光片的制作方法的確定中心波長(zhǎng)時(shí)，laf2折射率擬合結(jié)果示意圖；

圖1c是本發(fā)明實(shí)施例中的窄帶負(fù)濾光片的制作方法的確定中心波長(zhǎng)時(shí)，mgf2折射率擬合結(jié)果示意圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例中的窄帶負(fù)濾光片的制作方法的入射角0°時(shí)laf3/mgf2(0.3l1.4h0.3l)^11厚度調(diào)制周期多層膜，波長(zhǎng)與反射率之間關(guān)系的理論計(jì)算示意圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例中的窄帶負(fù)濾光片的制作方法的入射角0°時(shí)正旋波函數(shù)裁剪laf3/mgf2厚度調(diào)制多層膜，波長(zhǎng)與反射率之間關(guān)系的理論計(jì)算示意圖；

圖4是本發(fā)明實(shí)施例中的窄帶負(fù)濾光片的制作方法的正旋函數(shù)裁剪(7層)laf3/mgf2厚度調(diào)制多層膜的膜厚分布示意圖；

圖5是本發(fā)明實(shí)施例中的窄帶負(fù)濾光片的制作方法的入射角0°時(shí)線性函數(shù)裁剪laf3/mgf2厚度調(diào)制多層膜，波長(zhǎng)與反射率之間關(guān)系的理論計(jì)算結(jié)果示意圖；

圖6是本發(fā)明實(shí)施例中的窄帶負(fù)濾光片的制作方法的入射角0°時(shí)五次函數(shù)裁剪laf3/mgf2厚度調(diào)制多層膜，波長(zhǎng)與反射率之間關(guān)系的理論計(jì)算結(jié)果示意圖；

圖7是本發(fā)明實(shí)施例中的窄帶負(fù)濾光片的制作裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本發(fā)明方案，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分的實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都應(yīng)當(dāng)屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明的說(shuō)明書和權(quán)利要求書及上述附圖中的術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等(如果存在)是用于區(qū)別類似的對(duì)象，而不必用于描述特定的順序或先后次序。應(yīng)該理解這樣使用的數(shù)據(jù)在適當(dāng)情況下可以互換，以便這里描述的實(shí)施例能夠以除了在這里圖示或描述的內(nèi)容以外的順序?qū)嵤?。此外，術(shù)語(yǔ)“包括”和“具有”以及他們的任何變形，意圖在于覆蓋不排他的包含，例如，包含了一系列步驟或單元的過(guò)程、方法、系統(tǒng)、產(chǎn)品或設(shè)備不必限于清楚地列出的那些步驟或單元，而是可包括沒(méi)有清楚地列出的或?qū)τ谶@些過(guò)程、方法、產(chǎn)品或設(shè)備固有的其它步驟或單元。

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

結(jié)合圖1a所示，本發(fā)明實(shí)施例中提供一種窄帶負(fù)濾光片的制作方法，所述方法包括：

s101、獲取所需窄帶負(fù)濾光片對(duì)應(yīng)的中心波長(zhǎng)；

s102、根據(jù)所述中心波長(zhǎng)在基底上進(jìn)行膜厚調(diào)制得到第一窄帶負(fù)濾光片；

s103、對(duì)完成膜厚調(diào)制的第一窄帶負(fù)濾光片進(jìn)行振幅裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片。

可選地，所述獲取所需窄帶負(fù)濾光片對(duì)應(yīng)的中心波長(zhǎng)，包括：

使用一階exp指數(shù)衰減法擬合光學(xué)常數(shù)，根據(jù)預(yù)設(shè)第一關(guān)系確定中心波長(zhǎng)為202nm，所述第一關(guān)系為：

其中，σm,n是高階截止帶(波數(shù)，nm^-1)，σ0是一階反射帶，m和n是整數(shù)，δnl是低折射率材料折射率變化，δnh是高折射率材料折射率變化，nl0是參考波長(zhǎng)處低折射率材料折射率，nh0是參考波長(zhǎng)處高折射率材料折射率，fm是調(diào)制頻率。

