本發(fā)明涉及半導(dǎo)體材料光學(xué)性質(zhì),特別涉及一種半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的方法及光路系統(tǒng)。
背景技術(shù):
1、超連續(xù)激光照射半導(dǎo)體材料表面時,激光的光子與半導(dǎo)體中的電子發(fā)生相互作用,如果激光的能量足夠高,可以克服半導(dǎo)體的帶隙能量,使電子從價帶躍遷到導(dǎo)帶。在躍遷過程中,電子吸收光子的能量,并釋放出與躍遷相對應(yīng)的光子,形成光譜。
2、不同波長激光器發(fā)出的光束照射到半導(dǎo)體材料上,當(dāng)激光能量高于一般半導(dǎo)體材料的帶隙能量時,電子會吸收光子能量從價帶躍遷至導(dǎo)帶,從而產(chǎn)生光生電子-空穴對,這些光生載流子可以在半導(dǎo)體內(nèi)部移動,導(dǎo)致半導(dǎo)體材料的能帶結(jié)構(gòu)發(fā)生變化。
3、在激光照射下,半導(dǎo)體材料的能帶結(jié)構(gòu)會發(fā)生變化,例如會導(dǎo)致能級移動或是重新排列,半導(dǎo)體對激光的吸收和發(fā)射光譜也會發(fā)生變化。具體來說,如果某些能級向高能級移動,那么對應(yīng)的光譜線可能會向短波長方向移動(即藍(lán)移);如果某些能級向低能級移動,那么對應(yīng)的光譜線可能向長波長方向移動(即紅移);因此,需要一種半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的方法,實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體材料對光譜調(diào)制作用。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明所要解決的問題是:提供一種半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的方法及光路系統(tǒng),用于半導(dǎo)體材料對光譜調(diào)制。
2、本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:一種半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的光路系統(tǒng),包括:超連續(xù)激光光路、激光器、半導(dǎo)體材料、光譜儀、光電探測器、鎖相放大器、計算機(jī)、掃描振鏡。
3、超連續(xù)激光光路中,通過超連續(xù)激光器發(fā)出超連續(xù)激光光束,依次經(jīng)過第一反射鏡、斬波器和第二反射鏡后,斜入射到半導(dǎo)體材料表面,進(jìn)入光譜儀;所述光譜儀接收來自超連續(xù)激光光路的光信號,并將信號發(fā)送至光電探測器,通過鎖相放大器輸入至計算機(jī),通過計算機(jī)采集半導(dǎo)體材料的光譜信號;
4、激光器發(fā)出調(diào)制激光光束,經(jīng)過掃描振鏡斜入射到半導(dǎo)體材料;所述掃描振鏡連接計算機(jī),計算機(jī)通過調(diào)整掃描振鏡的傾斜角度,改變超連續(xù)激光光束照射到半導(dǎo)體材料上產(chǎn)生的光譜。
5、具體地,斬波器放置于第一反射鏡和第二反射鏡之間,同時連接鎖相放大器,接收超連續(xù)激光光路輸入信號,濾除部分噪聲,并將噪聲分散到不同時間間隔,提取光路中的直流信號作為參考信號;所述鎖相放大器接收經(jīng)過斬波器處理后的信號,利用參考信號進(jìn)行互相關(guān),通過相乘和積分進(jìn)一步抑制噪聲,進(jìn)行信號提取。
6、具體地,鎖相放大器還連接光電探測器,所述光電探測器設(shè)置于光譜儀后,接收光譜儀傳遞的光信號,轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘柡髠鬏斨伶i相放大器,鎖相放大器將收到的信號后濾波去噪后傳輸至計算機(jī)。
7、具體地,超連續(xù)激光光束與調(diào)制激光光束不重疊,超連續(xù)激光光束斜以一定角度入射至半導(dǎo)體材料,光譜儀位于反射路徑,接收半導(dǎo)體材料反射的光,測量光的強(qiáng)度和波長;所述調(diào)制激光光束以不同角度經(jīng)過經(jīng)過掃描振鏡斜入射至半導(dǎo)體材料上。
