国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      構件的制作方法

      文檔序號:39980109發(fā)布日期:2024-11-15 14:29閱讀:9來源:國知局
      構件的制作方法

      本發(fā)明涉及一種包括抗反射結構的構件,其用作光學元件。


      背景技術:

      1、近年來,塑料透鏡已經被更頻繁地使用,因為,例如,塑料透鏡比玻璃材料的透鏡便宜,并且重量輕,抗沖擊性好。為了減少透鏡表面的反射,透鏡需要抗反射膜。作為抗反射膜,如專利文獻1中描述的,一般是通過氣相沉積形成的金屬氧化物的多層抗反射膜。在專利文獻2中,描述了通過使用涂布液形成抗反射層的方法,在該涂布液中,硅烷化合物的水解物和二氧化硅基微細顆粒分散在有機溶劑中。

      2、[引用現(xiàn)有技術文獻列表]

      3、[專利文獻]

      4、專利文獻1:?日本專利申請公開2005-241740

      5、專利文獻2:?日本專利申請公開2008-116348。


      技術實現(xiàn)思路

      1、[技術問題]

      2、然而,如專利文獻1中描述的通過氣相沉積形成的多層抗反射膜需要真空工序,這會導致更長的生產節(jié)拍時間。專利文獻2中描述的涂層膜是優(yōu)選的,因為不需要真空工序。然而,不認為涂層膜具有足夠的抗反射性能。

      3、本發(fā)明的目的是提供一種包括樹脂基材的構件,其具有優(yōu)異的抗反射性能,并且不使用真空工序就可形成。

      4、[問題的解決方案]

      5、根據(jù)本發(fā)明的一個方面,提供了一種構件,包括:

      6、樹脂基材,其表面具有微細凹凸結構;和

      7、多孔層,由包含顆粒的多孔材料制成,形成在樹脂基材上以位于微細凹凸結構側,

      8、其中,多孔層包括:

      9、由微細凹凸結構的氣隙中的多孔材料限定的填充部;和

      10、位于微細凹凸結構上的表面層,

      11、其中,微細凹凸結構包括圓柱狀凸部或圓柱狀凹部的二維周期性排列,

      12、其中,表面層的厚度為80?nm以上且150?nm以下,

      13、其中,凸部或凹部之間的距離為20?nm以上且300?nm以下,并且凸部的高度或凹部的深度為10?nm以上且120?nm以下。

      14、[發(fā)明的有益效果]

      15、根據(jù)本發(fā)明,可以獲得包括樹脂基材的構件,該構件具有優(yōu)異的抗反射性能并且不使用真空工序就可形成。



      技術特征:

      1.一種構件,包括:

      2.根據(jù)權利要求1所述的構件,其中,多孔層的折射率為1.15以上且1.30以下。

      3.根據(jù)權利要求1或2所述的構件,其中,填充部相對于微細凹凸結構的體積比為30%至50%。

      4.根據(jù)權利要求1至3任一項所述的構件,其中,顆粒是由二氧化硅制成的。

      5.根據(jù)權利要求4所述的構件,其中,顆粒是鏈狀顆粒。

      6.根據(jù)權利要求4所述的構件,其中,顆粒是鏈狀顆粒和中空顆粒。

      7.根據(jù)權利要求1至6任一項所述的構件,還包括玻璃基材,


      技術總結
      實現(xiàn)了一種不使用真空工序就可形成的構件,該構件包括樹脂基材并具有優(yōu)異的抗反射性能。該構件包括:樹脂基材,在其表面上具有微細凹凸結構;以及多孔層,位于樹脂基材上的微細凹凸結構側,多孔層由包含顆粒的多孔材料制成。多孔層包括由填充在微細凹凸結構的氣隙中的多孔材料限定的填充部和位于微細凹凸結構上的表面層。微細凹凸結構具有二維周期性布置的圓柱狀凸部或圓柱狀凹部,表面層的厚度為80?nm至150?nm,凸部或凹部之間的距離為20?nm至300?nm,并且凸部的高度或凹部的深度為10?nm至120?nm。

      技術研發(fā)人員:川崎純二
      受保護的技術使用者:佳能株式會社
      技術研發(fā)日:
      技術公布日:2024/11/14
      網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評論。精彩留言會獲得點贊!
      1