本發(fā)明涉及一種抗反射膜及其制造方法以及圖像顯示裝置。

背景技術(shù)：

1、在液晶顯示器、有機(jī)el顯示器等圖像顯示裝置的可視側(cè)，出于防止因戶外的光線的反射引起的畫質(zhì)降低，提高對(duì)比度等目的，配置有抗反射膜?？狗瓷淠ぴ谕该髂せ纳暇邆溆烧凵渎什煌亩鄠€(gè)薄膜的層疊體構(gòu)成的抗反射層。

2、例如，在專利文獻(xiàn)1中，公開了一種抗反射膜，其在硬涂膜上具備sio底漆層，在該sio底漆層上具備抗反射層，該抗反射層包括作為高折射率層的氧化鈮(nb2o5)層與作為低折射率層的氧化硅(sio2)層的交替層疊體。

3、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)

5、專利文獻(xiàn)1：日本特開2009－47876號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明所要解決的問(wèn)題

2、近年來(lái)，對(duì)具備使用了樹脂膜等能折彎的基板(柔性基板)的有機(jī)el面板的能折彎的圖像顯示裝置(可折疊顯示器)進(jìn)行了實(shí)用化。作為可折疊顯示器的覆蓋窗，例如使用在柔性基板上設(shè)有抗反射層而成的抗反射膜。

3、可折疊顯示器通常在折疊的狀態(tài)下保管。在折疊狀態(tài)下，對(duì)折疊部位(彎曲部位)的內(nèi)側(cè)賦予壓縮應(yīng)力，并且對(duì)彎曲部位的外側(cè)賦予拉伸應(yīng)力。若以顯示面為內(nèi)側(cè)來(lái)折疊顯示器，則抗反射膜成為以抗反射層的形成面為內(nèi)側(cè)而折疊的狀態(tài)(彎曲狀態(tài))。若在高溫下或高溫高濕下在彎曲狀態(tài)下保管顯示器，則有時(shí)在抗反射層產(chǎn)生微細(xì)的裂紋，成為顯示器的可視性降低的原因。

4、鑒于上述內(nèi)容，本發(fā)明的目的在于，提供一種抗反射膜及其制造方法以及使用了該抗反射膜的圖像顯示裝置，所述抗反射膜即使在高溫下或高溫高濕下在彎曲狀態(tài)下保管，也不易在抗反射層產(chǎn)生裂紋，耐彎曲性優(yōu)異。

5、用于解決問(wèn)題的方案

6、＜本發(fā)明的方案＞

7、本發(fā)明包括以下的方案。

8、[1]一種抗反射膜，其中，依次具有：透明膜基材、硬涂層以及抗反射層，在進(jìn)行了于溫度85℃的環(huán)境下保持48小時(shí)的耐熱性試驗(yàn)時(shí)，所述耐熱性試驗(yàn)前后的任一個(gè)邊的方向的尺寸變化率為－0.10％以上且0.10％以下。

9、[2]根據(jù)所述[1]所述的抗反射膜，其中，所述耐熱性試驗(yàn)前后的與所述邊的方向正交的方向的尺寸變化率為－0.10％以上且0.10％以下。

10、[3]一種抗反射膜，其中，依次具有：透明膜基材、硬涂層以及抗反射層，在進(jìn)行了于溫度60℃且相對(duì)濕度95％的環(huán)境下保持48小時(shí)的耐濕熱性試驗(yàn)時(shí)，所述耐濕熱性試驗(yàn)前后的任一個(gè)邊的方向的尺寸變化率為0.01％以上且0.20％以下。

11、[4]根據(jù)所述[3]所述的抗反射膜，其中，所述耐濕熱性試驗(yàn)前后的與所述邊的方向正交的方向的尺寸變化率為0.01％以上且0.20％以下。

12、[5]根據(jù)所述[1]～[4]中任一項(xiàng)所述的抗反射膜，其中，所述透明膜基材為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜。

13、[6]根據(jù)所述[1]～[5]中任一項(xiàng)所述的抗反射膜，其中，所述抗反射層的厚度為150nm以上且280nm以下。

14、[7]根據(jù)所述[1]～[6]中任一項(xiàng)所述的抗反射膜，其中，所述抗反射膜還具備：底漆層，配置于所述硬涂層與所述抗反射層之間。

15、[8]根據(jù)所述[1]～[7]中任一項(xiàng)所述的抗反射膜，其中，所述抗反射膜還具備：防污層，配置于所述抗反射層的與所述硬涂層側(cè)相反一側(cè)。

16、[9]根據(jù)所述[1]～[8]中任一項(xiàng)所述的抗反射膜，其中，所述抗反射膜還具備：粘合劑層，配置于所述透明膜基材的與所述硬涂層側(cè)相反一側(cè)。

17、[10]一種圖像顯示裝置，其中，具備：圖像顯示面板；以及如所述[1]～[9]中任一項(xiàng)所述的抗反射膜，配置于所述圖像顯示面板的可視側(cè)。

18、[11]一種抗反射膜的制造方法，其是如所述[1]～[9]中任一項(xiàng)所述的抗反射膜的制造方法，包括：工序sa，在所述硬涂層的與所述透明膜基材側(cè)相反一側(cè)利用卷對(duì)卷方式的濺射成膜裝置使所述抗反射層成膜；以及工序sb，在所述工序sa之后，對(duì)形成有所述抗反射層的層疊體進(jìn)行加熱。

19、[12]根據(jù)所述[11]所述的抗反射膜的制造方法，其中，在所述工序sb中，在溫度110℃以上的條件下對(duì)所述層疊體進(jìn)行加熱。

20、發(fā)明效果

21、根據(jù)本發(fā)明，能提供一種抗反射膜及其制造方法以及使用了該抗反射膜的圖像顯示裝置，所述抗反射膜即使在高溫下或高溫高濕下在彎曲狀態(tài)下保管，也不易在抗反射層產(chǎn)生裂紋，耐彎曲性優(yōu)異。

技術(shù)特征：

1.一種抗反射膜，其中，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗反射膜，其中，

3.一種抗反射膜，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的抗反射膜，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的抗反射膜，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的抗反射膜，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的抗反射膜，其中，

8.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的抗反射膜，其中，

9.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的抗反射膜，其中，

10.一種圖像顯示裝置，其中，

11.一種抗反射膜的制造方法，其是如權(quán)利要求1或3所述的抗反射膜的制造方法，包括：

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的抗反射膜的制造方法，其中，

技術(shù)總結(jié)
抗反射膜(10)依次具有：透明膜基材(11)、硬涂層(12)以及抗反射層(13)?？狗瓷淠?10)的耐熱性試驗(yàn)前后的第一方向的尺寸變化率優(yōu)選為－0.10％以上且0.10％以下。此外，抗反射膜(10)的耐濕熱性試驗(yàn)前后的第一方向的尺寸變化率優(yōu)選為0.01％以上且0.20％以下。透明膜基材(11)優(yōu)選為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜。

技術(shù)研發(fā)人員：宮本幸大,長(zhǎng)命翔太,橋本翔,角田豐
受保護(hù)的技術(shù)使用者：日東電工株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/10