本技術(shù)涉及一種掩膜結(jié)構(gòu)，更確切地說(shuō)，是一種檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

1、在半導(dǎo)體工藝制作過(guò)程中，曝光機(jī)臺(tái)通過(guò)uv光照射到鉻板/掩膜板上面，把鉻板/掩膜板圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠，從而獲得圖案。在生產(chǎn)tp(即，觸摸屏)和模組需要經(jīng)過(guò)若干到曝光，才能堆疊出所需要的圖案。

2、在曝光時(shí)第一道產(chǎn)生對(duì)位標(biāo)，給第二道用于抓標(biāo)進(jìn)行圖案的套合，同時(shí)第二道產(chǎn)生對(duì)位標(biāo)給第三道用于抓標(biāo)進(jìn)行圖案的套合，依此類(lèi)推下去來(lái)保證圖案的設(shè)計(jì)堆疊。

3、由于存在多道工序，曝光時(shí)會(huì)存在對(duì)位精度偏差，需要人工去顯微鏡下確認(rèn)，對(duì)每道圖案進(jìn)行確認(rèn)套合是否精準(zhǔn)，這樣需要產(chǎn)線(xiàn)操作人員對(duì)產(chǎn)品熟悉，不熟悉時(shí)會(huì)出現(xiàn)確認(rèn)不到位，從而導(dǎo)致圖案出現(xiàn)偏位而無(wú)法識(shí)別出來(lái)，導(dǎo)致產(chǎn)品出現(xiàn)報(bào)廢的情況。

4、中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利文獻(xiàn)cn107578987a公開(kāi)了一種柵極雙重曝光圖案化方法，適用于對(duì)一復(fù)合結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以得到柵極，所述復(fù)合結(jié)構(gòu)包括由下至上依次設(shè)置的襯底、柵極層、硬掩膜層及第一平坦化層；其特征在于，所述方法包括：步驟s1、利用具有第一光刻圖案的第一光阻層對(duì)所述第一平坦化層和所述硬掩膜層進(jìn)行刻蝕以將所述第一光刻圖案轉(zhuǎn)移至所述硬掩膜層，所述第一光刻圖案對(duì)應(yīng)切線(xiàn)；步驟s2、去除所述第一平坦化層后于所述硬掩膜層的上方形成第二平坦化層；步驟s3、利用具有第二光刻圖案的第二光阻層對(duì)所述第二平坦化層和所述硬掩膜層進(jìn)行刻蝕以將所述第二光刻圖案轉(zhuǎn)移至所述硬掩膜層，所述第二光刻圖案對(duì)應(yīng)柵氧線(xiàn)；步驟s4、去除所述第二平坦化層；步驟s5、利用所述硬掩膜層對(duì)所述柵極層進(jìn)行刻蝕以形成柵極。

5、顯然，該專(zhuān)利旨在解決多晶硅柵極的尺寸以及均勻性難控制的問(wèn)題，無(wú)法解決現(xiàn)有的曝光校正的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、基于此，有必要針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題，提供一種檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)包含掩膜本體，所述的掩膜本體上設(shè)有第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺，所述的第一對(duì)位尺沿著x方向延展，所述的第二對(duì)位尺沿著y方向延展，所述的第一對(duì)位尺上設(shè)有若干線(xiàn)性排列的第一對(duì)位尺孔，所述的第二對(duì)位尺上設(shè)有若干線(xiàn)性排列的第二對(duì)位尺孔。所述的第一對(duì)位尺孔和第二對(duì)位尺孔均呈矩形。在曝光作業(yè)的第一道形成方向的第一對(duì)位尺和方向的第二對(duì)位尺。接著，曝光第二道，又產(chǎn)生新的第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺，新的第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺與舊的第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺在和方向分別進(jìn)行重疊，繼而進(jìn)行觀測(cè)。利用對(duì)位尺上面的第一間距和第二間距所形成的刻度，超出刻度尺范圍就出現(xiàn)偏位，曝光需要調(diào)整。每道曝光的校正依此類(lèi)推下去。利用方向的第一對(duì)位尺和方向的第二對(duì)位尺的重疊效果，操作人員可以輕松看出發(fā)生偏位的方向和具體的偏差程度，及時(shí)對(duì)曝光作業(yè)進(jìn)行調(diào)整，避免產(chǎn)品報(bào)廢。