8、具體地,計算機(jī)通過控制系統(tǒng)調(diào)整掃描振鏡的傾斜角度,改變調(diào)制激光光束入射到半導(dǎo)體材料的角度,進(jìn)而改變超連續(xù)激光光束和調(diào)制激光光束的重合度,所述掃描振鏡的角度調(diào)整范圍為±10°至±30°。
9、具體地,所述超連續(xù)激光光束光譜范圍為400-2300nm;所述激光器為不同光波長激光器,發(fā)出調(diào)制激光光束的波長分別為1064nm、852nm、532nm、405nm,且調(diào)制激光光束能量高于半導(dǎo)體材料的帶隙能量,電子被激發(fā)從價帶躍遷至導(dǎo)帶,產(chǎn)生光生電子-空穴對,在半導(dǎo)體材料內(nèi)部移動,使能帶結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,對光譜產(chǎn)生不同的調(diào)制作用。
10、具體地,半導(dǎo)體材料放置于升降臺上,半導(dǎo)體材料的能帶結(jié)構(gòu)隨溫度的變化而變化,包括:硅、鍺、砷化鎵、氮化鎵、氧化鋅、金剛石、氮化硼、碳化硅,在常溫下的帶隙寬度分別為:1.12ev、0.66ev、1.4ev、3.4ev、3.37ev、5.6ev、6.5ev、2.367ev。
11、具體地,光電探測器類型包括:石墨烯光電探測器、二硫化鉬光電探測器、二硫化鎢光電探測器、黑磷光電探測器、碳化硅光電探測器;
12、具體地,掃描振鏡類型包括:伽利略振鏡、微機(jī)電系統(tǒng)振鏡、聲光振鏡、多邊形振鏡、共振振鏡。
13、本發(fā)明技術(shù)方案還提供了一種半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的方法,包括如下步驟:
14、s1、通過超連續(xù)激光器發(fā)出超連續(xù)激光光束,經(jīng)過反射鏡和斬波器,照射至半導(dǎo)體材料表面,用于給半導(dǎo)體材料中的價帶電子提供能量躍遷至導(dǎo)帶,躍遷過程中,電子吸收光子的能量,并釋放出與躍遷相對應(yīng)的光子,形成光譜;
15、s2、通過激光器發(fā)出調(diào)制激光光束,照射到半導(dǎo)體材料表面,改變半導(dǎo)體材料能帶結(jié)構(gòu),和超連續(xù)激光光束在半導(dǎo)體材料上有形成一定重合區(qū)域;利用計算機(jī)控制系統(tǒng)改變掃描振鏡的傾斜角度,觀察兩束光斑重合度不同時的調(diào)制光譜;
16、s3、改變激光器的類型,分別使用波長為1064nm/852nm/532nm/405nm的激光器,重復(fù)步驟s2;
17、s4、利用光電探測器和斬波器,連接在鎖相放大器上,對接收到的信號進(jìn)行處理,并傳送到計算機(jī);
18、s5、計算機(jī)對比分析波長為1064nm/852nm/532nm/405nm的激光照射至半導(dǎo)體材料上時,對光譜產(chǎn)生的調(diào)制效果;對比分析對于同一激光器由于兩光斑重合度不同時,對光譜產(chǎn)生的調(diào)制效果。
19、本發(fā)明采用以上技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有以下技術(shù)效果:
20、1、本發(fā)明光路系統(tǒng)中激光器發(fā)射的激光使得半導(dǎo)體材料中處于價帶的電子吸收光子的能量躍遷至導(dǎo)帶上,從而改變半導(dǎo)體材料的能帶結(jié)構(gòu),進(jìn)而使得超連續(xù)激光器照射到半導(dǎo)體材料上產(chǎn)生的光譜發(fā)生變化,起到調(diào)制光譜的作用。
21、2、本發(fā)明超連續(xù)激光光路中,在兩反射鏡之間放置一個斬波器,連接至鎖相放大器,截取光路中的電信號作為參考信號,鎖相放大9和斬波器的協(xié)同工作,進(jìn)一步抑制噪聲,并提取出有用的信號,提高調(diào)制光譜的準(zhǔn)確度。
1.一種半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的光路系統(tǒng),其特征在于,包括:超連續(xù)激光光路、激光器(5)、半導(dǎo)體材料(6)、光譜儀(7)、光電探測器(8)、鎖相放大器(9)、計算機(jī)(10)、掃描振鏡(11);
