本技術(shù)涉及納米壓印,尤其涉及一種壓印裝置。
背景技術(shù):
1、近幾年,“元宇宙”概念經(jīng)歷了從概念到真正實現(xiàn)了各類相關(guān)實體產(chǎn)品的落地過程,讓用戶真實感受到“元宇宙”的存在。其中,ar眼鏡和mr頭顯是兩款最具代表性的產(chǎn)品。實際上,實現(xiàn)這兩種產(chǎn)品的制造可以采用不同的光學(xué)顯示方案。
2、在波導(dǎo)光學(xué)中,與陣列光波導(dǎo)和全息光波導(dǎo)相比,表面浮雕衍射光波導(dǎo)具有可完全復(fù)用現(xiàn)有半導(dǎo)體的制造加工技術(shù)和設(shè)備,可以滿足消費級成像需求,并且具備大規(guī)模生產(chǎn)制造的能力而被給予厚望。
3、目前表面浮雕衍射光波導(dǎo)的批量化生產(chǎn),主要依賴于納米壓印技術(shù),由于壓印技術(shù)工藝的限制,難易實現(xiàn)大批量的量產(chǎn),致使目前ar眼鏡無法普及,這其中的難點在于如何實現(xiàn)波導(dǎo)的大批量壓印以實現(xiàn)量產(chǎn)。經(jīng)檢索,如現(xiàn)有技術(shù)cn111679554b公開了一種雙腔式納米壓印機構(gòu),通過氣壓控制壓印木板緊緊壓在襯底上,其中壓印模板未完全張緊地夾于壓印夾具,預(yù)留一定的余量,通過提高壓強將壓印模板緊緊壓在襯底表面,但本領(lǐng)域技術(shù)人員知悉,壓印都是微納結(jié)構(gòu),尺寸在幾十至幾百納米,通過未張緊的壓印模板在受力作用下壓印時,難以對準(zhǔn)襯底,且如何控制張緊的尺度,是難以實現(xiàn)的,當(dāng)張緊尺度不同時,所帶來壓印結(jié)構(gòu)和尺寸的變化是巨大的,是難以被接受的;如現(xiàn)有技術(shù)cn218866308u公開了一種納米壓印裝置,通過壓力組件5與升降機構(gòu)2對模片4與基片5之間進行壓印,可通過壓力組件5對模片4施壓,具有一定彎曲形變的模片4與基片3相切接觸慢慢擴展,避免貼合過程中產(chǎn)生氣泡;完成光固成型后,壓印組件5通過通氣口52排出高壓氣體,使壓力腔收縮,同時升降機構(gòu)2向上升起,將模片4與基片3分離。但本領(lǐng)域技術(shù)人員知悉,基于前述相同的理由,彎曲形變的模片在壓印時將導(dǎo)致壓印結(jié)構(gòu)的變化,影響是巨大的,且在脫模時,通過升降機構(gòu)上升,這種直上直下的脫模方式將影響壓印的微結(jié)構(gòu),甚至是巨大的;更進一步,如cn111929985a公開了一種壓印的脫模方式,通過控制整個運動過程復(fù)制硬模具基板112和玻璃基板211的角度一直與斜齒光柵角度為50度的目的,呈左底角為50度的平行四邊形移動,以這種的方式完成脫模,避免了脫模時原始模具的斜齒損傷固化的聚合物膠體斜齒光柵結(jié)構(gòu)的問題,在一定程度上緩解了脫模時對壓印結(jié)構(gòu)的損傷,但可知曉,往往壓印的結(jié)構(gòu)并不單一,不僅僅只有斜齒,在一個晶圓上壓印時,壓印的結(jié)構(gòu)包括直齒、斜齒、閃耀,或多個不同的組合,但僅僅靠脫斜齒的方式難以實現(xiàn)整個晶圓的脫模,尤其是針對多種壓印結(jié)構(gòu),難以保證各個光柵結(jié)構(gòu)齒的完整形貌,因此,現(xiàn)有技術(shù)采用的未張緊的壓印方式或斜齒的脫模方式對壓印質(zhì)量的改善是有限的,甚至未張緊的壓印將難以實現(xiàn)模板與襯底的對準(zhǔn),且壓印的結(jié)構(gòu)是難以控制的。因此,對本領(lǐng)域技術(shù)人員而言,亟需改善壓印工藝,提高壓印和脫模時的質(zhì)量。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本實用新型提供了一種壓印裝置,解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,使得在壓印時壓印模板能夠準(zhǔn)確對準(zhǔn)晶圓,且壓印模板處于張緊狀態(tài),以減少對壓印結(jié)構(gòu)的影響;同時通過獨立設(shè)計的脫模方式,適用于目前多種光柵結(jié)構(gòu)的脫模,尤其是在同一晶圓上存在閃耀、斜齒、直齒等多種齒形混合的情況下,本實用新型能盡可能減少脫模對各個齒形結(jié)構(gòu)帶來的損傷問題,保證結(jié)構(gòu)的完整性。
2、本實用新型提供了一種壓印裝置,包括基板、上殼體、密封件、連接件和載臺;所述上殼體通過所述連接件與所述載臺連接,以在所述上殼體與所述載臺之間形成密封腔室一;所述密封件設(shè)置于所述載臺和所述基板之間,以在所述載臺與所述基板之間形成密封腔室二;在所述載臺上形成壓印模板;在所述載臺遠(yuǎn)離所述壓印模板的一側(cè)設(shè)置至少兩個伸縮件,至少兩個所述伸縮件位于所述載臺與所述基板之間,通過所述伸縮件的伸縮作用使得所述載臺在不同的壓印區(qū)域被提升不同的高度。
