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      顯影裝置、處理卡盒及圖像形成裝置的制作方法

      文檔序號(hào):40133332發(fā)布日期:2024-11-29 15:18閱讀:18來(lái)源:國(guó)知局
      顯影裝置、處理卡盒及圖像形成裝置的制作方法

      本發(fā)明涉及對(duì)形成在感光鼓等的圖像載體表面上的潛像進(jìn)行顯影的顯影裝置,和包括該顯影裝置的處理卡盒及圖像形成裝置。


      背景技術(shù):

      1、以往,在設(shè)置于復(fù)印機(jī)、打印機(jī)等圖像形成裝置的顯影裝置中,已知設(shè)置有圓棒狀的顯影劑限制部件(圓棒刮刀)的顯影裝置,該顯影劑限制部件限制顯影輥所承載的顯影劑的量(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。

      2、另一方面,在專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了一種技術(shù),其中,為了抑制承載在顯影套筒(顯影輥)上的顯影劑量的變化,設(shè)置用于保持顯影劑套筒的軸部和圓棒狀的層厚限制部件的支撐部件(保持部件)。然后,在專利文獻(xiàn)1中,在支撐部件中的支撐層厚限制部件的支撐孔(孔部)的內(nèi)周面,粘貼有由彈性材料構(gòu)成的推回部件。

      3、在現(xiàn)有的技術(shù)中,顯影輥和圓棒狀的顯影劑限制部件之間的間隙(刮刀間距)不穩(wěn)定,會(huì)在顯影輥上所承載的顯影劑的量中產(chǎn)生變動(dòng)。然后,在這種情況下,在圖像載體上會(huì)形成濃度偏差大的圖像。

      4、而且,即使使用專利文獻(xiàn)1所公開(kāi)的支撐部件,由于在支撐孔和層厚限制部件之間產(chǎn)生晃動(dòng),因此不能解決這樣的不良情況。

      5、本發(fā)明是為了解決上述問(wèn)題而提出的,其目的在于提供一種顯影輥和圓棒狀的顯影劑限制部件之間的間隙容易穩(wěn)定的顯影裝置、處理卡盒以及圖像形成裝置。

      6、【專利文獻(xiàn)1】(日本)特開(kāi)2018-146759號(hào)公報(bào)


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本發(fā)明中的顯影裝置是對(duì)形成在像承載體上的潛像進(jìn)行顯影的顯影裝置,其特征在于包括:顯影輥,其承載顯影劑;圓棒狀的顯影劑限制部件,其與所述顯影輥相向而對(duì),限制承載在所述顯影輥的表面上的顯影劑的量,以及保持部件,其設(shè)置有供所述顯影劑限制部件的端部插入的第一孔部和供設(shè)置在所述顯影輥的端部的軸部插入的第二孔部,來(lái)分別保持所述端部和所述軸部,在所述第一孔部和所述第二孔部中的至少一個(gè)孔部的內(nèi)周面形成有朝向內(nèi)側(cè)突出的突起部。

      2、根據(jù)本發(fā)明,能夠提供一種顯影輥和圓棒狀的顯影劑限制部件之間的間隙容易穩(wěn)定的顯影裝置、處理卡盒以及圖像形成裝置。



      技術(shù)特征:

      1.一種對(duì)形成在像承載體上的潛像進(jìn)行顯影的顯影裝置,其特征在于包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影裝置,其特征在于:

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯影裝置,其特征在于:

      4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯影裝置,其特征在于:

      5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯影裝置,其特征在于:

      6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯影裝置,其特征在于:

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯影裝置,其特征在于:

      8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯影裝置,其特征在于:

      9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯影裝置,其特征在于:

      10.一種相對(duì)于圖像形成裝置主體被設(shè)置為可裝卸的處理卡盒,其特征在于:

      11.一種圖像形成裝置,其特征在于:


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明涉及使顯影輥和圓棒狀的顯影劑限制部件之間的間隙(刮刀間距DG)穩(wěn)定化的顯影裝置、處理卡盒及圖像形成裝置。設(shè)置有插入圓棒刮刀(26c的端部(26c2、26c1)的第一孔部(28a、29a),和設(shè)置在顯影輥(26a)的端部的軸部(26a10、26a20)所插入的第二孔部(28b、29b),并設(shè)置有分別保持端部(26c2、26c1)和軸部(26a10、26a20)的保持部件(28、29)。然后,在第一孔部(28a、29a)和第二孔部(28b、29b)中的至少一個(gè)孔部的內(nèi)周面形成有向內(nèi)側(cè)突出的突起部(28a1、29a1)。

      技術(shù)研發(fā)人員:齊藤理,石倉(cāng)裕司,井上優(yōu)美,大平達(dá)也,林俊樹(shù)
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:株式會(huì)社理光
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/11/28
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