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的光路系統(tǒng),其特征在于,所述斬波器(3)放置于第一反射鏡(2)和第二反射鏡(4)之間,同時連接鎖相放大器(9),接收超連續(xù)激光光路輸入信號,濾除部分噪聲,并將噪聲分散到不同時間間隔,提取光路中的直流信號作為參考信號;所述鎖相放大器(9)接收經(jīng)過斬波器(3)處理后的信號,利用參考信號進(jìn)行互相關(guān),通過相乘和積分進(jìn)一步抑制噪聲,進(jìn)行信號提取。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的光路系統(tǒng),其特征在于,所述鎖相放大器(9)還連接光電探測器(8),所述光電探測器(8)設(shè)置于光譜儀(7)后,接收光譜儀(7)傳遞的光信號,轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘柡髠鬏斨伶i相放大器(9),鎖相放大器(9)將收到的信號后濾波去噪后傳輸至計算機(jī)(10)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的光路系統(tǒng),其特征在于,所述超連續(xù)激光光束與調(diào)制激光光束不重疊,超連續(xù)激光光束斜以一定角度入射至半導(dǎo)體材料(6),光譜儀(7)位于反射路徑,接收半導(dǎo)體材料(6)反射的光,測量光的強(qiáng)度和波長;所述調(diào)制激光光束以不同角度經(jīng)過經(jīng)過掃描振鏡(11)斜入射至半導(dǎo)體材料(6)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的光路系統(tǒng),其特征在于,所述計算機(jī)(10)通過控制系統(tǒng)調(diào)整掃描振鏡(11)的傾斜角度,改變調(diào)制激光光束入射到半導(dǎo)體材料(6)的角度,進(jìn)而改變超連續(xù)激光光束和調(diào)制激光光束的重合度,所述掃描振鏡(11)的角度調(diào)整范圍為±10°至±30°。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的光路系統(tǒng),其特征在于,所述超連續(xù)激光光束光譜范圍為400-2300nm;所述激光器(5)為不同光波長激光器,發(fā)出調(diào)制激光光束的波長分別為1064nm、852nm、532nm、405nm,且調(diào)制激光光束能量高于半導(dǎo)體材料(6)的帶隙能量,電子被激發(fā)從價帶躍遷至導(dǎo)帶,產(chǎn)生光生電子-空穴對,在半導(dǎo)體材料(6)內(nèi)部移動,使能帶結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,對光譜產(chǎn)生不同的調(diào)制作用。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的光路系統(tǒng),其特征在于,所述半導(dǎo)體材料(6)放置于升降臺(12)上,半導(dǎo)體材料(6)的能帶結(jié)構(gòu)隨溫度的變化而變化,包括:硅、鍺、砷化鎵、氮化鎵、氧化鋅、金剛石、氮化硼、碳化硅,在常溫下的帶隙寬度分別為:1.12ev、0.66ev、1.4ev、3.4ev、3.37ev、5.6ev、6.5ev、2.367ev。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的光路系統(tǒng),其特征在于,所述光電探測器(8)類型包括:石墨烯光電探測器、二硫化鉬光電探測器、二硫化鎢光電探測器、黑磷光電探測器、碳化硅光電探測器。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的光路系統(tǒng),其特征在于,所述的掃描振鏡(11)類型包括:伽利略振鏡、微機(jī)電系統(tǒng)振鏡、聲光振鏡、多邊形振鏡、共振振鏡。
10.一種半導(dǎo)體材料調(diào)制光譜的方法,其特征在于,包括如下步驟: