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      電子設(shè)備的制作方法

      文檔序號(hào):40395479發(fā)布日期:2024-12-20 12:18閱讀:9來源:國知局
      電子設(shè)備的制作方法

      本申請(qǐng)涉及電子設(shè)備領(lǐng)域,尤其是指一種電子設(shè)備。


      背景技術(shù):

      1、隨著電子設(shè)備的快速迭代發(fā)展,越來越多的電子設(shè)備設(shè)有攝像模組以實(shí)現(xiàn)圖像拍攝功能,且越來越多的電子設(shè)備設(shè)有補(bǔ)光模塊,在環(huán)境較為昏暗時(shí)(例如夜景拍攝時(shí))開啟,為拍攝過程中補(bǔ)光,以提升成像質(zhì)量。

      2、傳統(tǒng)的補(bǔ)光元件為閃光燈,在拍攝過程中瞬間閃爍照亮拍攝環(huán)境,達(dá)到補(bǔ)光的目的。但在使用時(shí)發(fā)現(xiàn),開啟閃光燈實(shí)際上僅能照亮其前方較小的范圍,且無法保證夜景拍攝時(shí)明暗的平衡,有時(shí)僅能到達(dá)照亮拍攝物體基本容貌的水平,導(dǎo)致拍攝的整體畫面質(zhì)量較差。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本申請(qǐng)?zhí)峁┑碾娮釉O(shè)備,能在拍攝過程中適應(yīng)性提供不同的補(bǔ)光方案,以提升拍攝得到的整體畫面質(zhì)量。

      2、本申請(qǐng)?zhí)峁┑碾娮釉O(shè)備,其中,所述電子設(shè)備包括:

      3、發(fā)光模塊,用于發(fā)出補(bǔ)光光線;

      4、調(diào)光模塊,設(shè)于所述發(fā)光模塊的出光側(cè),所述調(diào)光模塊包括控光單元,沿所述發(fā)光模塊的發(fā)光方向,所述發(fā)光模塊的投影與所述控光單元的投影至少部分重合,所述補(bǔ)光光線穿過所述控光單元;

      5、所述控光單元具有第一電路連接狀態(tài)及第二電路連接狀態(tài),在所述第一電路連接狀態(tài),所述控光單元用于供所述補(bǔ)光光線準(zhǔn)直穿過形成直射光,在所述第二電路連接狀態(tài),所述控光單元用于對(duì)所述補(bǔ)光光線進(jìn)行發(fā)散形成散射光。

      6、如上所述的電子設(shè)備,其中,所述控光單元包括:

      7、殼體,沿所述發(fā)光模塊的發(fā)光方向具有相對(duì)的第一壁與第二壁,所述第一壁與所述第二壁中的至少一個(gè)為電極板;

      8、溶液,填充于所述殼體的內(nèi)部;

      9、帶電染色分子,設(shè)于所述殼體的內(nèi)部并溶解于所述溶液中;

      10、所述電極板用于通電以產(chǎn)生吸引或排斥所述帶電染色分子的電荷。

      11、如上所述的電子設(shè)備,其中,所述帶電染色分子為聚集誘導(dǎo)淬滅染色分子;

      12、所述第一電路連接狀態(tài)為通電狀態(tài),所述帶電染色分子吸附聚集于所述電極板的表面上并至少部分產(chǎn)生熒光聚集誘導(dǎo)淬滅現(xiàn)象,所述補(bǔ)光光線準(zhǔn)直穿過所述調(diào)光模塊形成直射光;

      13、所述第二電路連接狀態(tài)為斷電狀態(tài),所述帶電染色分子溶解于所述溶液中,所述補(bǔ)光光線照射所述帶電染色分子且所述帶電染色分子散發(fā)出熒光形成散射光。

      14、如上所述的電子設(shè)備,其中,在通電狀態(tài)下,通電電壓為第一電壓時(shí),全部所述帶電染色分子吸附聚集在所述電極板的表面上產(chǎn)生熒光聚集誘導(dǎo)淬滅現(xiàn)象不散發(fā)熒光;