3、在一些實施例中,在所述上殼體和所述基板上均獨立設(shè)置至少一個通氣孔,在所述上殼體的中部設(shè)置至少一透明區(qū)域。
4、在一些實施例中,所述密封件適應(yīng)于所述載臺的不同高度變化。
5、在一些實施例中,不同的所述伸縮件伸縮不同的高度,控制不同壓印區(qū)域的所述載臺被提升不同的高度,使得所對應(yīng)連接區(qū)域的所述壓印模板也被適應(yīng)于所述伸縮件的高度變化。
6、在一些實施例中,所述連接件和所述密封件可一體化設(shè)置。
7、在一些實施例中,其特征在于,所述壓印模板貼合于所述載臺且遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)。
8、在一些實施例中,所述載臺在不同區(qū)域的提升高度不同,以適應(yīng)于不同光柵結(jié)構(gòu)齒方向的變化,所述不同區(qū)域被限定為不同所述伸縮件所在的位置。
9、進一步,所述載臺呈環(huán)形結(jié)構(gòu),至少兩個所述伸縮件均勻布置于所述載臺的一側(cè),所述伸縮件的位置適配于不同壓印光柵結(jié)構(gòu)的朝向。
10、在一些實施例中,所述上殼體通過所述連接件與所述載臺間接連接,以在所述上殼體與所述載臺之間形成密封腔室一。
11、進一步,在一些實施例中,所述載臺與所述基板通過所述密封件間接連接,以在所述載臺與所述基板之間形成密封腔室二。
12、本實用新型提供了一種壓印裝置,在裝置中設(shè)置了多個伸縮件,不同的伸縮件伸縮不同的高度,控制不同壓印區(qū)域的載臺被提升不同的高度,使得所對應(yīng)連接區(qū)域的壓印模板也被適應(yīng)于伸縮件的高度變化,壓印模板被提升不同的高度,進而控制脫模時不同區(qū)域的脫模情況,避免了現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷。
1.一種壓印裝置,包括基板、上殼體、密封件、連接件和載臺;其特征在于,所述上殼體通過所述連接件與所述載臺連接,以在所述上殼體與所述載臺之間形成密封腔室一;所述密封件設(shè)置于所述載臺和所述基板之間,以在所述載臺與所述基板之間形成密封腔室二;在所述載臺上形成壓印模板;在所述載臺遠(yuǎn)離所述壓印模板的一側(cè)設(shè)置至少兩個伸縮件,至少兩個所述伸縮件位于所述載臺與所述基板之間,通過所述伸縮件的伸縮作用使得所述載臺在不同的壓印區(qū)域被提升不同的高度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印裝置,其特征在于,在所述上殼體和所述基板上均獨立設(shè)置至少一個通氣孔,在所述上殼體的中部設(shè)置至少一透明區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓印裝置,其特征在于,不同的所述伸縮件伸縮不同的高度,控制不同壓印區(qū)域的所述載臺被提升不同的高度,使得所對應(yīng)連接區(qū)域的所述壓印模板也被適應(yīng)于所述伸縮件的高度變化。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印裝置,其特征在于,所述連接件和所述密封件可一體化設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓印裝置,其特征在于,所述壓印模板貼合于所述載臺且遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓印裝置,其特征在于,所述載臺在不同區(qū)域的提升高度不同,以適應(yīng)于不同光柵結(jié)構(gòu)齒方向的變化,所述不同區(qū)域被限定為不同所述伸縮件所在的位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印裝置,其特征在于,所述密封件適應(yīng)于所述載臺的不同高度變化。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓印裝置,其特征在于,所述載臺呈環(huán)形結(jié)構(gòu),至少兩個所述伸縮件均勻布置于所述載臺的一側(cè),所述伸縮件的位置適配于不同壓印光柵結(jié)構(gòu)的朝向。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印裝置,其特征在于,所述上殼體通過所述連接件與所述載臺間接連接,以在所述上殼體與所述載臺之間形成密封腔室一。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印裝置,其特征在于,所述載臺與所述基板通過所述密封件間接連接,以在所述載臺與所述基板之間形成密封腔室二。