本發(fā)明涉及一種圖像形成裝置及電子設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、眾所周知有一種電子設(shè)備，具備：處理單元，進(jìn)行規(guī)定的處理；以及發(fā)光單元，用光源顯示信息。例如，專利文獻(xiàn)1中，作為電子設(shè)備記載了一種圖像形成裝置，具備：圖像形成單元，進(jìn)行使色材附著于介質(zhì)以在介質(zhì)上形成圖像的印刷處理；以及發(fā)光單元，用光源顯示信息。

2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1：日本特開2019-043037號公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、然而，如現(xiàn)有技術(shù)，在電子設(shè)備中設(shè)置光源，通過該光源來顯示信息的情況下，存在具有色覺異常的用戶無法識別該光源所顯示的信息的可能性。因此，關(guān)于sdgs、即聯(lián)合國大會于2015年9月25日采納的17個(gè)可持續(xù)開發(fā)目標(biāo)中的目標(biāo)10“減少國家內(nèi)部和國家之間的不平等”，現(xiàn)有技術(shù)還有改善的余地。

2、為了解決以上課題，本發(fā)明所涉及的圖像形成裝置的特征在于，具備：圖像形成單元，使色材附著于介質(zhì)而在所述介質(zhì)上形成圖像；輸送單元，輸送所述介質(zhì)；以及發(fā)光單元，通過多個(gè)光源顯示所述圖像形成單元及所述輸送單元中的一方或雙方的狀態(tài)，所述多個(gè)光源包括射出第一波長的光的第一光源、射出第二波長的光的第二光源以及射出第三波長的光的第三光源，所述發(fā)光單元能夠進(jìn)行如下發(fā)光：基于對所述第一光源和所述第二光源進(jìn)行同時(shí)點(diǎn)亮的第一發(fā)光模式的發(fā)光、以及基于對所述第一光源和所述第三光源進(jìn)行同時(shí)點(diǎn)亮的第二發(fā)光模式的發(fā)光。

3、另外，本發(fā)明所涉及的電子設(shè)備具備：處理單元，進(jìn)行規(guī)定的處理；以及發(fā)光單元，通過多個(gè)光源顯示所述處理單元的狀態(tài)，所述多個(gè)光源包括射出第一波長的光的第一光源、射出第二波長的光的第二光源以及射出第三波長的光的第三光源，所述發(fā)光單元能夠進(jìn)行如下發(fā)光：基于對所述第一光源和所述第二光源進(jìn)行同時(shí)點(diǎn)亮的第一發(fā)光模式的發(fā)光、以及基于對所述第一光源和所述第三光源進(jìn)行同時(shí)點(diǎn)亮的第二發(fā)光模式的發(fā)光。

技術(shù)特征：

1.一種圖像形成裝置，其特征在于，具備：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置，其特征在于，

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置，其特征在于，

7.一種電子設(shè)備，其特征在于，具備：

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備，其特征在于，

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備，其特征在于，

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備，其特征在于，

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備，其特征在于，

12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
提供一種能夠?qū)沙掷m(xù)開發(fā)目標(biāo)(SDGs)中的目標(biāo)10做出貢獻(xiàn)的圖像形成裝置及電子設(shè)備。一種圖像形成裝置，其特征在于，具備：圖像形成單元，使色材附著于介質(zhì)而在介質(zhì)上形成圖像；輸送單元，輸送介質(zhì)；以及發(fā)光單元，通過多個(gè)光源顯示圖像形成單元及輸送單元中的一方或雙方的狀態(tài)，所述多個(gè)光源包括射出第一波長的光的第一光源、射出第二波長的光的第二光源以及射出第三波長的光的第三光源，發(fā)光單元能夠進(jìn)行：基于對第一光源和第二光源進(jìn)行同時(shí)點(diǎn)亮的第一發(fā)光模式的發(fā)光；以及基于對第一光源和第三光源進(jìn)行同時(shí)點(diǎn)亮的第二發(fā)光模式的發(fā)光。

技術(shù)研發(fā)人員：植松秀和,松山徹
受保護(hù)的技術(shù)使用者：精工愛普生株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/10