2、為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用了如下所述的技術(shù)方案：

3、一種檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)包含掩膜本體，所述的掩膜本體上設(shè)有第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺，所述的第一對(duì)位尺沿著x方向延展，所述的第二對(duì)位尺沿著y方向延展，

4、所述的第一對(duì)位尺上設(shè)有若干線(xiàn)性排列的第一對(duì)位尺孔，所述的第二對(duì)位尺上設(shè)有若干線(xiàn)性排列的第二對(duì)位尺孔。

5、作為本實(shí)用新型提供的所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選實(shí)施方式，所述的第一對(duì)位尺孔和第二對(duì)位尺孔均呈矩形。

6、作為本實(shí)用新型提供的所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選實(shí)施方式，所述的相鄰的第一對(duì)位尺孔的間距為第一間距，所述的相鄰的第二對(duì)位尺孔的間距為第二間距。

7、作為本實(shí)用新型提供的所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選實(shí)施方式，所述的第一對(duì)位尺孔和第二對(duì)位尺孔均呈圓形。

8、作為本實(shí)用新型提供的所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選實(shí)施方式，所述的相鄰的第一對(duì)位尺孔的圓心距為第三間距，所述的相鄰的第二對(duì)位尺孔的圓心距為第四間距。

9、一種檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)包含掩膜本體，所述的掩膜本體上設(shè)有若干周向分布的第三對(duì)位尺，所述的第三對(duì)位尺上設(shè)有若干線(xiàn)性排列的第三對(duì)位尺孔。

10、作為本實(shí)用新型提供的所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選實(shí)施方式，所述的第三對(duì)位尺的數(shù)量為8個(gè)。

11、作為本實(shí)用新型提供的所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選實(shí)施方式，所述的相鄰的第三對(duì)位尺的間隔角度為預(yù)設(shè)的第一角度。

12、作為本實(shí)用新型提供的所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選實(shí)施方式，所述的相鄰的第三對(duì)位尺孔的間距為第五間距。

13、作為本實(shí)用新型提供的所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)選實(shí)施方式，所述的第三對(duì)位尺的中心設(shè)有中心對(duì)位孔。

14、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型有以下有益效果：

15、本實(shí)用新型提供一種檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，在曝光作業(yè)的第一道形成方向的第一對(duì)位尺和方向的第二對(duì)位尺。接著，曝光第二道，又產(chǎn)生新的第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺，新的第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺與舊的第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺在和方向分別進(jìn)行重疊，繼而進(jìn)行觀測(cè)。利用對(duì)位尺上面的第一間距和第二間距所形成的刻度，超出刻度尺范圍就出現(xiàn)偏位，曝光需要調(diào)整。每道曝光的校正依此類(lèi)推下去。利用方向的第一對(duì)位尺和方向的第二對(duì)位尺的重疊效果，操作人員可以輕松看出發(fā)生偏位的方向和具體的偏差程度，及時(shí)對(duì)曝光作業(yè)進(jìn)行調(diào)整，避免產(chǎn)品報(bào)廢。

16、另外，可以設(shè)置該第一對(duì)位尺孔和第二對(duì)位尺孔為圓形。該相鄰的第一對(duì)位尺孔的圓心距為第三間距，該相鄰的第二對(duì)位尺孔的圓心距為第四間距。利用方向的第一對(duì)位尺和方向的第二對(duì)位尺的重疊效果，操作人員可以輕松看出發(fā)生偏位的方向和具體的偏差程度，及時(shí)對(duì)曝光作業(yè)進(jìn)行調(diào)整，避免產(chǎn)品報(bào)廢。

