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      偏振片及偏振板的制作方法

      文檔序號:39621351發(fā)布日期:2024-10-11 13:40閱讀:54來源:國知局
      偏振片及偏振板的制作方法

      本發(fā)明涉及偏振片及偏振板。


      背景技術(shù):

      1、以往,已知有由包含聚乙烯醇系樹脂及碘的膜形成的偏振片(例如專利文獻1)。包含偏振片的圖像顯示裝置也被作為導(dǎo)航裝置、后視監(jiān)視器等車載用的圖像顯示裝置使用等,其用途正在拓寬。隨著用途的擴大,對于圖像顯示裝置及作為構(gòu)成圖像顯示裝置的一部分的偏振片,與以往要求相比,期望在更加嚴(yán)酷的環(huán)境下(例如高溫環(huán)境下)的高耐久性。

      2、現(xiàn)有技術(shù)文獻

      3、專利文獻

      4、專利文獻1:日本特開2020-71241號公報


      技術(shù)實現(xiàn)思路

      1、發(fā)明所要解決的課題

      2、由聚乙烯醇系樹脂膜形成的偏振片在暴露于高溫環(huán)境下時會推進聚乙烯醇的多烯化,因此有產(chǎn)生偏振片變色為黃色(黃變)的問題的情況。特別是,在像前述的車載用途那樣的高溫環(huán)境下(例如115℃),黃變的推進有變得更加顯著的趨勢。然而,就以往的偏振片而言,有時不一定可以說充分地抑制了此種高溫下的黃變。

      3、本發(fā)明是鑒于上述課題而完成的,其目的在于,提供能夠抑制暴露于115℃的高溫狀態(tài)下的偏振片的黃變的偏振片。

      4、用于解決課題的手段

      5、[1]一種偏振片,其在聚乙烯醇系樹脂膜中含有硼元素、鉀元素、碘元素及鋅元素,

      6、上述偏振片滿足下述式(c),

      7、0.001≤[zn]/([i]×[b]×[k])≤0.070???(c)

      8、[式(c)中,[zn]表示上述聚乙烯醇系樹脂膜中的鋅元素的含量(質(zhì)量%),[i]表示上述聚乙烯醇系樹脂膜中的碘元素的含量(質(zhì)量%),[b]表示聚乙烯醇系樹脂膜中的硼元素的含量(質(zhì)量%),[k]表示上述聚乙烯醇系樹脂膜中的鉀元素的含量(質(zhì)量%)。]

      9、[2]根據(jù)權(quán)利要求1中記載的偏振片,其中,[zn]為0.01質(zhì)量%以上且1.0質(zhì)量%以下。

      10、[3]根據(jù)權(quán)利要求1或2中記載的偏振片,其中,[b]為3.5質(zhì)量%以上且6.0質(zhì)量%以下。

      11、[4]根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項中記載的偏振片,其中,[i]為2.0質(zhì)量%以上且4.0質(zhì)量%以下。

      12、[5]根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項中記載的偏振片,其中,[k]為0.40質(zhì)量%以上且1.0質(zhì)量%以下。

      13、[6]一種偏振板,其依次具備[1]~[5]中任一項中記載的偏振片、粘接劑層和保護膜。

      14、發(fā)明效果

      15、根據(jù)本發(fā)明,可以提供能夠抑制暴露于115℃的高溫狀態(tài)下的偏振片的黃變的偏振片。



      技術(shù)特征:

      1.一種偏振片,其在聚乙烯醇系樹脂膜中含有硼元素、鉀元素、碘元素及鋅元素,

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏振片,其中,

      3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的偏振片,其中,

      4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的偏振片,其中,

      5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的偏振片,其中,

      6.一種偏振板,其依次具備權(quán)利要求1或2所述的偏振片、粘接劑層和保護膜。


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提供一種能夠抑制暴露于115℃的高溫狀態(tài)下的偏振片的黃變的偏振片。本發(fā)明的偏振片在聚乙烯醇系樹脂膜中含有硼元素、鉀元素、碘元素及鋅元素,所述偏振片滿足下述式(C),0.001≤[Zn]/([I]×[B]×[K])≤0.070(C),式(C)中,[Zn]表示所述聚乙烯醇系樹脂膜中的鋅元素的含量(質(zhì)量%),[I]表示所述聚乙烯醇系樹脂膜中的碘元素的含量(質(zhì)量%),[B]表示聚乙烯醇系樹脂膜中的硼元素的含量(質(zhì)量%),[K]表示所述聚乙烯醇系樹脂膜中的鉀元素的含量(質(zhì)量%)。

      技術(shù)研發(fā)人員:竹內(nèi)智康,住田幸司,中村勇氣,齋藤邦智,中里成志
      受保護的技術(shù)使用者:住友化學(xué)株式會社
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/10/10
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