      15、所述通電電壓為第二電壓時(shí),一半以上的所述帶電染色分子吸附聚集在所述電極板的表面上產(chǎn)生熒光聚集誘導(dǎo)淬滅現(xiàn)象,所述補(bǔ)光光線照射未聚集在所述電極板的所述帶電染色分子并發(fā)出第一紅色熒光;

      16、所述通電電壓為第三電壓時(shí),一半以下的所述帶電染色分子吸附聚集在所述電極板的表面上產(chǎn)生熒光聚集誘導(dǎo)淬滅現(xiàn)象,所述補(bǔ)光光線照射未聚集在所述電極板的所述帶電染色分子并發(fā)出第二紅色熒光;

      17、在斷電狀態(tài)下,全部所述帶電染色分子溶解在所述溶液中,所述補(bǔ)光光線照射所述帶電染色分子并發(fā)出第三紅色熒光;

      18、所述第一電壓大于所述第二電壓,所述第二電壓大于所述第三電壓;

      19、所述第一紅色熒光的強(qiáng)度值小于所述第二紅色熒光的強(qiáng)度值,所述第二紅色熒光的強(qiáng)度值小于所述第三紅色熒光的強(qiáng)度值。

      20、如上所述的電子設(shè)備,其中,所述帶電染色分子為聚集誘導(dǎo)發(fā)光染色分子;

      21、所述第一電路連接狀態(tài)為斷電狀態(tài),所述帶電染色分子溶解于所述溶液中,所述補(bǔ)光光線準(zhǔn)穿過所述調(diào)光模塊形成直射光;

      22、所述第二電路連接狀態(tài)為通電狀態(tài),所述帶電染色分子吸附聚集于所述電極板的表面上并產(chǎn)生熒光聚集誘導(dǎo)發(fā)光現(xiàn)象,所述補(bǔ)光光線照射所述帶電染色分子且所述帶電染色分子散發(fā)出熒光形成。

      23、如上所述的電子設(shè)備,其中,所述溶液為均化性溶劑,用于促進(jìn)帶電染色分子均勻溶解擴(kuò)散。

      24、如上所述的電子設(shè)備,其中,所述溶液中溶有中和離子,所述中和離子所帶電荷與所述帶電染色分子所帶電荷極性相反;

      25、所述第一壁為第一電極板,所述第二壁為第二電極板,在通電狀態(tài)下,所述第一電極板與所述第二電極板極性相反,所述第一電極板用于吸附所述帶電染色分子,所述第二電極板用于吸附所述中和離子。

      26、如上所述的電子設(shè)備,其中,所述第一壁與所述發(fā)光模塊之間的距離小于所述第二壁與所述發(fā)光模塊之間的距離。

      27、如上所述的電子設(shè)備,其中,所述控光單元還包括第一透明基板及第二透明基板,所述第一透明基板覆蓋連接于所述第一壁,所述第二透明基板覆蓋連接于所述第二壁,所述發(fā)光模塊連接于所述第一透明基板遠(yuǎn)離所述第一壁的一側(cè)。

      28、如上所述的電子設(shè)備,其中,所述發(fā)光模塊包括:

      29、聚光元件,所述聚光元件朝向所述調(diào)光模塊的一側(cè)表面上凹設(shè)有導(dǎo)光槽,所述導(dǎo)光槽的槽口朝向所述調(diào)光模塊,且沿著由所述導(dǎo)光槽的槽底至所述導(dǎo)光槽的槽口的方向,所述導(dǎo)光槽呈漸擴(kuò)狀,所述導(dǎo)光槽的槽壁形成第一反射面;

      30、光源,設(shè)于所述導(dǎo)光槽的槽底;

      31、反光元件,至少一部分插入由所述槽口插入至所述導(dǎo)光槽中,沿著由所述導(dǎo)光槽的槽底至所述導(dǎo)光槽的槽口的方向,所述反光元件呈漸擴(kuò)狀,且所述反光元件朝向所述導(dǎo)光槽的一側(cè)表面形成第二反射面,所述第一反射面與所述第二反射面之間形成反射環(huán)空,所述反光元件與所述導(dǎo)光槽的槽口邊緣之間形成環(huán)形的出光口。

      32、如上所述的電子設(shè)備,其中,所述第一反射面與所述第二反射面為光滑的弧面;