17、另外，可以設(shè)置在該掩膜本體上設(shè)有若干周向分布的第三對(duì)位尺，該第三對(duì)位尺上設(shè)有若干線(xiàn)性排列的第三對(duì)位尺孔該第三對(duì)位尺的數(shù)量為個(gè)。另外，該相鄰的第三對(duì)位尺的間隔角度為預(yù)設(shè)的第一角度。該相鄰的第三對(duì)位尺孔的間距為第五間距。該第三對(duì)位尺的中心設(shè)有中心對(duì)位孔。利用新的第三對(duì)位尺與舊的第三對(duì)位尺的重疊效果，操作人員可以輕松看出發(fā)生偏位的方向和具體的偏差程度，及時(shí)對(duì)曝光作業(yè)進(jìn)行調(diào)整，避免產(chǎn)品報(bào)廢。另外，利用中心對(duì)位孔，還可以進(jìn)行輔助中心定位，進(jìn)一步提高曝光校正的精度。

技術(shù)特征：

1.一種檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)包含掩膜本體(1)，所述的掩膜本體(1)上設(shè)有第一對(duì)位尺(2)和第二對(duì)位尺(3)，所述的第一對(duì)位尺(2)沿著x方向延展，所述的第二對(duì)位尺(3)沿著y方向延展，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的第一對(duì)位尺孔(21)和第二對(duì)位尺孔(31)均呈矩形。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的相鄰的第一對(duì)位尺孔(21)的間距為第一間距(d1)，所述的相鄰的第二對(duì)位尺孔(31)的間距為第二間距(d2)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的第一對(duì)位尺孔(21)和第二對(duì)位尺孔(31)均呈圓形。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的相鄰的第一對(duì)位尺孔(21)的圓心距為第三間距(d3)，所述的相鄰的第二對(duì)位尺孔(31)的圓心距為第四間距(d4)。

6.一種檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)包含掩膜本體(1)，所述的掩膜本體(1)上設(shè)有若干周向分布的第三對(duì)位尺(4)，所述的第三對(duì)位尺(4)上設(shè)有若干線(xiàn)性排列的第三對(duì)位尺孔(41)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的第三對(duì)位尺(4)的數(shù)量為8個(gè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的相鄰的第三對(duì)位尺(4)的間隔角度為預(yù)設(shè)的第一角度(d6)。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的相鄰的第三對(duì)位尺孔(41)的間距為第五間距(d5)。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的第三對(duì)位尺(4)的中心設(shè)有中心對(duì)位孔(5)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種檢查曝光圖案套合的掩膜結(jié)構(gòu)，包含掩膜本體，所述的掩膜本體上設(shè)有第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺，所述的第一對(duì)位尺沿著X方向延展，所述的第二對(duì)位尺沿著Y方向延展，所述的第一對(duì)位尺上設(shè)有若干線(xiàn)性排列的第一對(duì)位尺孔，所述的第二對(duì)位尺上設(shè)有若干線(xiàn)性排列的第二對(duì)位尺孔。所述的第一對(duì)位尺孔和第二對(duì)位尺孔均呈矩形。在曝光作業(yè)的第一道形成方向的第一對(duì)位尺和方向的第二對(duì)位尺。接著，曝光第二道，又產(chǎn)生新的第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺，新的第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺與舊的第一對(duì)位尺和第二對(duì)位尺在和方向分別進(jìn)行重疊，繼而進(jìn)行觀測(cè)，操作人員可以輕松看出發(fā)生偏位的方向和具體的偏差程度，及時(shí)對(duì)曝光作業(yè)進(jìn)行調(diào)整。

技術(shù)研發(fā)人員：李思擁,曾一鑫
受保護(hù)的技術(shù)使用者：信利光電股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231228
技術(shù)公布日：2024/12/19