可選地，所述膜厚調(diào)制，包括：

采用的鍍膜材料是氟化鑭和氟化鎂，基底是熔石英，氟化鑭和氟化鎂交替疊加在基底上，靠近基底側(cè)膜層為氟化鎂，最外層是氟化鑭。

可選地，根據(jù)所述中心波長(zhǎng)在基底上進(jìn)行膜厚調(diào)制得到第一窄帶負(fù)濾光片，包括：

在周期多層膜的一個(gè)周期里，h+l＝0.5λ，根據(jù)第二關(guān)系計(jì)算每層膜的厚度，所述第二關(guān)系為：

t(l)＝tavg[1+kcos(2πfml)]，

其中，h和l分別是高、低折射率材料的光學(xué)厚度，t(l)是第l層膜的光學(xué)厚度，tavg是四分之一波長(zhǎng)膜厚，fm是調(diào)制頻率，這里取fm＝0.5，k是調(diào)制振幅。

可選地，所述對(duì)完成膜厚調(diào)制的第一窄帶負(fù)濾光片進(jìn)行振幅裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，包括：

利用振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片。

可選地，所述利用振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，包括：

利用正旋波函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，此時(shí)為帶寬5nm，在121.6nm處反射率37.6％的窄帶負(fù)濾光片，所述正旋波函數(shù)為：

其中，a(l)是裁剪振幅函數(shù)，f1是調(diào)制頻率，ltot是被裁減的膜層數(shù)量。

可選地，所述利用振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，包括：

利用線性函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，此時(shí)為帶寬5nm，在121.6nm處反射率33.9％的窄帶負(fù)濾光片，所述線性函數(shù)為：

其中，a(l)是裁剪振幅函數(shù)，ltot是被裁減的膜層數(shù)量。

可選地，所述利用振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，包括：

利用五次函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，此時(shí)為帶寬5nm，在121.6nm處反射率，29.9％的窄帶負(fù)濾光片，所述五次函數(shù)為：

a(l)＝10m³-15m⁴+6m⁵

m＝4f1t；

其中，a(l)是裁剪振幅函數(shù)，f1是調(diào)制頻率。

可選地，所述周期多層膜的膜層數(shù)是23層。

下面針對(duì)窄帶負(fù)濾光片的制作方法提供一種具體的實(shí)現(xiàn)方式加以說(shuō)明。

一種提高121.6nm光譜純度的多層膜，該多層膜包括：融石英基底和laf3/mgf2多層膜；所述氟化鑭/氟化鎂laf3/mgf2多層膜疊加在融石英基底上，靠近基底側(cè)膜層為mgf2，最后一層是laf3。

使用一階laf3/mgf2周期多層膜多層膜設(shè)計(jì)的121.6nm窄帶負(fù)濾光片，其帶寬約為10nm。減小帶寬的方法通過(guò)使用高階多層膜，具體步驟包括以下：

1.確定中心波長(zhǎng)

在遠(yuǎn)紫外波段，薄膜材料具有較大的色散，中心波長(zhǎng)會(huì)有較大的偏離。使用公式1來(lái)確定中心波長(zhǎng)：

σm,n是高階截止帶(波數(shù)，nm-¹)，σ0是一階反射帶，m和n是整數(shù)，δnl是低折射率材料折射率變化，δnh是高折射率材料折射率變化，nl0是參考波長(zhǎng)處低折射率材料折射率，nh0是參考波長(zhǎng)處高折射率材料折射率，fm是調(diào)制頻率。

這里，fm＝0.5,m＝1,n＝1,σm,n＝σ1,1＝1/121.6nm，我們需要計(jì)算σ0來(lái)確定中心波長(zhǎng)。難點(diǎn)是計(jì)算δni/ni0，i可以為上述的h和l，即，難點(diǎn)是計(jì)算δnl/nl0或計(jì)算δnh/nh0。薄膜材料的折射率用公式2來(lái)擬合，它是一階exp指數(shù)衰減函數(shù)。擬合結(jié)果見(jiàn)圖1b和圖1c和公式3。公式4給出了δnh/nho的詳細(xì)計(jì)算過(guò)程，最后得到δnh/nho為0.267，δnl/nlo為0.1416。將上述數(shù)值代入公式1，計(jì)算出中心波長(zhǎng)為202nm，這和光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)軟件用試錯(cuò)法得出的203nm非常接近，只差1nm。

y＝a1exp(-x/t)+y0(2)，

yh＝16.965exp(-x/33.410)+1.653(3)，

2.薄膜調(diào)制設(shè)計(jì)

通常情況下，在周期多層膜的一個(gè)周期里，h+l＝0.5λ。h和l分別是高、低折射率材料的光學(xué)厚度。當(dāng)h/l＝1,它的二階反射帶會(huì)消失。我們用公式5來(lái)計(jì)算每層膜的厚度：

t(l)＝tavg[1+kcos(2πfml)](5)，

t(l)是第l層膜的光學(xué)厚度，tavg是四分之一波長(zhǎng)膜厚，它是l/h的比值，fm是調(diào)制頻率，這里我們?nèi)m＝0.5，這是因?yàn)橹挥性谶@種情況下，一階和二階反射帶之間非簡(jiǎn)并反射帶最少。k是調(diào)制振幅，是l/h的比值。這里，我們選擇k＝0.6/1.4。多層膜的結(jié)構(gòu)為(0.3l1.4h0.3l)^11。膜層數(shù)是23。圖2給出了結(jié)構(gòu)為(0.3l1.4h0.3l)^11的周期多層膜的理論反射率曲線，在121.6nm處的反射率為54.7％，帶寬7nm，右側(cè)的帶外波紋比較多，需要作進(jìn)一步的抑制。

3.裁剪厚度調(diào)制多層膜

我們采用三種振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)調(diào)制的周期多層膜做膜厚裁剪，分別是正旋波、線性和五次函數(shù)。而且只對(duì)右側(cè)(靠近空氣介質(zhì))的膜厚做裁剪，是一種非對(duì)稱裁剪。公式6是裁剪厚度調(diào)制多層膜分一層薄膜的計(jì)算公式：

t(l)＝tavg[1+ka(l)cos(2πfml)](6)，

其中a(l)是裁剪振幅函數(shù)。

3.1正旋波函數(shù)裁剪

公式7是正旋波函數(shù)的公式，ltot是被裁減的膜層數(shù)量，不是整個(gè)多層膜總層數(shù)。圖3給出了右側(cè)裁剪3、7和11層的多層膜理論反射率曲線。對(duì)右側(cè)11層裁剪，得到了帶寬5nm,在121.6nm處反射率37.6％的窄帶負(fù)濾光片。圖4給出了右側(cè)裁剪7層膜厚的多層膜的膜厚分布圖。

3.2線性函數(shù)裁剪

公式8是線性函數(shù)的公式。圖5給出了右側(cè)裁剪3、7和11層的多層膜理論反射率曲線。對(duì)右側(cè)11層裁剪，得到了帶寬5nm,在121.6nm處反射率33.9％的窄帶負(fù)濾光片。

3.2五次函數(shù)裁剪

公式9是線性函數(shù)的公式。圖6給出了右側(cè)裁剪3、7和11層的多層膜理論反射率曲線。對(duì)右側(cè)11層裁剪，得到了帶寬5nm，在121.6nm處反射率，29.9％的窄帶負(fù)濾光片。

a(l)＝10m³-15m⁴+6m⁵

m＝4f1t(9)。

本發(fā)明通過(guò)先確定中心波長(zhǎng)的方法，所述方法確定了中心波長(zhǎng)為202nm，和精準(zhǔn)值203nm只差了1nm。該方法為后續(xù)的二階121.6nm窄帶負(fù)濾光片的設(shè)計(jì)提供了一個(gè)重要的參數(shù)。再通過(guò)膜厚調(diào)制，初步得到一個(gè)二階121.6nm窄帶負(fù)濾光片，帶寬7nm，在121.6nm處反射率達(dá)到55％；分別通過(guò)正旋波、線性和五次振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)膜厚調(diào)制作進(jìn)一步剪裁，實(shí)現(xiàn)對(duì)帶外波紋的抑制，同時(shí)帶寬減小至5nm。該設(shè)計(jì)方法簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)的膜系包括交替疊加的mgf2和laf3膜層，膜系層數(shù)少于30層，選用的材料為常用的材料，且層數(shù)少，易于制備。

結(jié)合圖7，提供一種窄帶負(fù)濾光片的制作裝置，所述裝置包括：

計(jì)算單元701，用于獲取所需窄帶負(fù)濾光片對(duì)應(yīng)的中心波長(zhǎng)；

調(diào)制單元702，用于根據(jù)所述中心波長(zhǎng)在基底上進(jìn)行膜厚調(diào)制得到第一窄帶負(fù)濾光片；

裁剪單元703，用于對(duì)完成膜厚調(diào)制的第一窄帶負(fù)濾光片進(jìn)行振幅裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片。

本發(fā)明提供的窄帶負(fù)濾光片的制作裝置，先獲取所需窄帶負(fù)濾光片對(duì)應(yīng)的中心波長(zhǎng)，根據(jù)所述中心波長(zhǎng)在基底上進(jìn)行膜厚調(diào)制得到第一窄帶負(fù)濾光片，對(duì)完成膜厚調(diào)制的第一窄帶負(fù)濾光片進(jìn)行振幅裁剪得到所需窄帶負(fù)濾光片，具有較高的反射率，較低帶寬，對(duì)帶外波紋得到了有效的抑制。進(jìn)一步地，通過(guò)膜厚調(diào)制，初步得到一個(gè)二階121.6nm窄帶負(fù)濾光片，帶寬7nm，在121.6nm處反射率達(dá)到55％；分別通過(guò)正旋波、線性和五次振幅包絡(luò)函數(shù)對(duì)膜厚調(diào)制作進(jìn)一步剪裁，實(shí)現(xiàn)對(duì)帶外波紋的抑制，同時(shí)帶寬減小至5nm。該制作方法簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)的膜系包括交替疊加的氟化鎂和氟化鑭膜層，膜系層數(shù)少于30層，選用的材料為常用的材料，且層數(shù)少，易于制備。

所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員可以清楚地了解到，為描述的方便和簡(jiǎn)潔，上述描述的系統(tǒng)，裝置和單元的具體工作過(guò)程，可以參考前述方法實(shí)施例中的對(duì)應(yīng)過(guò)程，在此不再贅述。

在本申請(qǐng)所提供的幾個(gè)實(shí)施例中，應(yīng)該理解到，所揭露的系統(tǒng)，裝置和方法，可以通過(guò)其它的方式實(shí)現(xiàn)。例如，以上所描述的裝置實(shí)施例僅僅是示意性的，例如，所述單元的劃分，僅僅為一種邏輯功能劃分，實(shí)際實(shí)現(xiàn)時(shí)可以有另外的劃分方式，例如多個(gè)單元或組件可以結(jié)合或者可以集成到另一個(gè)系統(tǒng)，或一些特征可以忽略，或不執(zhí)行。另一點(diǎn)，所顯示或討論的相互之間的耦合或直接耦合或通信連接可以是通過(guò)一些接口，裝置或單元的間接耦合或通信連接，可以是電性，機(jī)械或其它的形式。

所述作為分離部件說(shuō)明的單元可以是或者也可以不是物理上分開(kāi)的，作為單元顯示的部件可以是或者也可以不是物理單元，即可以位于一個(gè)地方，或者也可以分布到多個(gè)網(wǎng)絡(luò)單元上。可以根據(jù)實(shí)際的需要選擇其中的部分或者全部單元來(lái)實(shí)現(xiàn)本實(shí)施例方案的目的。

另外，在本發(fā)明各個(gè)實(shí)施例中的各功能單元可以集成在一個(gè)處理單元中，也可以是各個(gè)單元單獨(dú)物理存在，也可以兩個(gè)或兩個(gè)以上單元集成在一個(gè)單元中。上述集成的單元既可以采用硬件的形式實(shí)現(xiàn)，也可以采用軟件功能單元的形式實(shí)現(xiàn)。

本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解上述實(shí)施例的各種方法中的全部或部分步驟是可以通過(guò)程序來(lái)指令相關(guān)的硬件來(lái)完成，該程序可以存儲(chǔ)于一計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)中，存儲(chǔ)介質(zhì)可以包括：只讀存儲(chǔ)器(rom，readonlymemory)、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(ram，randomaccessmemory)、磁盤或光盤等。

本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例方法中的全部或部分步驟是可以通過(guò)程序來(lái)指令相關(guān)的硬件完成，所述的程序可以存儲(chǔ)于一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)中，上述提到的存儲(chǔ)介質(zhì)可以是只讀存儲(chǔ)器，磁盤或光盤等。

以上對(duì)本發(fā)明所提供的一種窄帶負(fù)濾光片的制作方法及裝置進(jìn)行了詳細(xì)介紹，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的思想，在具體實(shí)施方式及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處，綜上所述，本說(shuō)明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的限制。