      33、和/或,所述第一反射面與所述第二反射面上設(shè)有波紋狀或鋸齒狀的反射紋路。

      34、如上所述的電子設(shè)備,其中,所述聚光元件與所述調(diào)光模塊之間以及所述反光元件與所述調(diào)光模塊之間為粘接固定。

      35、本申請(qǐng)?zhí)峁┑碾娮釉O(shè)備,包括相對(duì)設(shè)置的發(fā)光模塊與調(diào)光模塊,發(fā)光模塊發(fā)出的補(bǔ)光光線能夠穿過調(diào)光模塊射出;通過在調(diào)光模塊中設(shè)置控光單元,并使控光單元具有第一電路連接狀態(tài)與第二電路連接狀態(tài),在第一電路連接狀態(tài)下,調(diào)光模塊與發(fā)光模塊配合發(fā)出直射光,提供較為聚集且亮度較高的光線用于補(bǔ)光,在第二電路連接狀態(tài)下,調(diào)光模塊與發(fā)光模塊配合發(fā)出散射光,提供較為均勻且亮度較為柔和的光線用于補(bǔ)光,以適應(yīng)不同拍攝環(huán)境中的補(bǔ)光需求,提供不同的補(bǔ)光方案,以提升拍攝得到的整體畫面質(zhì)量。



      技術(shù)特征:

      1.一種電子設(shè)備,其特征在于,所述電子設(shè)備包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述控光單元包括:

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述帶電染色分子為聚集誘導(dǎo)淬滅染色分子;

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子設(shè)備,其特征在于,在通電狀態(tài)下,通電電壓為第一電壓時(shí),全部所述帶電染色分子吸附聚集在所述電極板的表面上產(chǎn)生熒光聚集誘導(dǎo)淬滅現(xiàn)象不散發(fā)熒光;

      5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述帶電染色分子為聚集誘導(dǎo)發(fā)光染色分子;

      6.根據(jù)權(quán)利要求2至5任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述溶液為均化性溶劑,用于促進(jìn)帶電染色分子均勻溶解擴(kuò)散。

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述溶液中溶有中和離子,所述中和離子所帶電荷與所述帶電染色分子所帶電荷極性相反;

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述第一壁與所述發(fā)光模塊之間的距離小于所述第二壁與所述發(fā)光模塊之間的距離。

      9.根據(jù)權(quán)利要求2至5任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述控光單元還包括第一透明基板及第二透明基板,所述第一透明基板覆蓋連接于所述第一壁,所述第二透明基板覆蓋連接于所述第二壁,所述發(fā)光模塊連接于所述第一透明基板遠(yuǎn)離所述第一壁的一側(cè)。

      10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述發(fā)光模塊包括:

      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述第一反射面與所述第二反射面為光滑的弧面;

      12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述聚光元件與所述調(diào)光模塊之間以及所述反光元件與所述調(diào)光模塊之間為粘接固定。


      技術(shù)總結(jié)
      本申請(qǐng)公開了一種電子設(shè)備。電子設(shè)備包括發(fā)光模塊,用于發(fā)出補(bǔ)光光線;調(diào)光模塊,設(shè)于所述發(fā)光模塊的出光側(cè),所述調(diào)光模塊包括控光單元,沿所述發(fā)光模塊的發(fā)光方向,所述發(fā)光模塊的投影與所述控光單元的投影至少部分重合,所述補(bǔ)光光線穿過所述控光單元;所述控光單元具有第一電路連接狀態(tài)及第二電路連接狀態(tài),在所述第一電路連接狀態(tài),所述控光單元用于供所述補(bǔ)光光線準(zhǔn)直穿過形成直射光,在所述第二電路連接狀態(tài),所述控光單元用于對(duì)所述補(bǔ)光光線進(jìn)行發(fā)散形成散射光。本申請(qǐng)?zhí)峁┑碾娮釉O(shè)備,能在拍攝過程中適應(yīng)性提供不同的補(bǔ)光方案,以提升拍攝得到的整體畫面質(zhì)量。

      技術(shù)研發(fā)人員:謝華飛
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:維沃移動(dòng)通信有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/19
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