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      防反射膜的制作方法

      文檔序號:39606140發(fā)布日期:2024-10-11 13:14閱讀:47來源:國知局
      防反射膜的制作方法

      本發(fā)明涉及防反射膜。


      背景技術(shù):

      1、作為應(yīng)用于液晶顯示器等的表面的防反射膜,已知交替層積高折射率層和低折射率層,為了減少空氣界面處的反射而使防反射膜的最外層為低折射率層(參照專利文獻(xiàn)1的[0046])。

      2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

      3、專利文獻(xiàn)

      4、專利文獻(xiàn)1:日本特開2022-65437號公報(bào)


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、發(fā)明所要解決的課題

      2、如上述現(xiàn)有技術(shù)的防反射膜那樣應(yīng)用于液晶顯示器的表面等的薄膜除了本來的防反射性以外,還需要具有充分的硬度以確保耐擦傷性。但是,在將防反射膜應(yīng)用于柔性顯示器那樣的具有撓性的顯示器的情況下,除了硬度以外,還需要即使作用拉伸應(yīng)力也不產(chǎn)生裂紋的柔韌強(qiáng)度(韌性),難以兼顧硬度和柔韌強(qiáng)度。

      3、本發(fā)明所要解決的課題在于提供一種防反射膜,其除了具有防反射性和耐擦傷性以外,還能夠抑制針對拉伸應(yīng)力的裂紋產(chǎn)生。

      4、用于解決課題的手段

      5、第1方案通過如下的防反射膜來解決上述課題,該防反射膜在基材的表面具有折射率低于上述基材的折射率的低折射率層作為最外層,

      6、上述低折射率層含有硅、碳、氟和氧作為必要成分,還含有銦、錫或鉍中的至少任一種作為必要成分,以氧化硅為主要成分,包含有機(jī)氟化合物。

      7、第2方案通過如下的防反射膜來解決上述課題,該防反射膜在基材的表面以低折射率層成為最外層的方式層積有一層或多層折射率低于上述基材的折射率的低折射率層和折射率高于上述基材的折射率的高折射率層,

      8、上述高折射率層含有鈮、碳、氟和氧作為必要成分,還含有銦、錫或鉍中的至少任一種作為必要成分,以氧化鈮為主要成分,包含有機(jī)氟化合物,或者,

      9、含有鈰、碳、氟和氧作為必要成分,還含有銦、錫或鉍中的至少任一種作為必要成分,以氧化鈰為主要成分,包含有機(jī)氟化合物。

      10、第3方案通過如下的防反射膜來解決上述課題,該防反射膜在基材的表面以低折射率層成為最外層的方式層積有一層或多層折射率低于上述基材的折射率的低折射率層和折射率高于上述基材的折射率的高折射率層,

      11、在上述基材與最靠基材側(cè)的上述高折射率層之間還具有上述低折射率層,

      12、上述低折射率層含有硅、碳、氟和氧作為必要成分,還含有銦、錫或鉍中的至少任一種作為必要成分,以氧化硅為主要成分,包含有機(jī)氟化合物。

      13、第4方案通過如下的防反射膜來解決上述課題,該防反射膜在基材的表面以低折射率層成為最外層的方式層積有一層或多層折射率低于上述基材的折射率的低折射率層和折射率高于上述基材的折射率的高折射率層,

      14、在上述基材與最靠基材側(cè)的上述高折射率層之間還具有上述低折射率層,

      15、上述高折射率層含有鈮、碳、氟和氧作為必要成分,還含有銦、錫或鉍中的至少任一種作為必要成分,以氧化鈮為主要成分,包含有機(jī)氟化合物,或者,

      16、含有鈰、碳、氟和氧作為必要成分,還含有銦、錫或鉍中的至少任一種作為必要成分,以氧化鈰為主要成分,包含有機(jī)氟化合物。

      17、發(fā)明的效果

      18、本發(fā)明中,低折射率層或高折射率層中包含的碳與氟相互鍵合,以形成氟代烷基等有機(jī)氟鍵的狀態(tài)存在于低折射率層或高折射率層。若對低折射率層或高折射率層施加拉伸方向的外力,則有機(jī)氟鍵伸縮,分散對層整體施加的力,由此抑制裂紋的產(chǎn)生。另外,通過加入銦、錫或鉍,能夠調(diào)整層的折射率、透射特性。另外,通過利用由低折射率層與高折射率層的組合產(chǎn)生的干涉,能夠確保防反射性,通過硅、鈮或鈰的氧化物能夠確保耐擦傷性。其結(jié)果,根據(jù)本發(fā)明,除了具有防反射性和耐擦傷性以外,還能夠抑制針對拉伸應(yīng)力的裂紋產(chǎn)生。



      技術(shù)特征:

      1.一種防反射膜,其在基材的表面具有折射率低于所述基材的折射率的低折射率層作為最外層,

      2.如權(quán)利要求1所述的防反射膜,其中,在所述基材與作為所述最外層的低折射率層之間,具有折射率高于所述基材的折射率的高折射率層,

      3.如權(quán)利要求2所述的防反射膜,其在所述基材與所述高折射率層之間還具有所述低折射率層。

      4.一種防反射膜,其在基材的表面以低折射率層成為最外層的方式層積有一層或多層折射率低于所述基材的折射率的低折射率層和折射率高于所述基材的折射率的高折射率層,

      5.如權(quán)利要求4所述的防反射膜,其在所述基材與最靠基材側(cè)的所述高折射率層之間還具有所述低折射率層。

      6.如權(quán)利要求4所述的防反射膜,其中,所述低折射率層含有硅、碳、氟和氧作為必要成分,還含有銦、錫或鉍中的至少任一種作為必要成分。

      7.一種防反射膜,其在基材的表面以低折射率層成為最外層的方式層積有一層或多層折射率低于所述基材的折射率的低折射率層和折射率高于所述基材的折射率的高折射率層,

      8.一種防反射膜,其在基材的表面以低折射率層成為最外層的方式層積有一層或多層折射率低于所述基材的折射率的低折射率層和折射率高于所述基材的折射率的高折射率層,

      9.如權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的防反射膜,其中,所述基材由玻璃材料或塑料材料構(gòu)成。


      技術(shù)總結(jié)
      一種防反射膜(2),該防反射膜(2)為了在具有防反射性和耐擦傷性的基礎(chǔ)上抑制針對拉伸應(yīng)力的裂紋產(chǎn)生,在基材(1)的表面具有折射率低于上述基材(1)的折射率的低折射率層(21)作為最外層,其中,上述低折射率層(21)含有硅、碳、氟和氧作為必要成分,還含有銦、錫或鉍中的至少任一種作為必要成分,以氧化硅為主要成分,包含有機(jī)氟化合物。

      技術(shù)研發(fā)人員:多賀康訓(xùn),高濱吉隆,菅原卓哉
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:多賀康訓(xùn)
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/10/10
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